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具有机械卡入式配件的双重运动清洁

2021-04-07 03:09:49

具有机械卡入式配件的双重运动清洁

  技术领域

  本发明涉及用于诸如面部清洁的面部护理的设备。本发明还涉及包括设备和至少面部护理元件和/或驱动设备的装置的部件套件。

  背景技术

  对于作为装扮程序的一部分的面部清洁,可以使用机械动力刷。

  用于面部清洁的专用面部护理设备可以具有带有附加轴向震动(“双重运动”)的旋转刷。同时移动的这种结合可以提供令人愉悦的清洁和油脂控制。

  作为这种专用面部护理设备的备选,也可以使用作为剃刮刀的附属功能的面部清洁刷。这种配件可以通过机械接口与剃刮刀相关联。配件不需要电功率来起作用。而且,仅通过使用由旋转的机械轴提供的剃刮刀的机械动力,面部清洁刷就起作用。然而,这种机械接口只能传送旋转,而不能提供任何轴向运动。因此,刷子仅旋转而不轴向震动。然而,似乎除了旋转之外,还可以将轴向震动添加到刷子的功能,诸如在面部清洁中。

  因此,在一方面,可能的解决方案可以包括专用的面部护理设备,其可以具体地基于双重运动来提供对皮肤的良好清洁和油脂控制。在另一方面,其他可能的解决方案可以基于能够连接到几乎每个家庭中已经存在的机械设备(诸如,剃刮刀)的简单配件。然而,由于配件没有轴向震动,因此它们似乎没有专用护理设备有效。

  皮肤护理设备是本领域已知的。例如,WO2014009177描述了一种用于护理皮肤的设备,设备包括壳体、位于壳体中的具有纵向轴线的轴以及用于接收皮肤护理部件的端部。设备还包括驱动部件,驱动部件被配置成使轴绕其纵向轴线旋转,并且在沿着纵向轴线的方向上振动,其中驱动部件包括用于使轴旋转的旋转驱动单元以及用于使轴振动的振动生成器。振动生成器围绕该轴定位,使得轴相对于振动生成器可旋转。此外,振动生成器包括螺线管和磁通组件,并且该磁通组件可沿着该轴相对于螺线管移动。

  发明内容

  因此,本发明的一个方面是提供一种备选设备,其可以用于连接到皮肤护理元件,或者(备选地)备选设备可以包括这种皮肤护理元件,该备选设备优选地进一步至少部分地消除了上述缺点中的一个或多个。本发明的另一方面是提供一种包括设备和护理元件或设备和剃刮刀的部件套件,其优选地进一步至少部分地消除了上述缺点中的一个或多个。本发明可以以克服或改善现有技术的缺点中的至少一个缺点为目的,或者提供一种有用的备选。

  因此,本发明在第一方面中提供了一种设备,设备可连接到具有旋转驱动元件的装置(诸如剃刮刀)。设备包括:连接器元件,用于功能性地联接到装置;接纳元件,用于功能性地联接到旋转驱动元件,其中接纳元件具有旋转轴线;底座,适合于连接到皮肤护理元件(诸如,刷子);旋转联接机构(“联接机构”),用于使底座与接纳元件旋转地联接,以及振动生成器(“振动器”),被配置成:基于特别是振动生成器包括的第一永磁体(“第一磁体”)和第二永磁体(“第二磁体”)的集合的周期性(相互)排斥或吸引,在底座的旋转(特别地,以底座旋转频率)期间,平行于旋转轴线地将振动移动引入底座,(该周期性(相互)排斥或吸引)由接纳元件的旋转(由于旋转驱动元件的旋转,基底与旋转驱动元件功能性地联接)引起。特别地,连接器元件被配置成可拆卸地附接到装置。在实施例中,设备可以是皮肤护理设备的一部分。设备可以特别地包括皮肤护理设备。

  这种设备可以用作能够功能性地联接到诸如皮肤护理装置(如剃刮刀)的现有装置的元件。以优雅的方式,这种装置的旋转驱动元件的旋转被设备用来提供旋转和振动的底座。底座可以(可拆卸地)与皮肤护理元件连接。因此,对于本发明,不需要使用专用的皮肤护理装置,而是可以使用可以具有另一个功能的现有的皮肤护理装置,以用于(可拆卸)附接设备并且利用(可拆卸)附接到设备的底座的皮肤护理元件护理皮肤。设备可以包括皮肤护理元件(见下文)。然而,设备不要求包括皮肤护理元件(连接到设备)。然而,当用于护理皮肤时,设备特别地包括皮肤护理元件。特别地,设备连接到皮肤护理元件。当用于护理皮肤时,设备进一步特别地(可拆卸地)联接到具有旋转驱动元件的装置(参见下文)。因此,特别地,设备被配置成用于反复地与具有旋转驱动元件的装置连接和从装置断开连接。

  在本文中,诸如在“第一永磁体”和“第二永磁体”中的术语“第一”和“第二”可以用于区分可比较或可互换的两个元件。在实施例中,术语“第一永磁体”和“第二永磁体”可以互换使用。

  在本文中,短语“磁体集”特别地涉及第一磁体和第二磁体的集合或组合。此外,术语“磁体”特别地涉及“永磁体”。此外,术语“磁体”还可以指多个磁体(特别是相同类型的磁体)。例如,术语“第一永磁体”和类似术语可以指多个第一永磁体;同样地,这可以独立地应用于术语“第二永磁体”。

  布置第一永磁体和第二永磁体,使得当接纳元件旋转时,磁体相对于彼此移动。这可能意味着第一磁体或第二磁体旋转,或者两个磁体旋转。

  第一永磁体可以例如被布置在接纳元件处(或在接纳元件中)。特别地,第二永磁体可以被布置在底座处或底座中。取决于磁体的相互布置,磁体可以彼此排斥或吸引,特别是当彼此靠近定位时。因此,在磁体相对于彼此移动期间,当磁体彼此靠近时,磁力(排斥或吸引)会增大,并且当磁体彼此远离时,磁力可以再次减小。

