用于清洁医疗器械并检测其上的残留物的方法和装备
技术领域
本发明总体上涉及用于清洁医疗器械的器材和方法。特别地，本发明涉及除了清洁还允许对污染痕迹的存在进行检测并对所述医疗器械上的污染痕迹进行分析的器材和方法。
背景技术
医疗程序和外科手术程序通常需要使用多部件器械，这些多部件器械通常包括突出的特征件和/或狭窄的腔或通道。另外，所述医疗器械可以由不同材料制成，包括金属、玻璃、陶瓷和/或塑料。示例性多部件用具包括一般的外科手术器械、显微外科手术器械和牙科器械及内窥镜。
内窥镜检查是涉及对中空体腔或器官的内部进行探察的医疗程序。无论是柔性的(例如，胃镜、十二指肠镜、结肠镜、乙状结肠镜、肠镜、鼻咽镜、支气管镜)还是刚性的(一些支气管镜、腹腔镜)，内窥镜都用于诊断和处理人类疾病并且容易被体液和分泌物污染。
柔性内窥镜是在管状护套内包含光纤和狭窄通道的复杂设备。尽管管状内窥镜的外表面在清洁、消毒以及最终灭菌方面没有构成问题，但是待插入体内的小器械以及下述其他通道形状的设备和管形状的设备对灭菌提出了挑战，所述其他通道形状的设备和管形状的设备用于引入用于组织采样或用于外科手术操作的工具，以使出血凝结或用于其他目的，诸如抽吸和注入流体。特别地，柔性内窥镜由不耐高温灭菌的材料制成，并且由于器械相对于其狭窄(小直径)通道的长度而存在灭菌不充分的风险。
目前，内窥镜以及需要插入人体内部的其他医疗器械通常使用人工和液体物质进行清洁，目的是通过利用所述物质流过内窥镜来对器械进行消毒。在下述事实的情况下，情况加剧，所述事实即由于内窥镜内部的通道较长，因此对监测灭菌过程的结果提出了挑战；因此，就有害微生物从一个患者转移到另一个患者而言，大多数经清洁的内窥镜仍包含对患者构成威胁的微生物。细菌对灭菌的抵抗可以通过在内窥镜通道内部形成抵抗灭菌工作的生物膜来解释。
某些灭菌方法利用气体——可选地在真空中——对医疗品进行灭菌。气态灭菌剂包括环氧乙烷、甲醛和过氧化氢，如例如在US2017/0252471A1(Patel)中所讨论的。然而，所有提到的化合物都是有毒的，可能会留下残留物和/或此后需要大量的清洗。
实际上，所有以上提到的医疗器械或外科手术器械，包括但不限于内窥镜，都代表着卫生保健机构所进行的一大笔投资；因此，妥善处理和清洁这些器械对于减少支出很重要。
在这方面，仍然期望在监测下述清洁活动的清洁效率的领域中的更新，所述清洁活动与为了多次使用而对医疗设备进行灭菌相关联。特别地，应解决与复杂多部件医疗设备诸如内窥镜的清洁相关联的挑战。
发明内容
本发明的目的是解决或至少减轻由相关技术的局限和缺点引起的每个问题。该目的通过用于清洁医疗器械并用于检测其上的残留物诸如有机残留物的方法和相关装备的各种实施方式来实现。
在一方面，根据独立权利要求1所限定的内容，提供了一种用于清洁医疗器械并用于检测其上的残留物的方法。
在实施方式中，该方法包括：(a)获得未经灭菌的或被常规灭菌的医疗器械；(b)将所述器械装载到沉积和/或分析装备中；(c)使所述器械暴露于低于100hPa的压力；以及(d)使所述器械暴露于对残留物有反应性的至少一种气体。
在实施方式中，该方法还包括对在(a)获得的医疗器械的至少一部分预先施加化学沉积的涂层。在实施方式中，通过原子层沉积(ALD)将涂层预先施加到所述器械的至少一部分上。
在实施方式中，在(c)处使器械暴露于低于10hPa、优选地低于1hPa、最优选地低于0.1hPa的压力。
在实施方式中，在(d)处使器械暴露于对残留物有反应性的至少一种气体，其中，所述至少一种气体包含对残留物有反应性的至少一种化学物质。
在实施方式中，医疗器械是多部件医疗器械，诸如内窥镜。
在实施方式中，该方法包括至少在(c)和/或(d)期间，通过至少一个传感器设备来检测和/或量化残留物。在实施方式中，将所述至少一个传感器设备配置成对从沉积和/或分析装备排出的气体流的至少一部分中的残留物进行检测和/或量化。
