一种用于镭射投影设备的荧光粉涂覆装置
技术领域
本新型涉及镭射投影设备使用技术领域，具体涉及一种用于镭射投影设备的荧光粉涂覆装置。
背景技术
目前的雷射投影设备，其原理主要是靠雷射光激发涂布在荧光轮上的荧光粉而产生亮度，然而，生产荧光粉的厂家众多，其荧光粉的好坏，也间接的影响所产生出来的亮度多寡，好的荧光粉皆来自于日系公司所生产，其单价昂贵。而每个新机种的开发过程中，也常常因为颜色或是亮度的需求，经常会需要打样并调整涂布在荧光轮上荧光粉的角度，来比较出最佳的方案。
以目前的光学仿真软件来说，对于涂布在荧光轮上的荧光粉所激发出来的亮度以及颜色，无法模拟，只能参照先前的机种以及经验来去评估涂布在荧光轮上的荧光粉范围来去作后续调整的基础。
实用新型内容
为解决上述缺陷，本新型提供一种用于镭射投影设备的荧光粉涂覆装置，能够有效改变荧光轮圆盘上的涂布截面积，使荧光粉涂布量减小，从而达到降低成本的目的。
为达到上述目的，本新型采用的技术方案是：一种用于镭射投影设备的荧光粉涂覆装置，包括涂覆荧光粉的荧光轮，将荧光轮上圆盘进行铣削，使圆盘靠近外围处变为锥形，在锥形面处涂覆荧光粉，使圆盘外围处的锥形变回平面，在涂覆高度不变的情况下，圆盘上的荧光粉的截面积减少一半，实现对圆盘的荧光粉涂覆工作。
本新型采用上述技术手段，有效减少了荧光粉的使用量，降低了涂覆成本。
附图说明
下面结合附图及实施例，对本新型的结构和特征做进一步描述。
图1是定义涂覆在荧光轮上荧光粉所需的范围。
图2是图1中涂覆在荧光轮上荧光粉的高度示意图。
图3是图2中将涂覆荧光粉的圆盘靠近外侧变为锥形的结构示意图。
具体实施方式
附图1-3是本新型的一种实施例，公开了一种用于镭射投影设备的荧光粉涂覆装置，通过具体实施例来反映：
图1是定义涂覆在荧光轮上荧光粉所需的范围。
图中A为荧光粉所需涂布的范围为1/4圆，其中R为荧光轮的外径，r为其荧光粉所需涂布的内径，荧光粉需要涂布的面积即为A，经计算后，面积如下所示：A=(πR²-πr²)/4。
图2是图1中涂覆在荧光轮上荧光粉的高度示意图。
A’指的是荧光粉的截面积，h指的是荧光粉的厚度，B指的是荧光轮之圆盘，因此，涂布在荧光轮上荧光粉的体积，经计算后如下所示：A’=A * h
图3是图2中将涂覆荧光粉的圆盘靠近外侧变为锥形的结构示意图，透过变更荧光轮圆盘的涂布截面积，来达到降低的成本的目的，在涂布的厚度h不变更的情况下，B1为荧光轮上变更后之圆盘，A1’为荧光粉的截面积等同于只需原本A’的1/2而已，经计算后，其体积如下所示：A1’=(A/2) * h
如此看来，改变荧光轮圆盘上的涂布截面积，是可以达到降低成本的目的。
尽管已经示出和描述了本新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。