  特别地,设备被配置成提供由磁体的相对移动引起的周期性的相互排斥或吸引。磁体相对于彼此的移动以及所产生的振动移动特别地由接纳元件的旋转引起(特别地,导致)。接纳元件的旋转可以使得底座旋转,并且特别地可以使得磁体相对于彼此移动,从而提供振动移动。第一永磁体和第二永磁体的周期性的(相互)排斥或吸引可以通过接纳元件的旋转来提供。术语“振动移动”特别地涉及“震动运动”或“震动移动”或“震动”。在本文中,术语“轴向运动”和“轴向移动”也可以涉及术语“振动移动”。

  第一永磁体和第二永磁体中的一个可以被配置在设备的可旋转元件处(即,相对于设备的其余部分可旋转)。其他永磁体可以被配置在设备的固定元件处,或者被配置在设备的另外的可旋转元件处。设备的术语“可旋转元件”可以特别地涉及底座或接纳元件。术语“固定元件”可以涉及设备的壳体(见下文)。

  特别地,第一永磁体和第二永磁体中的一个被底座包括,特别地被布置在底座处或底座中。在一个实施例中,接纳元件包括第一永磁体,并且特别地,底座包括第二永磁体。

  因此,底座可以包括第二永磁体(相应地,第一永磁体),并且特别地,第一永磁体(相应地,第二永磁体)可以被布置为相对于第二永磁体(相应地,第一永磁体)移动,特别地在一定距离处移动。优选地,第一永磁体和第二永磁体被布置成在接纳元件的旋转期间防止任何相互接触(也参见下文)。特别地,第一永磁体和第二永磁体在接纳元件的旋转期间相对于彼此移动。

  第一永磁体(相应地,第二永磁体)可以被配置成:在接纳元件的旋转期间,当处于最短相互距离时,排斥第二永磁体(相应地,第一永磁体)。

  根据本发明的设备是相对简单的设备,特别地,仅包括机械部件(包括磁性部件)。设备可以容易地生产并且可以简单地联接到标准家用装置。设备可以结合不同现有技术解决方案的优点。设备仅要求机械能。不要求复杂的电气系统来为皮肤护理元件(诸如,刷子或(面部)按摩元件)提供震动。此外,在设备中,可以在不引入摩擦、磨损或过多的声音噪音的情况下,产生用于振动移动的力致动。

  对于底座的振动移动和旋转移动,特别地,也对于皮肤护理元件的振动移动和旋转移动(如果存在的话),可以由功能性地联接到接纳元件的装置的旋转(驱动)元件(的旋转)来提供机械能。因此,特别地,设备被配置成使得装置的旋转元件的旋转可以向连接到设备(的底座)的皮肤护理元件提供旋转移动,并且(同时)提供振动移动。皮肤护理元件可以与底座可拆卸地关联。皮肤护理元件与底座之间的连接包括固定(特别是无游隙(play-free))的连接。该连接可以被配置成(基本完全地)将(底座的)旋转移动和底座的振动移动传送到皮肤护理元件(也参见下文)。因此,特别地,设备被配置成向底座(和/或皮肤护理元件)提供双重移动或双重运动。

  皮肤护理元件在本领域中是已知的,并且可以例如包括(面部或皮肤)刷子、海绵、浮石、按摩元件等。特别地,皮肤护理元件可以被配置成用于清洁皮肤。在本文中,术语“护理元件”或“护理头”也可以涉及术语“皮肤护理元件”。

  在本文中,可以在操作期间描述设备。特别地,术语“在操作期间”涉及“在接纳元件的旋转期间”。因此,如果通过其操作或提供改变(随时间变化)的方式来说明设备,则接纳元件可以旋转。特别地,设备被配置成在接纳元件的旋转期间提供本文描述的不同动作。

  实质上,设备的接纳元件可以被配置成与装置的旋转驱动元件匹配。特别地,接纳元件和旋转驱动元件可以被联接,使得旋转驱动元件的旋转移动可以被传送到接纳元件。在实施例中,所述两个元件可以包括公连接器和相应的(匹配的)母连接器。在实施例中,旋转驱动元件包括旋转轴,该旋转轴可以功能性地联接到接纳元件。接纳元件可以包括与旋转驱动元件(诸如,旋转轴)的形状匹配的(互补)形状。然而,在另外的实施例中,接纳元件包括轴,该轴可以被布置在装置的(旋转的)(和匹配的)开口中。可选地,可以应用一个或多个附加的连接元件以将接纳元件与旋转驱动元件功能性地联接。以该方式,接纳元件可以功能性地联接到不同的可用装置(例如,不同类型或不同供应商)。

  同样地,底座可以被配置成匹配皮肤护理元件。因此,底座和皮肤护理元件也可以包括相应的公连接器和母连接器,其提供护理元件和底座之间的连接(并且允许护理元件和底座的同时旋转)。

  装置(设备可以与其功能性地耦合)实质上是包括旋转驱动元件的装置或电器,并且例如可以包括剃刮刀。然而,特别地,还可以使用其他电气电器,诸如电动牙刷、修鼻器、用于锉指甲的磨机、用于抛光指甲的抛光器、胡须刀、头皮按摩施加器等。特别地,电器包括可以被拆卸的卡入式系统,并且在将其拆下后,该电器露出旋转驱动元件。

