一种抛光装置
技术领域
本实用新型涉及陶瓷加工设备技术领域，尤其涉及一种抛光装置。
背景技术
随着人们的生活水平的提高，人们对生活必需品以外的物品需求量越来愈大，陶瓷就是一种，而生产出来的陶瓷需要进行抛光，抛光机也称为研磨机，常常用作机械式研磨、抛光及打蜡，其工作原理是：电动机带动安装在抛光机上的海绵或羊毛抛光盘高速旋转，由于抛光盘和抛光剂共同作用并与待抛表面进行摩擦，进而可达到去除漆面污染、氧化层、浅痕的目的，但是传统抛装置在使用过程中，噪音大，工作效率低，而且由于设备长时间使用会出现打磨不均匀的现象，满足不了现代化生产的要求。
实用新型内容
本实用新型为了克服上述中存在的问题，提供了一种抛光装置，解决了传统抛光装置工作效率低的问题，有效避免了打磨不均匀现象的发生，能够满足生产的需求。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：本实用新型提供了一种抛光装置，包括进料端以及抛光端，所述抛光端置于进料端后方且两者均置于瓷砖拉线上，所述瓷砖拉线安装在底座上，且位于抛光端后方位置安装有喷粉装置，该底座位于进料端前端的位置安装有转动轴，该转动轴与安装在底座上的第一气缸传动连接，所述进料端与抛光端之间设有分料装置，该分料装置安装在底座上并横跨瓷砖拉线且置于瓷砖拉线的上方位置。
优选的，所述喷粉装置包括固定架以及料盒，该料盒垂直瓷砖拉线方向并拆卸安装在固定架上，并与安装在底座上的震动气缸活动连接，所述固定架横跨瓷砖拉线并可拆卸安装在底座上。便于喷粉装置的更换维护。
优选的，所述料盒呈顶端带敞口的腔体结构，其内壁四周呈斜坡状，所述料盒底端设有漏粉槽，所述料盒内部紧贴底面且包围漏粉槽设有镂空网。斜坡状的内壁能够便于粉料流入到料盒底部，便于粉料从镂空网洒到瓷砖上。
优选的，所述进料端包括进料支架、支撑架、延伸杆以及缓冲架，所述进料支架安装在底座之间，所述支撑架安装在进料支架的顶端，并通过支撑架安装有第二气缸，所述进料支架位于支撑架下方的位置设有第一横梁，所述延伸杆垂直进料支架的方向安装在第一横梁上，并通过延伸杆安装有第三气缸，该第三气缸前端安装的连接件与安装在第二气缸上的推头活动连接，所述缓冲架固定安装在转动轴上并随转动轴运动。通过气缸推动能够使瓷砖自动上料，减少了人工，提高工作效率。
优选的，所述缓冲架呈H形，其一端安装在转动轴上，另一端对称安装有滚轮。滚轮起到导向作用，便于瓷砖的传输。
优选的，所述抛光端包括壳体以及安装壳体内部的研磨装置以及清洗装置，所述研磨装置包括驱动装置、第二横梁、直线导轨以及辊排，所述驱动装置置于第二横梁上端并与第二横梁活动连接，所述辊排以及直线导轨均安装在第二横梁上，并随第二横梁运动，所述辊排下端靠近瓷砖拉线的位置安装有研磨盘，所述清洗装置设于研磨装置内部且正对研磨盘设置。摆动横梁由直线导轨平行滑动，比传统辊排更加平稳。
优选的，所述分料装置包括分料板以及分料杆，所述分料板横跨瓷砖拉线并安装在底座两侧，且分料板顶端焊接有分料块，该分料块上设有锁紧件，所述分料杆贯穿分料块，并通过锁紧件固定分料杆在分料块上的位置。通过分料装置能够根据用户需要对进行抛光处理瓷砖的大小尺寸进行控制，提高抛光装置的加工精度，有效避免了打磨不均匀现象的发生，能够满足生产的需求，
优选的，所述瓷砖拉线采用皮带轮传输。
优选的，所述抛光端与喷粉装置之间设有脱水机构，所述脱水机构包括U形支架以及脱水辊，所述脱水辊安装在对称设置且焊接在底座两侧的U形支架之间，并与瓷砖表面接触。能够将抛光后的瓷砖脱水处理，便于后续加工。
优选的，所述底座位于分料装置后端且靠近抛光端的位置设有第三横梁，所述第三横梁顶部端面上对称设有条形孔，并通过条形孔安装有定位螺杆，所述第三横梁位于定位螺杆之间设有压紧滚轮，该压紧滚轮紧贴瓷砖设置。对瓷砖进行定位、压平压紧处理，便于后续瓷砖的抛光处理。
与现有技术相比，本实用新型具有的有益效果为：该抛光装置的进料端通过第一气缸控制缓冲架，同时通过第三气缸与第二气缸配合其装配的连接件与推头运动，能够使瓷砖自动上料，减少了人工，提高工作效率，进一步的，进料端与抛光端之间设有分料装置，通过分料装置能够根据用户需要对进行抛光处理瓷砖的大小尺寸进行控制，提高抛光装置的加工精度，有效避免了打磨不均匀现象的发生，能够满足生产的需求，而且能够避免因瓷砖厚度太厚，导致抛光时产生的噪音，进一步的，抛光端后方位置安装有喷粉装置，能够将配置好的粉末均匀的涂洒在抛好光的瓷砖上，增加瓷砖的使用性能。
附图说明
下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。