在实施方式中，该方法包括：如果在(c)和(d)中的任何一个处检测和/或量化的残留物的浓度超过预定阈值，则使医疗器械重回至通过常规方法进行清洁和/或灭菌的程序。
在实施方式中，该方法包括如果在(d)处检测和/或量化的残留物的浓度属于预定水平，则使医疗器械经受废弃处置(disposal，处置、丢掉)。
在一个方面，根据独立权利要求11所限定的内容，提供了一种用于清洁医疗器械并用于检测其上的残留物的沉积和/或分析装备。
在实施方式中，该装备包括被配置成接收一个或多个医疗器械的至少一个反应室，在该反应室中，使所述医疗器械暴露于低于100hPa的压力，并且随后暴露于对待检测的残留物有反应性的至少一种气体。
在实施方式中，该装备被配置成化学沉积反应器。在实施方式中，该装备被配置成原子层沉积反应器。在实施方式中，该装备包括至少一个传感器设备，以检测和/或分析残留物。
在另一方面，根据独立权利要求14所限定的内容，提供了根据一些先前方面的沉积和/或分析装备用于清洁一个或多个医疗器械并用于检测其上的残留物的用途。在实施方式中，医疗器械是多部件医疗器械，诸如内窥镜。
在不限制专利权利要求的范围和解释的情况下，以下列出了本文公开的一个或多个示例实施方式的某些技术效果。
由此公开的方法和装备允许有效地清洁医疗器械(例如多部件医疗器械和/或具有内部腔/通道的长管状医疗器械，诸如内窥镜)，这些医疗器械的清洁以不同方式对清洁提出了挑战。以气相供应的化学物质比任何液体都能较好地填充较小的腔(例如，与常规清洗相比)。因此，由此公开的方法允许破坏存在于所述医疗器械的表面上的所有种类的微生物，例如细菌——无论是在单个菌落中还是作为抵抗生物膜存在——以及病毒和朊病毒。
本发明提供了显著的益处，即，除了进行有效的清洁过程之外，还分析了医疗器械是否存在任何有机污染物、分解产物和/或其他残留物的痕迹。该方法可以用于确认物品是否是清洁的。换句话说，本发明允许将曾经使用过的医疗器械清洗至通常仅在制造工厂处当(新的)器械被包装到灭菌包装中时才能达到的水平。通过常规清洁和/或灭菌(例如高压灭菌器灭菌)方法不能达到/控制这样的纯度水平。
利用化学沉积技术诸如ALD使得能够以超过1000：1的极高纵横比对腔和(纳米)气孔进行涂覆。此外，例如，可以通过利用适当的流动布置使气体传播通过所述管道来获得管道状器械的改进性能。ALD沉积膜的另一益处在于，它创建了光滑保形表面，该光滑保形表面增强了沿其的流体流动。在一些情况下，可以施加排斥流体的涂层材料。以类似方式，可以将ALD沉积的膜配置成减少流体粘附，这将在器械的任何另外使用中促进常规清洁。
可能发生以下情况：在一些常规处理中，例如经过臭氧处理后，医疗器械的某些部件例如塑料部件被误认为是不期望的残留物。包括至少一种金属化合物并且被(预)施加到医疗器械的保形涂层应防止那些(塑料)部件暴露于常规清洁和/或分析的苛刻状况或至少降低这种暴露。
考虑到将医疗器械分类为需要/不需要额外清洁的医疗器械和必须经受废弃处置(不能再被有效清洁)的医疗器械，本发明还提供了多功能性。
能够在可靠性高的情况下如上地执行分类，本发明允许更有效地重复使用医疗器械；因此，可以降低与购买新医疗器械相关联的成本。
在本公开内容中，将具有低于1微米(μm)的层厚度的材料称为“薄膜”。
表述“若干”在本文中指的是从一(1)开始的任何正整数，例如，指的是一、二或三；而表述“多个”在本文中指的是从二(2)开始的任何正整数，例如，指的是二、三或四。
术语“第一”和“第二”并非旨在表示任何次序、量或重要性，而是用于仅区分一个元素与另一元素。
附图说明
现在将参考所附附图仅通过示例描述本发明，其中：
图1是根据实施方式的方法的流程图。
具体实施方式