  电器的实施例(也)可以包括振动元件,当被使用时,振动元件振动。这种元件可以包括驱动该振动元件的振动驱动元件。然而,如果振动(驱动)元件功能性地联接到电器的旋转轴线,并且特别是在拆卸振动元件之后,电器提供可以功能性地联接到接纳元件的旋转部件,则也可以使用这种电器。然而,在另外的实施例中,可以在包括振动驱动元件的电器处布置另外的振动-旋转转换器,其中该振动-旋转转换器包括旋转轴线。因此,装置可以附加地包括振动-旋转转换器,并且特别地包括旋转(驱动)元件,并且特别地,其中振动-旋转转换器被配置成将振动驱动元件功能性地联接到旋转(驱动)元件(以用于将振动驱动元件的振动移动转变成旋转(驱动)元件的旋转移动)。装置可以包括上述任何电器。有利地,装置是家庭中常用的装置。以该方式,例如可以将不同类型的剃刮刀用作设备可以联接到的装置,诸如基于旋转剃刮刀头的剃刮刀或基于枢轴旋转(pivoting)剃刮刀头的剃刮刀。

  特别地,连接器元件是允许设备与装置相关联的元件。特别地,连接器元件被配置成提供与装置的可拆卸固定。连接器元件可以被配置成提供与装置的卡入式固定。因此,在本文中,设备也可以被称为机械卡入式配件。因此,连接器元件可以在设备和装置之间提供(机械的)固定的(或静止的)(但可拆卸的)连接;接纳元件用于将装置的旋转驱动元件的旋转能量传递到设备的接纳元件。

  设备可以包括壳体,其中壳体包括在壳体的第一侧处的第一内壁和在壳体的第二侧处的第二内壁。特别地,壳体的第二侧与壳体的第一侧相对地布置,并且可以在第一侧和第二侧之间限定用于包含底座的空间。壳体可以将旋转联接机构和振动生成器以及底座的至少一部分和接纳元件的至少一部分围住。壳体可以被配置成允许底座在壳体中旋转并且(允许底座)在壳体中、在第一内壁和第二内壁之间振动。壳体可以包括连接器元件。

  在一个实施例中,壳体包括第一永磁体,特别地,其中底座包括第二永磁体。第一内壁可以例如包括第一永磁体。备选地或附加地,第二内壁可以包括第一永磁体。然而,如上所述,第一永磁体和第二永磁体可以相互改变。(第一和/或第二)永磁体可以被配置成包括平行于旋转轴线的相应永磁体的磁轴。

  在本文中,术语“第一永磁体”可以涉及一个以上(不同的)第一永磁体。同样地,术语“第二永磁体”可以涉及一个以上(不同的)永磁体。特别地,这种相应的永磁体是基本相同的磁体。然而,一个或多个这种相应的永磁体可以被不同地布置,并且如此在(多个)第一永磁体和(多个)第二永磁体之间提供不同的磁场,诸如相反的磁场。

  特别地,本文中的术语“磁体”涉及(北和南)磁极的组合。磁体不需要包括单件或单块的磁化材料。在一个实施例中,设备(特别地,第一和第二永磁体中的一个或多个)可以例如包括包含多个磁极的环形或盘形磁体。本文描述的“包括多个第一磁体和/或多个第二磁体”的设备实际上可以包括(仅)一个或两个包括多个磁极的盘形磁体(并且因此包括多个磁体)。实质上,这种实施例可以起到与包括多个离散磁体(其中每个离散磁体可以包括仅一个北极和一个南极)的实施例相同的作用。

  特别地,设备包括一个以上的第一和/或第二永磁体。在一个实施例中,(仅一个)第一永磁体或(仅一个)第二永磁体中的任一个被底座包括,而其他磁体被布置在一位置处,该位置在底座的旋转期间相对于连接器元件不移动,特别地被布置在壳体处。在这种实施例中,在底座的(一次)旋转期间,底座的振动频率可以等于底座旋转频率。特别地,在底座的一次旋转期间,磁体可以彼此相互排斥或相互吸引一次。通过添加另外的第一或第二永磁体,底座每次旋转的排斥或吸引的数目可以加倍。

  因此,在一个实施例中,设备包括多个第一永磁体和多个第二永磁体中的一个或多个,以用于在底座的旋转期间,提供比底座旋转频率高的底座的振动频率。

  振动频率包括恒定的(非波动的)振动频率可以更加有利。在底座的旋转期间,可以以标准间隔提供排斥和/或吸引。为了提供恒定的振动频率,一个以上的第一永磁体,相应地,一个以上的第二永磁体(如果存在)特别地围绕旋转轴线(旋转)对称地布置。

  在实施例中,一个以上的第一磁体和/或一个以上的第二磁体可以围绕旋转轴线不同地分布,特别地不旋转对称,以提供振动的重复模式,特别地包括振动频率模式(在接纳元件的旋转期间重复)。

  特别地,一个或多个第一永磁体的(第一端)被布置在围绕旋转轴线(轴向)对称配置的第一圆形平面的边缘处,其中一个或多个第二永磁体(的第二端)被布置在围绕旋转轴线(轴向)对称配置的第二圆形平面的边缘处,并且特别地,其中更多的第一永磁体(如果存在)和/或更多的第二永磁体(如果存在)围绕旋转轴线旋转对称地布置。此外,特别地,第一永磁体的纵向轴线包括第一圆形平面的边缘。同样地,第二永磁体的纵向轴线包括第二圆形平面的边缘。在这种配置中,在接纳元件的旋转期间,第一永磁体的第一端可以周期性地面对第二永磁体的第二端。磁体的纵向轴线可以包括所述磁体的磁轴。