图1是本实用新型所述的一种抛光装置的结构示意图;
图2是本实用新型所述的一种抛光装置的进料端结构示意图;
图3是本实用新型所述的一种抛光装置的局部示意图;
图4是本实用新型所述的一种抛光装置的抛光端结构示意图;
图5是本实用新型所述的一种抛光装置的结构示意图。
附图说明：1、进料端;101、进料支架;102、支撑架;103、延伸杆;104、缓冲架;105、第二气缸;106、第一横梁;107、第三气缸;2、抛光端;201、壳体;202、研磨装置;3、底座;4、喷粉装置;401、固定架;402、料盒;5、转动轴;6、分料装置;601、分料板;602、分料杆;603、分料块;604、锁紧件;7、脱水机构;701、U形支架;702、脱水辊;8、第三横梁;9、螺杆;10、压紧滚轮;11、第一气缸;12、连接件;13、推头。
具体实施方式
现在结合附图对本实用新型作进一步详细的说明。这些附图均为简化的示意图，仅以示意方式说明本实用新型的基本结构，因此其仅显示与本实用新型有关的构成。
本实用新型在具体实施如下：如图1-5所示的一种抛光装置，包括进料端1以及抛光端2，抛光端2置于进料端1后方且两者均置于瓷砖拉线上，瓷砖拉线采用皮带轮传输，瓷砖拉线安装在底座3上，且位于抛光端2后方位置安装有喷粉装置4，该底座3位于进料端1前端的位置安装有转动轴5，该转动轴5与安装在底座3上的第一气缸11传动连接，进料端1与抛光端2之间设有分料装置6，该分料装置6安装在底座3上并横跨瓷砖拉线且置于瓷砖拉线的上方位置，分料装置6包括分料板601以及分料杆602，分料板601横跨瓷砖拉线并安装在底座3两侧，且分料板601顶端焊接有分料块603，该分料块603上设有锁紧件604，分料杆602贯穿分料块603，并通过锁紧件604固定分料杆602在分料块603上的位置，通过分料装置6能够根据用户需要对进行抛光处理瓷砖的大小尺寸进行控制，提高抛光装置的加工精度，有效避免了打磨不均匀现象的发生，能够满足生产的需求，抛光端2与喷粉装置4之间设有脱水机构7，脱水机构7包括U形支架701以及脱水辊702，脱水辊702安装在对称设置且焊接在底座3两侧的U形支架701之间，并与瓷砖表面接触，能够将抛光后的瓷砖脱水处理，便于后续加工。
喷粉装置4包括固定架401以及料盒402，该料盒402垂直瓷砖拉线方向并拆卸安装在固定架401上，并与安装在底座3上的震动气缸8活动连接，固定架401横跨瓷砖拉线并可拆卸安装在底座3上，便于喷粉装置4的更换维护，料盒402呈顶端带敞口的腔体结构，其内壁四周呈斜坡状，料盒402底端设有漏粉槽，料盒402内部紧贴底面且包围漏粉槽设有镂空网，斜坡状的内壁能够便于粉料流入到料盒402底部，便于粉料从镂空网洒到瓷砖上。
进料端1包括进料支架101、支撑架102、延伸杆103以及缓冲架104，进料支架101安装在底座3之间，支撑架102安装在进料支架101的顶端，并通过支撑架102安装有第二气缸105，进料支架101位于支撑架102下方的位置设有第一横梁106，延伸杆103垂直进料支架101的方向安装在第一横梁106上，并通过延伸杆103安装有第三气缸107，该第三气缸107前端安装的连接件12与安装在第二气缸105上的推头13活动连接，缓冲架104固定安装在转动轴5上并随转动轴5运动，通过气缸推动能够使瓷砖自动上料，减少了人工，提高工作效率，缓冲架104呈H形，其一端安装在转动轴5上，另一端对称安装有滚轮，滚轮起到导向作用，便于瓷砖的传输。
抛光端2包括壳体201以及安装壳体201内部的研磨装置202以及清洗装置，研磨装置202包括驱动装置、第二横梁、直线导轨以及辊排，驱动装置置于第二横梁上端并与第二横梁活动连接，辊排以及直线导轨均安装在第二横梁上，并随第二横梁运动，辊排下端靠近瓷砖拉线的位置安装有研磨盘，清洗装置设于研磨装置内部且正对研磨盘设置，摆动横梁由直线导轨平行滑动，比传统辊排更加平稳，底座3位于分料装置6后端且靠近抛光端2的位置设有第三横梁8，第三横梁8顶部端面上对称设有条形孔，并通过条形孔安装有定位螺杆9，第三横梁8位于定位螺杆9之间设有压紧滚轮10，该压紧滚轮10紧贴瓷砖设置，对瓷砖进行定位、压平压紧处理，便于后续瓷砖的抛光处理。
以上述依据本实用新型的理想实施例为启示，通过上述的说明内容，相关工作人员完全可以在不偏离本项实用新型技术思想的范围内，进行多样的变更以及修改。本项实用新型的技术性范围并不局限于说明书上的内容，必须要根据权利要求范围来确定其技术性范围。