根据一个方面，本发明涉及提供一种用于清洁医疗器械并用于检测其上的残留物的方法(图1)。就术语“残留物”而言，我们指的是在医疗/外科手术器械的正常使用期间，积累或寄宿在该医疗/外科手术器械上/中的主要是有机性质的任何基本上为固体的剩余物或碎片，例如细胞团块、蜂窝网络碎片、环境污染物等。由于待清洁的器械的性质，所以待检测的残留物大部分是有机的；然而，可以对该方法进行调整，使得检测基本上是无机的物质和/或有机残留物与无机残留物的组合。
该方法从获得物品诸如医疗器械开始。在本公开内容中，由此获得的医疗器械是被存储(例如，在存储室中)并且被可选地使用102的未经灭菌的医疗器械或通过常规方法灭菌103的医疗器械。就常规使用而言，我们指的是在患者检查和/或治疗性处理或外科手术处理期间使用可选地通过常规方法(清洗、高压灭菌等)进行清洁和/或灭菌的医疗器械。
医疗器械可以是在对人类患者或非人类动物施行的医疗检查、牙科操作/干预和/或外科手术操作/干预中使用的任何可重复使用(多次使用)的器械。
在一些情况下，所述医疗设备被提供为具有内部通道、腔、以及/或者内部特征件与外部特征件中的任何一种诸如突出部件或凹部例如凹槽的细长体。
可以将医疗器械配置成柔性或刚性内窥镜设备或组件，其包括与所述内窥镜组件一起提供并且需要进行清洁的任何辅助器具。内窥镜设备和相关组件包括但不限于：胃镜、十二指肠镜、结肠镜、乙状结肠镜、肠镜、腹腔镜、胸腔镜、鼻咽镜、支气管镜、喉镜、阴道镜、膀胱镜、输尿管镜、以及关节镜。
在一些配置中，插入件或类似布置可以被至少放置在内窥镜的一个端部处。在这种情况下，可以在内窥镜的通道上生成空气或其他气体诸如例如惰性气体的压差。
因此，在102，该物品如上所指示地被存储和/或使用(例如，在常见医疗实践中)。在103，通过常规方法对物品进行清洁/灭菌。例如，如果该物品从被密封/被灭菌的包装获得而没有被使用，在某种意义上说，没有用于医疗实践，则可以省略步骤103。
可以在101对医疗器械的至少一部分预先施加用通过气(蒸气)相的化学沉积方法诸如原子层沉积(ALD)或替代性地化学气相沉积(CVD)沉积的涂层。在一些情况下，涂层包括至少一种金属化合物。
ALD生长机制的基础是技术人员已知的。ALD是基于将至少两个反应性前体物种顺序地引入到至少一个基板的特殊化学沉积方法。然而，将理解，当使用例如光子增强ALD或等离子体辅助ALD例如PEALD时，这些反应性前体之一可以被能量取代，从而引起单个前体ALD工艺。例如，纯元素诸如金属的沉积需要仅一个前体。当前体化学物包含待沉积的二元材料的两种元素时，可以用一个前体化学物创建二元化合物，诸如氧化物。通过ALD生长的薄膜是致密的、无针孔并且具有均匀的厚度。在一些情况下，可以利用化学气相沉积(CVD)。
典型地将至少一个基板在反应容器中暴露于临时分离的前体脉冲，以通过顺序自饱和的表面反应将材料沉积在基板表面上。在本申请的上下文中，术语ALD包括所有适用的基于ALD的技术以及任何等同物或紧密相关的技术，诸如，例如以下ALD子类型：MLD(分子层沉积)、等离子体辅助ALD，例如PEALD(等离子增强原子层沉积)和光子增强原子层沉积(也称为光ALD或闪光增强ALD)。该工艺也可以是蚀刻工艺，其一个示例是ALE工艺。应注意，在PEALD和光子增强ALD情况下，可以将加成处理限制在对辐射源可见的表面上。
ALD基于交替的自饱和表面反应，其中，将被提供为非反应性(惰性)气态载体的化学化合物或元素的不同反应物(前体)顺序地脉冲到容纳基板的反应空间中。沉积反应物之后，用惰性气体吹扫基板。常规ALD沉积循环以两个半反应(脉冲A–吹扫A；脉冲B–吹扫B)进行，从而以自限制(自饱和)方式形成典型地为0.05nm至0.2nm厚的材料层。用于每个前体的典型基板暴露时间的范围在0.01秒至1秒内。