  特别地,第一圆形平面和第二圆形平面不重合。第一平面和第二平面可以被配置在选自0.05mm-5mm的范围的相互(最小)距离处,诸如0.5mm-2mm,特别地0.1mm-1mm(在接纳元件不旋转期间)。如此,第一永磁体的第一端和第二永磁体的第二端之间的最小距离可以选自0.05mm-5mm的范围,诸如0.5mm-2mm,特别地0.1mm-1mm。在接纳元件的旋转期间,当处于最短相互距离时,第一永磁体的第一端可以面对第二永磁体的第二端,特别地,其中最短相互距离选自0.05mm-5mm的范围,诸如0.05mm-2mm,特别地0.1mm-1mm,诸如0.2mm-0.8mm,特别地0.3mm-0.6mm。第一平面和第二平面之间的距离可以在接纳元件的旋转期间(特别地,提供底座的振动移动)周期性地改变。第一圆形平面和/或第二圆形平面可以被配置成包括设备的物理元件,诸如第一壁或第二壁或接纳元件。所述平面也可以被配置成不包括这种元件。因此,第一永磁体和/或第二永磁体可以被包含在元件中的(这种)物理元件中。第二永磁体可以例如被完全包含在底座中。第一永磁体可以被完全包含在接纳元件中。然而,在另外的实施例中,第一永磁体被配置在底座(的表面)处。在另外的实施例中,第一永磁体被部分地包含在底座中。

  因此,在旋转期间,磁体的集合中的磁体之间的最短距离可以在0.05mm-5mm的范围内选择,诸如0.5mm-2mm,特别地0.1mm-1mm。

  特别地,第一永磁体和第二永磁体被配置成:在接纳元件的旋转期间,周期性地允许第一永磁体的磁轴与第二永磁体的磁轴基本重合。在一个实施例中,第一圆形平面的边缘和旋转轴线之间的第一(最小)距离与第二圆形平面的边缘之间的第二(最小)距离的比率选自0.75-1.25的范围,诸如在0.9-1.1的范围内,特别地在0.95-1.05的范围内。

  因此,在一个实施例中,一个或多个第一永磁体被布置在距旋转轴线具有第一距离的第一圆形平面处,并且一个或多个第二永磁体被布置在距旋转轴线具有第二距离的第二圆形平面处,特别地,其中第一距离与第二距离的比率选自0.75-1.25的范围,诸如0.9-1.1,特别地,其中第一距离和第二距离基本相等。该比率可以基本等于1.0。第一永磁体和第二永磁体之间的力的方向(在接纳元件的旋转期间,当处于最短相互距离时)可以由(力的)第一分量(在平行于第一(或相应地,第二)永磁体的磁轴的方向上)和(力的)第二分量(在垂直于第一分量的方向上(并且被布置在包括该力的方向和第一分量的平面中))限定。特别地,第一永磁体和第二永磁体被布置成使得第一分量大于零,并且特别地大于(力的)第二分量。特别地,第一永磁体和第二永磁体被布置成(在接纳元件的旋转期间,当处于最短相互距离时)在平行于旋转轴线的方向上提供相互冲击。

  另外的实施例可以包括第一永磁体的总数目和第二永磁体的总数目。在实施例中,第一永磁体的总数目与第二永磁体的总数目的比率或第二永磁体的总数目与第一永磁体的总数目的比率是整数。设备可以例如包括两个第一永磁体,并且包括两个、四个、六个、八个等的第二永磁体。设备还可以包括三个第二永磁体,并且包括例如三个、六个、九个等的第一永磁体。特别地,第一永磁体的总数目等于第二永磁体的总数目。第一永磁体的总数目可以至少为两个。

  靠近旋转轴线地布置磁体可以更加有利。通过靠近旋转轴线地配置磁体,设备可以比其中在距旋转轴线更大距离处配置磁体的设备更硬。设备的宽度可以由沿着垂直于旋转轴线的线,从设备的第一侧到设备的第二侧的最大距离定义。在实施例中,第一距离和/或第二距离(上述的相应距离与第一或相应的第二永磁体和旋转轴线之间的距离有关)与设备的宽度的比率等于或小于0.5,特别地等于或小于0.25,甚至更特别地等于或小于0.1。特别地,所述比率大于零。因此,在实施例中,第一距离与宽度的比率选自大于0且小于或等于0.25的范围。特别地,第二距离与设备的宽度的比率也选自大于0且小于或等于0.25的范围。

  特别地,紧凑的布置(具有接近旋转轴线的相对的第一永磁体和第二永磁体的集合)允许在需要运动的点处进行致动,特别地在需要运动的点处进行振动移动。这可以减少在设备和/或护理元件的构建中对刚度和严格公差的需求。例如,到轴的距离可以等于或小于1.5cm,诸如在1mm-12mm的范围内。

  旋转联接机构可以是传输系统。联接机构可以将接收系统的旋转移动传送到底座。联接机构还可以基于接纳元件的接纳元件旋转频率,向底座以底座旋转频率提供旋转移动。在实施例中,底座旋转频率和接纳元件频率相同。特别地,底座旋转频率(由联接机构提供给底座)与接纳元件旋转频率不同。底座旋转频率可以大于接纳元件旋转频率。在实施例中,底座的旋转移动的方向与接纳元件的旋转移动的方向(也)不同。

  因此,在一个实施例中,旋转联接机构被配置成在与接纳元件的旋转移动相反的方向上提供底座的旋转移动。

  联接机构可以包括齿轮系统,以将接纳元件的旋转移动传送到底座。特别地,接纳元件包括(或刚性地连接到)第一齿轮。在另外的实施例中,底座包括(或刚性地连接到)第二齿轮。第一齿轮和第二齿轮可以功能性地联接,特别地,第一齿轮和第二齿轮可以包括齿并且相互啮合(在旋转期间)。第一齿轮和第二齿轮也可以是齿轮系的一部分,该齿轮系包括两个以上的齿轮(或由其定义),特别地,两个以上的齿轮(一起)被配置成都按顺序工作。

