一种用于光刻机的防震装置及光刻机
技术领域
本发明涉及光刻机辅助防震装置，具体涉及一种用于光刻机的防震装置及光刻机。
背景技术
光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。意思是用光来制作一个图形(工艺)；在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。
其中工件主体基座顾名思义就是放工件的平台，由于光刻加工的精度要求高，所以需要一个能够具备减少内部振动传递至工件主体基座的装置。
发明内容
针对现有技术存在的不足，本发明提供一种用于光刻机的防震装置，能够减少光刻机工作时的振动，同时减少外部振动的传播，提高加工精度。
为了实现上述目的，本发明是通过如下的技术方案来实现：一种用于光刻机的防震装置，包括：磁悬防震机构，所述磁悬防震机构包括磁悬移动板、密封滑球和导向板，所述磁悬移动板内嵌在所述导向板中，所述磁悬移动板在所述导向板中滑动安装；所述密封滑球活动安装在磁悬移动板与导向板之间；所述磁悬移动板具有多个密封隔层，所述密封隔层位于磁悬移动板两侧位置，且上下两侧均有设置；所述密封隔层之间的距离，在远离导向板的方向，距离逐渐减少；所述导向板具有密封间层，所述密封间层位于导向板中，靠近磁悬移动板方向，且同时设置在上下两侧，所述密封间层位与所述密封隔层错位无接触相对安装；所述密封隔层具有磁性，所述密封间层具有磁性，所述密封间层位与所述密封隔层磁性相反。
进一步的，还包括主体基座与气压密封器，所述气压密封器固定安装在主体基座中，用于对磁悬防震机构中的磁悬移动板与导向板，进行气封。
进一步的，所述主体基座包括主体、支撑立柱、隔层地脚和吸震器，所述支撑立柱设置在主体下，位于主体四角处，所述隔层地脚固定安装在所述支撑立柱下，所述吸震器一面固定安装在所述支撑立柱上，吸震器另一面固定安装在所述主体下。
进一步的，所述吸震器包括壳体、释压孔与传递件，所述壳体中装入有防冻液、所述释压孔设在壳体表面，所述传递件固定设置在壳体内表面，并延伸至防冻液的液位中；
所述传递件具有传递铲面与固定段，所述固定段设置在靠近壳体内表面处，所述传递铲面设置在固定段上，用于将振动传递给防冻液中。
上述用于光刻机的防震装置的有益效果是：
(1)本发明结构合理简单、生产成本低、安装方便，功能齐全，能满足该光刻机对基础座的刚性需求和防微震要求，以及提供其配套设备的安装环境；
(2)通过磁悬方式，将用于光刻刻蚀的移动板进行悬浮，极大的减少了外部振动带来加工误差，进一步地提高了加工精度。
(3)在磁悬移动板具有多个密封隔层与导向板具有多个密封间层，两者两两间隔相对安装，且通过密封滑球防止其左右相撞，并通过密封隔层与密封间层的磁性相反，避免上下碰撞，减少损伤。
本发明的另一目的是提供一种光刻机，包括上述的用于光刻机的防震装置。
进一步的，该光刻机采用紫外光作为光源。
进一步的，所述紫外光的波长在10-365nm之间。
本发明中的光刻机，采用了本发明中提供的于光刻机的防震装置，由于减少了传递至工件主体基座的内部振动。工作更为稳定，良品律更高。
附图说明
为了更清楚地说明本发明具体实施方式的技术方案，下面将对具体实施方式中所需要使用的附图作简单地介绍。附图中，各部分并不一定按照实际的比例绘制。
图1为本发明实施例中的用于光刻机的防震装置的示意图；
图2为图1中的用于光刻机的防震装置的俯视示意图；
图3为图1中的用于光刻机的防震装置的主视示意图；
图4为图1中的用于光刻机的防震装置的左视示意图；
图5为图3中A处放大视示意图；
图6为图4中的B处放大视示意图；
附图标记：主体基座1；主体11；支撑立柱12；隔层地脚13；吸震器14；壳体141；释压孔142；传递件143；传递铲面1431；固定段1432；磁悬防震机构2；密封隔层211；密封间层231；磁悬移动板21；密封滑球22；导向板23；气压密封器3；磁悬装置4。
具体实施方式
为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明。但是本发明能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似改进，因此发明不受下面公开的具体实施的限制。
需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。
在本实施例中，详情参考图1-图6所示，提供一种用于光刻机的防震装置，能够减少在加工中的振动，提高加工精度，具体地包括主体基座1、气压密封器3和磁悬防震机构2，磁悬防震机构2与气压密封器3分别安装在主体基座1中，气压密封器3通过释放气体，在气压作用下使得磁悬防震机构2进行初步悬浮，当然了还包括磁悬防震机构2在主体基座1中本身的磁悬装置4，该磁悬装置4为常见的磁悬方式。
而磁悬防震机构2包括磁悬移动板21、密封滑球22和导向板23，磁悬移动板21的两侧分别内嵌在导向板23中，磁悬移动板21在导向板23中滑动安装，密封滑球22活动安装在磁悬移动板21与导向板23之间。
为了减少磁悬防震机构2用于密封的气流流体，在磁悬移动板21表面具有多个密封隔层211，密封隔层211位于磁悬移动板21两侧位置，且上下方向均有设置；通过隔层间隔的设置，延长密封气流的流程，为了使得各个间隔间的压力相同，在密封隔层211之间的距离，在远离导向板23的方向，距离逐渐减少。当然了在导向板23中还具有密封间层231，密封隔层211与密封间层231之间错位相对安装。
为了防止碰撞磁悬移动板21和导向板23，在密封隔层211具有磁性，密封间层231具有磁性，密封间层231与密封隔层211磁性相反。实际运用中，通过该方式进一步地避免了碰撞，减少损伤。
主体基座1具体的包括：主体11、支撑立柱12、隔层地脚13和吸震器14，支撑立柱12设置在主体11下，位于主体11四角处，隔层地脚13固定安装在所述支撑立柱12下，吸震器14一面固定安装在所述支撑立柱12上，吸震器14另一面固定安装在所述主体11下；该结构简单，支撑效果明显，同时为了继续减震，吸震器14包括壳体141、释压孔142与传递件143，壳体141中装入有防冻液、释压孔142设在壳体141表面，传递件143固定设置在壳体141内表面，并延伸至防冻液的液位中；实际运用中，壳体141接收到的振动，在经过释压孔142时，被减少，当然了壳体141表面的释压孔142具有多处，只有这样才能尽量的减少振动传递，同时在壳体141内的防冻液利用液体特性具有吸震功能，当然防冻液通过释压孔142注入进壳体141内。
传递件143具有传递铲面1431与固定段1432，固定段1432设置在靠近壳体141内表面处，传递铲面1431设置在固定段1432上，用于将振动传递给防冻液中。
综上所述，该一种用于光刻机的防震装置，结构合理简单、生产成本低、安装方便，功能齐全，能满足该光刻机对基础座的刚性需求和防微震要求，能够减少振动，进一步地提高加工精度。
本实施例中的防震装置可广泛的用于各类光刻系统中，形成完整的光刻机，这些光刻系统，可采用紫外光作为其光源，光源的波长可采用在10-365nm。
以上显示和描述了本发明的基本原理和主要特征和本发明的优点,对于本领域技术人员而言，显然本发明不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本发明。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本发明的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。
此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。