脉冲A包括气相的第一前体(第一前体蒸气)，并且脉冲B包括气相的第二前体(第二前体蒸气)。非活性气体和真空泵典型地用于在吹扫A和吹扫B期间从反应空间吹扫气态反应副产物和残留的反应物分子。沉积序列包括至少一个沉积循环。重复沉积循环，直到沉积序列已产生具有所期望厚度的薄膜或涂层。沉积循环也可以较简单或较复杂。例如，循环可以包括通过吹扫步骤分开的三个或更多个反应物蒸气脉冲，或者某些吹扫步骤可以被省略。另一方面，光增强ALD具有多种选择，诸如仅一个活性前体，具有用于吹扫的多种选择。所有这些沉积循环形成定时的沉积序列，该序列由逻辑单元或微处理器进行控制。
因此，优选的是，通过ALD将涂层施加到医疗器械的至少一部分。
单独使用或与其他化学沉积工艺组合使用的ALD工艺可以用于使被涂覆的表面是(超)疏水性的或(超)憎一切的(omniphobic)。后者指的是表面排斥几乎任何流体的能力。超疏水表面一般被定义为水滴的接触角大于150度的表面。
尽管ALD薄膜涂层在机械上可能不是很耐用，但是ALD工艺使得基板表面的固有亲水性或疏水性能够再生。换句话说，在一些特定基板表面已经被使用并在这样的使用期间被污染之前，ALD工艺恢复了所述表面固有的特性。此外，如果基板最初包含若干特征件，例如纳米结构或类似物，凭借这些特征件使基板具有某些特性(疏水、亲水等)，则这些特征件在使用期间容易被残留物诸如细胞团块碎片堵塞或覆盖。由此公开的方法提供了对基板及其特征件进行有效清洁以恢复这些特性。
再次参考图1，可以将在101处预先施加到医疗器械的至少一部分上的至少一个涂覆层配置成使得用以防止由于施加到器械自身的大多数清洁过程(例如清洗剂、臭氧清洁等)产生的物质残留。附加地或替代性地，涂覆层可以阻碍或防止残留物在所述物品的使用期间(例如在医疗/外科手术应用中)粘附到该物品上。
例如，涂层可以由生物相容性金属氧化物制成。例如，生物相容性金属氧化物包括但不限于：氧化镁(MgO)、氧化锌(ZnO)、(二)氧化钛(TiO2)和(二)氧化锆(ZrO2)。可以利用任何其他合适的化合物。
足够薄的金属氧化物层，诸如大约1nm至10nm的层，不会阻碍表面的柔韧性，并且例如可以在弯曲的塑料部件上使用。取决于涂层材料和弯曲半径，厚度在大约0.1nm至大约50nm范围内的涂覆层被认为是足够柔性的。
涂层101的最上层(最后沉积的)可以由有机材料制成，该有机材料可以促进清洁程序并且例如可以最终与臭氧(O3)反应。所提到的有机材料与臭氧或另一具有相似动作模式的化合物的反应引起有机物质毁坏，接着是将其从反应空间去除/撤出。
该方法继续将可选地被预涂覆的医疗器械装载到具有反应室的沉积和/或分析装备中，在该反应室中器械被暴露于预定的反应环境。在所述装备/反应室中，将器械暴露于预定压力104并暴露于对待检测的残留物有反应性的至少一种气态化合物(前体)105。可以顺序地或同时地执行步骤104和105。
将该装备优选地配置成利用基于蒸气沉积技术的原理。就总体实现而言，反应器100可以基于可从芬兰的PicosunOy获得的商标名为Picosun R-200Advanced ALD系统的ALD设施。不过，以本发明的概念为基础的特征可以结合到被实施为例如ALD、MLD(分子层沉积)或CVD设备的任何其他化学沉积反应器中。
所提到的装备包括反应室，该反应室具有由其内部建立的反应空间(沉积空间)。该反应器还包括若干器具，这些器具被配置成将流体流(包含前体化合物P1、P2的惰性流体和反应性流体)介导到反应室中。所提到的器具被提供为若干进气管线/供给管线以及相关联的切换和/或调节设备，诸如，例如阀。
前体P1、P2以基本上气态的形式被递送到反应空间中。通过至少一个供给管线进入反应室的反应性流体优选地是包括由惰性载体(气体)承载的预定前体化学物的气态物质。前体化学物到反应空间中的递送以及基板上的膜生长通过上述调节器具诸如例如三通ALD阀、质量流量控制器或适合此目的的任何其他设备进行调节。