  因此,在一个实施例中,旋转联接机构包括第一齿轮和第二齿轮,其中接纳元件包括第一齿轮,并且其中底座包括第二齿轮,并且其中第一齿轮和第二齿轮被旋转联接(可选地,经由一个或多个另外的齿轮),特别地,其中旋转联接机构被配置成:在接纳元件的旋转期间,基于接纳元件的接纳元件旋转频率向底座提供底座旋转频率。

  因此,术语“旋转联接”等(诸如在用于将底座与接纳元件旋转联接的旋转联接机构的短语中)特别地指代其中第一元件(诸如接纳元件)的旋转引起另外的元件(诸如底座)的旋转和/或反之亦然的机构。齿轮系可以被配置成向底座提供与接纳元件的旋转速度(旋转频率)和/或方向不同的旋转速度(旋转频率)和/或旋转方向。在实施例中,第一齿轮、第二齿轮和可选的一个或多个另外的齿轮被配置成:在接纳元件的旋转期间,提供选自0.2-5的范围的底座旋转频率与接纳元件旋转频率的比率。

  旋转联接机构还被配置成允许旋转联接机构的部件相对于彼此振动移动。例如,当齿轮在旋转轴线的方向上相对于彼此平移时(在底座的振动期间),齿轮可以保持起作用。

  本发明的设备在设备的配置中可以包括不同的自由度以用于提供振动的频率。振动的频率可以取决于第一和/或第二永磁体的数目。振动的频率还可以取决于底座相对于接纳元件的旋转频率和旋转方向的旋转频率和旋转方向。

  在一个实施例中,振动生成器被配置成提供选自1-250的范围内的(底座的)振动移动的频率与接纳元件的旋转频率的比率,该比率特别地在4-96的范围内,诸如在5-50的范围内(在接纳元件的旋转期间)。在另外的实施例中,所述比例选自0.1-1的范围,特别地选自0.3-1的范围。

  通常,接纳元件的旋转频率可以是至少500rpm(大约8Hz),诸如在500rpm-10000rpm(大约8Hz-160Hz)的范围内,特别地2000rpm-6000rpm(30Hz-100Hz)。然而,在装置的实施例中,诸如在按摩施加器中,接纳元件的旋转频率可以在200rpm或400rpm的范围内。特别地,旋转联接机构被配置成向底座提供选自50rpm-500rpm(大约1Hz-10Hz)的范围的旋转频率,特别地在100rpm-400rpm(2Hz-7Hz)的范围内,诸如在150rpm-300rpm(2.5Hz-5Hz)的范围内。在一个实施例中,旋转联接机构被配置成向底座提供200±25rpm(大约3.3Hz)的旋转频率。在实施例中,振动生成器被配置成提供等于或大于5Hz的振动频率,诸如等于或大于10Hz,特别地等于或大于100Hz,并且特别地等于或小于250Hz,诸如等于和小于150Hz。在一个实施例中,振动生成器被配置成提供选自1-100的范围的(底座的)振动移动的频率与底座旋转频率的比率,该比率特别地在3-50的范围内,诸如在3-33范围内(在接纳元件的旋转期间)。在另外的实施例中,所述比例选自0.1-1的范围,特别地选自0.3-1的范围。

  因此,在特定的实施例中,选择装置和设备,使得可以向底座提供200±25rpm(大约3.3Hz)的旋转频率。

  皮肤护理元件(在可用时)功能性地联接到底座,并且因此将以与底座相同的旋转频率旋转。同样地,皮肤护理元件的振动因此与底座相同。

  在使用护理元件的设备的使用期间,可以将护理元件按压在用户的皮肤上。因此,设备可以被配置成特别地提供振动移动的一部分,其中底座特别地基于一个或多个第一永磁体和一个或多个第二永磁体的相互排斥,而从连接器元件移开。振动移动的其余部分(其中底座在朝向连接器元件的方向上移动)可以由一个或多个第一永磁体和/或多个第二永磁体的吸引力提供。振动的其余部分也可以由基于将护理元件按压到用户的皮肤上的反作用力来提供。振动的其余部分还可以由设备的一些另外的元件提供,该些另外的元件在连接器元件的方向上向底座施加力。这种另外的元件可以包括弹性元件。弹性体例如可以包括弹簧。弹性元件与底座以及可选地与护理元件结合可以定义弹簧-质量系统。这种弹簧-质量系统可以有利地包括固有频率。在底座的旋转期间,底座可能由第一永磁体和第二永磁体引起振动。底座可以包括游隙并且可以在游隙中振动(由于磁体)。当利用弹性元件或弹簧在连接器元件的方向上向底座施加力时,可能会以底座+弹性元件+可选的护理元件的质量-弹簧系统的固有频率振动。这可以提供增加的振幅(相对于不包括弹性元件的设备)。

  因此,在另外的实施例中,设备包括弹性元件,该弹性元件被配置成在连接器元件的方向上向底座施加力。特别地,设备还包括弹性元件,该弹性元件被布置在壳体和底座之间,并且被配置成在朝向第一内壁的方向上弹性地平移底座。

  设备可以被配置成使得底座可以相对于接纳元件旋转。在一个实施例中,设备被配置成用于使底座围绕接纳元件旋转。设备可以例如包括轴承,特别地,轴承功能性地联接到接纳元件并且功能性地联接到底座,并且被配置成允许底座围绕接纳元件的旋转移动。然而,设备还可以被配置成允许底座在接纳元件处的旋转。