该装备还包括用于将排放流从反应室排放出来的排出管线。排出管线构成了用于排出泵的前级管线，并且在一些配置中，其可以包括关闭阀，关闭阀优选地在泵单元的上游。这样的泵前级管线组件还可以包括能够实现与所利用的化学物的反应的装置，和/或用于对来自该装备的所述化学物进行中和/或去除的装置。所提到的装置包括但不限于一般已知的ALD工具和器具，诸如以下中的任何一种：加力燃烧器设备(提供对反应性气体的混合)、捕捉器(提供对化学物的吸附并防止外流的物质颗粒流到泵中)、洗涤器或上述的组合。优选的是，以不间断的方式实现流体物质从反应室的撤出，由此优选地配置成真空泵的泵在整个沉积过程期间连续地从反应室去除流体物质。
在104将装载到装备的反应室中的器械暴露于基本上等于或低于大约100百帕斯卡(hPa)的压力。在一些情况下，将器械暴露于基本上等于或低于大约10hPa、优选地基本上等于或低于大约1hPa、最优选地基本上等于或低于大约0.1hPa的压力。优选的是，在装备/反应室中创建真空条件。
在一些情况下，步骤104可以包括将反应室内的温度调整至预定水平，在该预定水平，残留在医疗器械上的残留物中存在的液体，诸如主要是有机性质的污染物痕迹、分解痕迹或降解痕迹，开始蒸气化/蒸发。在一些情况下，可以将反应室加热到例如100摄氏度(℃)或以上。在存在产生所期望的(清洁)效果所需的反应性化学物时，指示的温度可以低于100℃，诸如，在大约20℃至大约100℃的范围内。
在步骤104，通过使医疗器械经受可选地与升高的温度组合的真空条件，使器械清除掉杂质/残留物。
在105，将器械暴露于至少一种气体，该至少一种气体包括对残留物有反应性的前体化合物或由该前体化合物组成。因此，整个器械物品都暴露于含有具有基本上清洁特性的至少一种化学物质的反应性气体流，包括但不限于氧气(O2)、臭氧(O3)、三甲基铝(TMA)、四氯化钛(TiCl4)、甲酸(CH2O2)和氨(NH3)。
应注意，ALD使用了许多在周围环境(例如大气空气)中不稳定的化学物。当暴露于例如空气时，所述化学物诸如TMA分解以形成无害化合物。
许多常见的ALD反应利用四氯化钛(TiCl4)，诸如用于从TiCl4和水沉积二氧化钛(TiO2)。在这方面，应注意，虽然TiCl4一般是有毒气体(适合于灭菌)，但是在ALD中仅使用可忽略的量的TiCl4，并且，另外，任何残留的TiCl4都可以用以气相提供的适当化合物诸如，例如氨气(NH3)进一步中和。
如果用作常见的化合物，则在阶段101、104和105的任何一个阶段，TiCl4都可能会与表面羟基(OH-)发生副反应，这将引起形成盐酸(HCl)。如上面关于TiCl4所述，盐酸也可以例如用NH3中和，以产生无害的盐，诸如本实施例中的氯化铵(NH4Cl)。
在PEALD反应器条件下，典型地形成气态元素诸如氢的高反应性离子和自由基。这些高反应性物种与表面发生反应，并有效地清除它们。
在一些情况下，医疗器械暴露于这样的前体，所述前体引起残留在医疗器械的暴露表面上或粘附到该暴露表面的有机物质例如臭氧(O3)降解。受污染的医疗器械暴露于臭氧脉冲引起形成可以通过相关传感器设备检测的CO2(参见下文)。当能够破坏/分解有机物质的(前体)化合物与医疗器械上的残留物发生反应时，所述有机物质发生脱气并伴随着可以检测到的CO2的释放，如上所提到。
可以允许气体流穿透医疗器械上/内存在的不规则物，诸如气孔、孔、通道、腔等。替代性地，可以以单独的动作(例如通过建立目标气态流动流)使气体流通过或被迫通过这些不规则物。
优选的是，所述至少一种气体包含对残留物有反应性的化学物质。
在实施方式中，至少在阶段104和105期间，通过至少一个检测器/传感器设备110检测和/或量化残留物。可以将传感器设备110配置成残留气体分析仪(RGA)设备，诸如质谱仪。将设备110配置成对从具有外出气体流的反应空间(放置医疗器械的地方)排放的物质进行测量和/或量化。