  在一个实施例中,接纳元件包括突起,该突起在旋转轴线的方向上在接纳元件的第一端处突出,并且被配置成围绕旋转轴线旋转对称,特别地,其中联接元件被布置在接纳元件的第二端处,并且被配置成功能性地联接到装置的旋转驱动元件。此外,底座可以包括第一底座端,第一底座端被配置成连接到皮肤护理元件(或被连接到皮肤护理元件),并且包括第二底座端,第二底座端包括第二底座端开口,第二底座端开口被配置成围绕旋转轴线旋转对称并且包围突起,特别地,其中第二底座端开口被配置成允许底座围绕突起旋转并且允许底座平行于旋转轴线地相对于接纳元件振动。

  特别地,设备可以包括皮肤护理元件。特别地,本发明提供了一种如本文描述的用于护理(特别地,清洁)皮肤的设备,其中设备包括连接到底座的皮肤护理元件。这种设备(的实施例)被配置成:(在接纳元件的旋转期间)使皮肤护理元件相对于连接器元件旋转,特别地以皮肤护理元件旋转频率旋转,并且被配置成同时使皮肤护理元件相对于连接器元件振动,特别地以皮肤护理振动频率振动。特别地,皮肤护理元件的皮肤护理旋转频率和振动频率(也)是基于接纳元件的旋转频率。特别地,皮肤护理旋转频率和底座旋转频率相等。此外,皮肤护理头的振动频率(也)可以等于底座的振动频率。设备可以是用于双重运动清洁的设备。

  在另外的实施例中,用于护理皮肤的设备被配置成提供等于或大于3的振动频率与接纳元件的旋转频率的比率,该比率特别地等于或大于5,诸如等于或大于12,并且特别地等于或小于96,诸如等于或小于50。

  设备还可以包括连接到设备的剃刮刀,其中连接器元件功能性地联接到剃刮刀,并且其中剃刮刀包括功能性地联接到接纳元件的旋转驱动元件,特别地用于向接纳元件提供旋转。

  在另外的方面,本发明提供了一种部件套件,其包括如本文描述的设备,并且包括在功能上可连接到本文描述的设备的底座的一个或多个皮肤护理元件。

  然而,在另外的方面,本发明提供了本文描述的设备(没有剃刮刀)和剃刮刀。特别地,剃刮刀包括旋转驱动元件。设备可以(实质上)功能上连接到剃刮刀的旋转驱动元件。

  特别地,设备的有利实施例包括如上所述的选项。

  附图说明

  现在将仅通过示例的方式,参考所附的示意图来描述本发明的实施例,在附图中,对应的附图标记指示对应的部件,并且其中:

  图1示意性地描绘了根据本发明的设备的一个实施例;并且

  图2-图5示意性地描绘了根据本发明的设备的一些方面。

  示意图不必按比例。

  具体实施方式

  图1示意性地描绘了设备1的一个实施例。设备1可连接到具有旋转驱动元件1001的装置1000,在设备1的下方非常示意性地描绘了装置1000。诸如剃刮刀1010的装置1000可以联接到设备1包括的连接器元件58,连接器元件58用于功能性地联接到装置1000。特别地,连接器元件58被配置成可拆卸地附接到装置1000,特别地从而提供连接,其中连接器元件58不可以相对于装置1000移动(在旋转驱动元件1001旋转的情况下也是如此)。设备1包括用于功能性地联接到装置1000的旋转驱动元件1001的接纳元件10。接纳元件10具有旋转轴线A。接纳元件10可旋转,并且可以基于旋转驱动元件1001的旋转而旋转(当联接时)。设备还包括适于连接到皮肤护理元件200的底座20,这也如由在设备1上部所示的皮肤护理元件200示意性地描绘的。

  特别地,设备1被配置成:基于接纳元件10的旋转(并且特别地,旋转驱动元件1001的旋转),向底座20(并且依次向护理头200(当附接到设备1时)同时提供旋转移动35和振动移动45(震动45)。特别地,为了向护理元件200提供这些同时移动35、45,设备1包括旋转联接机构30和振动生成器40。旋转联接机构30被配置成用于将底座20与接纳元件10旋转联接。振动生成器40包括第一永磁体41和第二永磁体42。特别地,振动生成器40被配置成在底座20的旋转期间,平行于旋转轴线A地将振动移动45引入到底座20。振动移动45是基于第一永磁体41和第二永磁体42的周期性排斥或吸引,特别地,该周期性排斥或吸引由接纳元件10的旋转引起(作为其函数)。

  注意,接纳元件10的第一端19以分解图部分地给出,该图展示了第一磁体41,在该实施例中,第一磁体41实际上被包含在接纳元件10的第一端19中,并且还示出了如从旋转轴线A看到的第一齿轮16。还以分解图示出了底座的一部分,以指示第二永磁体42,在该实施例中,第二永磁体42实际上被包括在底座20中。

  特别地,当第一永磁体41和第二永磁体42以在接纳元件10的旋转期间提供的相互最短距离定位时,提供排斥或吸引(也参见图4和图5)。在实施例中,第一永磁体41被配置成:在接纳元件10的旋转期间,当处于相互最短距离时,排斥第二永磁体42。

  图1中描绘的实施例还包括壳体50,壳体50包括在壳体50的第一侧56处的第一内壁51,并且包括在壳体50的第二侧57处的第二内壁52。如此,壳体50将旋转联接机构30和振动生成器40、以及几乎整个底座20和几乎整个接纳元件10围住。特别地,壳体50被配置成允许底座20在壳体50中旋转,并且允许底座在壳体50中在第一内壁51和第二内壁52之间振动。

  设备1可以包括多个第一永磁体41和多个第二永磁体42中的一个或多个,以用于在底座20的旋转期间,提供比底座旋转频率高的底座20的振动频率。在所描述的实施例中,接纳元件10包括(特别地,三个)第一永磁体41,并且底座20包括(特别地,三个)第二永磁体42。

  在该实施例中,所有的第一永磁体41被布置在距旋转轴线A具有第一距离L1的第一圆形平面D1处,并且所有的第二永磁体42被布置在距旋转轴线A具有第二距离L2的第二圆形平面D2处,例如,参见描绘了这些圆形平面D1、D2的图4。特别地,第一磁体41被布置在第一圆形平面D1处,使得旋转轴线A和第一磁体之间的最小距离等于第一距离L1。同样,特别地,第二磁体42被布置在第二圆形平面D2处,使得第二磁体42与旋转轴线A之间的最小距离等于L2。在优选实施例中,第一距离L1与第二距离L2的比率选自0.9-1.1的范围。在给定的实施例中,第一距离L1和第二距离L2基本相同。

  图1和图3还描绘了一个实施例,其中第一永磁体41的总数目等于三。另外,第二永磁体42的总数目等于三。特别地,如果第一永磁体41的总数目是至少两个,则第一永磁体41的总数目可以被选择为等于第二永磁体42的总数目。然而,在另外的实施例中,这些总数目可以彼此不同。

  在图中描绘的实施例中,旋转联接机构30包括第一齿轮16和第二齿轮26以及另外的齿轮36。在图2中,更详细地描绘了旋转联接机构30。在图中,接纳元件10包括第一齿轮16,并且底座20包括第二齿轮26,并且第一齿轮16和第二齿轮26特别地经由另外的齿轮36旋转联接。特别地,第二齿轮26包括内部齿轮。第一齿轮16以及可选的另外的齿轮36可以包括外齿轮。特别地,旋转联接机构30被配置成:在接纳元件10的旋转期间,基于接纳元件10的接纳元件旋转频率,向底座20提供底座旋转频率。在另外的实施例中,联接机构30不包括另外的齿轮36或一个以上的另外的齿轮36。

  在实施例中,第一齿轮16、第二齿轮26以及可选的一个或多个另外的齿轮36被配置成:在接纳元件10的旋转期间,提供选自0.2-5的范围的底座旋转频率与接纳元件10旋转频率的比率。

  根据齿轮16、26、36的数目(一起提供齿轮系),底座20的旋转移动35可以在与接纳元件的旋转移动相同的方向上。然而,在其他实施例中,旋转联接机构30被配置成在与接纳元件10的旋转移动(方向)相反的方向上提供底座20的旋转移动35。这在图4中利用在第一磁体41和第二磁体42处的箭头示意性地描绘。

  特别地,可以基于第一永磁体41和第二永磁体42的数目,并且特别地,还可以通过相对于接纳元件旋转频率的底座旋转频率来设置振动频率。在实施例中,振动生成器40被配置成:在接纳元件10的旋转期间,提供选自5-50的范围的振动移动45的频率与接纳元件10的旋转频率的比率。附加地或备选地,振动生成器40被配置成:在接纳元件10的旋转期间,提供选自3-50的范围的振动移动45的频率与底座旋转频率的比率。

  在图1中描绘的实施例中,接纳元件10包括突起18,突起18在旋转轴线A的方向上在接纳元件10的第一端19处突出,并且接纳元件10包括联接元件12,联接元件12被布置在接纳元件10的第二端11处。突起18被配置成围绕旋转轴线A旋转对称。联接元件12被配置成功能性地联接到装置1000的旋转驱动元件1001。底座20还包括第一底座端29和第二底座端21,其中第一底座端29被配置成连接到皮肤护理元件200,并且第二底座端21包括第二底座端开口23,第二底座端开口23被配置成围绕旋转轴线A旋转对称并且包围突起18。这样,底座20可以相对于设备1的其余部分旋转和振动。为了允许这些移动35、45,第二底座端开口23可以被配置成允许底座20围绕突起18旋转并且允许底座20平行于旋转轴线A地相对于接纳元件10振动。

  设备1(特别地,包括功能性地联接到设备1的皮肤护理元件200)可以被配置成用于护理皮肤,诸如清洁皮肤。在实施例中,本发明的设备1被配置成用于清洁皮肤。特别地,设备1的这种(清洁)实施例包括连接到底座20的皮肤护理元件200,并且被配置成:(在接纳元件10的旋转期间)使皮肤护理元件200相对于连接器元件58旋转,特别地以皮肤护理元件旋转频率旋转,并且被配置成同时使皮肤护理元件200相对于连接器元件58振动,特别地以皮肤护理振动频率振动。同样在这种实施例中,皮肤护理元件200的皮肤护理旋转频率和振动频率特别地基于接纳元件10的旋转频率。特别地,皮肤护理旋转频率和底座旋转频率相等。而且,皮肤护理头的振动频率可以等于底座的振动频率。特别地,设备1的一个实施例可以被配置成提供等于或大于12的振动频率与接纳元件10的旋转频率的比率。振动移动45可以由在第一方向上的移动(远离连接器元件58)和在第二相反方向上的移动定义。特别地,排斥第一和第二永磁体41、42可以引起在第一方向上的移动。可以通过将护理元件200按压在皮肤上来提供在第二方向上的移动。图1中给出的实施例包括弹性元件47,以(也)在连接器元件58的方向上向底座20施加力。在另外的实施例中,第一永磁体41和第二永磁体42的数目可以被布置成在接纳元件10的旋转期间彼此吸引。

  特别地,本发明可以包括以反向旋转设定使用磁体41、42的布置,以产生针对轴向运动(即,振动移动45)的力致动。特别地,可以在不引入摩擦、磨损或过多的声音噪音的情况下产生轴向移动45。

  当使用相反或吸引的磁体41、42的集合时,当它们相对于彼此平移时,存在排斥或吸引力。该力在行程上的增加可以是逐渐的,没有任何冲击或不连续性,参见图5,其示出了作为第一永磁体41和第二永磁体42之间的距离的函数的改变力F(在接纳元件10的旋转期间,当磁体41、42彼此相向和彼此远离移动时)。