将每个传感器设备110配置成对从沉积和/或分析装备(即，从反应室)排出的气体流的至少一部分中的残留物进行检测和/或量化。
可以将传感器配置成简单地测量被蒸气化的物质(源自残留物质脱气的蒸气)的量。附加地或替代性地，可以将传感器配置成对排放气态流中的前体化学物和/或化学反应产物的量进行检测和量化。根据结果，该过程可以根据若干示例性策略继续进行。可以采用以下方法：
(i)如果假定该物品(医疗器械)是清洁的(在医疗实践/操作中未使用过)，并且在用引起有机物质分解的化学化合物诸如例如臭氧(O3)对物品脱气(在步骤105)期间和/或之后通过适当的传感器110没有检测到有机物质，诸如二氧化碳(CO2)，则可以省略所述物品的另外的处理，诸如(预)涂覆101。然后该物品准备好使用。
(ii)如果在如(i)所述的脱气期间和/或之后已经检测到和/或测量到显著的有机污染物(在预定阈值以上)，则可以延长处理105的时间段，或者
(iii)如果在如(i)所述的脱气期间和/或之后已经检测到和/或测量到显著的有机污染物(在预定阈值以上)，则可以将物品返回到清洗103以去除尽可能多的污染物。因此，在步骤104和/或105检测和/或量化的残留物浓度超过预定阈值的状况下，使医疗器械重回至通过常规方法进行清洁和/或灭菌的程序。取决于待清洁的器械、待分析的预期污染物、利用的气态相和前体化合物等，对于每个批次和/或一系列批次(即反应器装载)各个地设置阈值。
可以设置不同的阈值以将场景(ii)与(iii)彼此区分。替代性地，可以采用基本上相同的阈值(ii、iii)。
(iv)如果在反应室中进行的ALD(预)涂覆101期间和/或在反应室中进行的阶段104、105中的任何一个阶段期间，测量的残留气体浓度没有降至可接受的水平，则可以确定该物品不能再使用，并且必须经受废弃处置。因此，如果物品已经被重回(例如一次)至常规清洗，甚至在其之后，则在阶段101、104和105中的任何一个阶段检测和/或量化的残留物浓度仍属于预定水平(超过在(ii)和(iii)指出的阈值)的状况下，使所述物品/医疗器械经受废弃处置。
从阶段104和105中的任何一个阶段，该物品可以返回到清洗103、存储和使用102以及用于涂覆或重新涂覆101(参见图1中的向上箭头)，直到在105可以确定必须使所述物品经受废弃处置。如果需要将涂层重新施加到所述物品上，则可以使该物品重回至101。
优选的是，残留物的检测和/或量化也在物品的初始涂覆(阶段101)期间进行。
在一些情况下，可以省略常规清洁程序103。
在一方面，根据上文所述的内容，提供了用于清洁医疗器械并用于检测其上的残留物的沉积和/或分析装备。该装备包括配置成接收一个或多个医疗器械的至少一个反应室，在该反应室中，将所述医疗器械暴露于低于100hPa的压力，并随后暴露于对残留物有反应性的至少一种气体。
将沉积和/或分析装备优选地配置成化学沉积反应器，诸如原子层沉积反应器。该装备优选地配备有至少一个传感器设备110，该传感器设备安置在反应室中和/或在所述反应室的下游，例如在真空泵的前级管线中，与反应室连接或安置在泵之后。
在另外的方面，提供了根据一些先前方面的沉积和/或分析装备用于清洁医疗器械并用于检测其上的残留物的用途。在实施方式中，提供了用于清洁和用于检测多部件医疗器械诸如内窥镜上的残留物的所述用途。
以上对根据本发明的方法和装备的描述是同等兼容的，并且完全适用于灭菌和/或对航天器和地外漫游车中使用的物品以及相关样品容器所需的灭菌水平进行确认。
本领域技术人员应当知晓，本公开内容中阐述的实施方式可以根据需要进行修改和组合。因此，本公开内容旨在涵盖在所附权利要求书的范围内本领域的普通技术人员可以识别的设备和沉积方法的任何可能的修改。