  当轴向运动上没有负载时(特别地,在连接器元件58的方向上没有经由底座20作用的外部压力时),由磁体41、42提供的该轴向力F没有能量的净损失。在轴向力F的斜升期间(旋转)负载的增加被斜降期间(旋转)负载的相等减小抵消。电器和配件200的整个传动系的惯性和动量可以减轻(旋转)负载的这种变化。因此,负载可以不对组件的旋转速度产生显著影响。

  当施加轴向负载时,该负载可以对接纳元件10产生增加的旋转净负载的作用。该布置具有高效率,除了用于预期功能之外没有其他固有损失。

  对于清洁功能,振动频率优选地处于比护理头200(或底座20)的旋转频率更高的频率。在设备1的直径上使用多个第一和/或第二永磁体41、42可以增加振动频率。这打开了将振动频率倍增2至4倍甚至更多倍的可能性,而不会产生高昂的成本或需要太大的空间包络。然而,将第一和第二永磁体41、42分别布置在两个反向旋转的平面D1、D2上可以进一步增加振动频率,参见例如图4,其中弯曲箭头分别指示第一永磁体41和第二永磁体42的旋转方向。

  例如,在接纳元件10的接纳元件旋转频率为3000rpm的情况下,3:1的减速传动(由旋转联接机构30提供)可以提供1000rpm(相反方向)的底座20(最终,护理元件200)的底座旋转频率。然后,第一永磁体41和第二永磁体42可以包括4000rpm的相对于彼此的相互旋转频率。在圆周上具有三个第一永磁体41和三个第二永磁体42的情况下,此时振动频率可以等于12000rpm。因此,在这种实施例中,振动频率与接纳元件频率的比率可以是12。

  注意,所描述的具有3:1的减速传动比率的实施例是简化的示例。在另外的实施例中,提供了9:1的降低。这可以通过改变齿轮16、26、36的机构的比率或通过增加额外附加的齿轮36来完成。随着总齿轮比率的增加,频率增加的效果甚至比图示实施例中的更大。此外,可以使用修改的或完全不同的旋转联接机构30来改善底座20相对于接纳元件10的运行性质。

  如图中所描绘的,紧凑的布置(具有靠近旋转轴线A的相对的磁体41、42的集合)允许在需要运动的点处进行致动。这可以减少在设备1和/或配件的构建(配置)中对刚度和严格公差的需求。

  在实施例中,为了使能振动运动45,可以依靠弹性元件47(诸如,在该布置上操作以提供返回运动的弹簧)在一个方向上交替地施加力。弹性元件47可以被配置成在连接器元件58的方向上向底座20施加力。例如,弹性元件47可以被布置在壳体50和底座20之间,并且被配置成在朝向第一内壁51的方向上弹性地平移底座20,参见图1。

  在另外的实施例中,第一和第二永磁体41、42被配置成:在接纳元件10的旋转期间,周期性地提供相互交替的吸引力和排斥力。因此,在实施例中,设备1包括相反的磁体41、42的集合,以从磁体集合41、42产生交替的轴向力。

  本发明还提供了一种部件套件,其包括设备1和一个或多个皮肤护理元件200,皮肤护理元件200在功能上可连接到设备1(的底座20)。备选地或附加地,部件套件可以包括设备1和剃刮刀1010。

  本领域技术人员将理解诸如在“基本所有的光”或“基本包括”中的本文的术语“基本”。术语“基本”还可以包括具有“全部”、“完全”、“所有”等的实施例。因此,在实施例中,形容词基本也可以被去除。在适用的情况下,术语“基本”还可以涉及90%或更高,诸如95%或更高,特别地99%或更高,甚至更特别地99.5%或更高,包括100%。术语“包括”还包括其中术语“包括”意指“由…组成”的实施例。术语“和/或”特别地涉及“和/或”之前和之后提到的项中的一个或多个项。例如,短语“项1和/或项2”以及类似的短语可以涉及项1和项2中的一个或多个。术语“包括”在一个实施例中可以指代“由…组成”,但是在另一个实施例中可以指代“包含至少所定义的种类并且可选地包括一个或多个其他种类”。

  此外,说明书和权利要求中的术语第一、第二、第三等用于区分相似的元件,而不必用于描述顺序或时间顺序。应当理解,如此使用的术语在适当的情况下可互换,并且本文描述的本发明的实施例能够以不同于本文描述或图示的其他顺序来操作。

  尤其在操作期间描述本文中的设备。如本领域技术人员将清楚的那样,本发明不限于操作的方法或操作中的设备。

  应当注意,上述实施例说明而不是限制本发明,并且本领域技术人员将能够设计许多备选实施例而不脱离所附权利要求的范围。在权利要求中,放在括号之间的任何附图标记不应当被解释为对权利要求的限制。动词“包括”及其词形变化的使用不排除权利要求中所述的元件或步骤之外的元件或步骤的存在。元件之前的冠词“一”或“一个”不排除存在多个这种元件。本发明可以借助于包括几个不同元件的硬件并且借助于适当编程的计算机来实施。在列举几个部件的设备权利要求中,这些部件中的几个可以由一个相同的硬件来体现。在互不相同的从属权利要求中记载某些措施的纯粹事实并不表明不能有利地使用这些措施的组合。

  本发明还适用于一种设备,其包括说明书中描述和/或附图中示出的特征中的一个或多个特征。本发明还涉及一种方法或过程,其包括说明书中描述和/或附图中示出的特征中的一个或多个特征。

  本专利中讨论的各个方面可以被组合以便提供附加的优点。此外,本领域技术人员将理解,实施例可以被组合,并且两个以上的实施例也可以被组合。此外,特征中的一些特征可以构成一个或多个分案申请的基础。

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