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一种五水偏硅酸钠生产装置

2021-02-02 22:57:30

一种五水偏硅酸钠生产装置

  技术领域

  本实用新型涉及五水偏硅酸钠技术领域,尤其涉及一种五水偏硅酸钠生产装置。

  背景技术

  五水偏硅酸钠为结晶体,相对堆积密度为0.8-1.0g/ml,熔点72.2℃,相对分子量为212;易溶于水和稀碱液,不溶于醇和酸,水溶液呈碱性,露置空气中易吸湿潮解;去污能力强,PH缓冲能力大;具有良好的去垢乳化、分散、湿润、渗透等性能,五水偏硅酸钠在生产过程中,需要用到五水偏硅酸钠生产装置。

  当五水偏硅酸钠生产装置放置在不平整或凹陷等地面时,装置不能根据地形调节整体水平状态,导致五水偏硅酸钠生产装置的稳定性下降,影响正常生产。

  实用新型内容

  本实用新型的目的是为了解决五水偏硅酸钠装置不能根据地形调节整体水平状态,导致五水偏硅酸钠生产装置的稳定性下降,影响正常生产,而提出的一种五水偏硅酸钠生产装置。

  为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:

  一种五水偏硅酸钠生产装置,包括五水偏硅酸钠生产装置本体,所述五水偏硅酸钠生产装置本体的下端固定连接有四个呈矩形分布的支撑柱,所述支撑柱的下端设有插槽,所述插槽内滑动插设有移动块,所述移动块的下端贯穿插槽并固定连接有支撑块,所述移动块的两侧均固定连接有滑块,所述支撑柱的两侧均设有与插槽相通的滑口,所述滑块远离移动块的一端贯穿滑口,所述滑块内滑动插设有第一滑杆,所述第一滑杆的两端分别贯穿滑块并与滑口内相对的侧壁固定连接,所述支撑柱上套设有转盘,所述转盘与支撑柱之间为螺纹连接,所述转盘的下端均匀分布有多个第二凹槽,所述第二凹槽内设有第二滚珠,所述第二滚珠与滑块的上端侧壁相抵。

  优选地,所述插槽内相对的侧壁上均设有第一凹槽,所述第一凹槽内设有第一滚珠,所述第一滚珠与移动块的侧壁相抵。

  优选地,所述移动块内滑动插设有第二滑杆,所述第二滑杆的上端贯穿移动块并与插槽内顶端侧壁固定连接。

  优选地,所述第一滑杆上套设有弹簧,所述弹簧的两端分别与滑口的下端侧壁和滑块的上端侧壁相抵。

  优选地,所述插槽内顶端侧壁上固定连接有阻尼减震器。

  优选地,所述第一滑杆远离移动块的一侧雕刻有尺度表。

  优选地,所述支撑块的下端固定连接有橡胶垫。

  优选地,所述转盘的外侧壁上固定连接有把手。

  有益效果:

  1.使用中,当五水偏硅酸钠生产装置本体放置在不平整或凹陷等地面时,先根据地形调节每个支撑柱,首先转动转盘,转盘通过螺纹啮合的作用向下移动,通过转盘带动滑块移动,通过第二滚珠降低转盘与滑块之间转动时的阻力,通过第一滑杆提高滑块移动时的稳定性,滑块移动带动移动块,移动块带动支撑块,将支撑柱撑起,从而实现每个支撑柱的高度调节,本实用新型通过调节机构的设置,对五水偏硅酸钠生产装置本体的水平状态进行调节,从而适应不同地形;

  2.通过第一滚珠的设置,可降低移动块移动时的阻力,通过第二滑杆的设置,可提高移动块移动时的稳定性,通过弹簧的设置,可增强滑块移动时的稳定性,通过阻尼减震器的设置,可降低移动块移动至插槽内顶部时带来的冲击力,起到缓冲作用,通过尺度表的设置,可方便用户调节高度尺寸,通过橡胶垫的设置,可提高支撑块与地面之间的摩擦力,增强整体稳定性,通过把手的设置,可方便用户转动转盘。

  附图说明

  图1为本实用新型提出的一种五水偏硅酸钠生产装置的结构示意图;

  图2为本实用新型提出的一种五水偏硅酸钠生产装置的A处结构示意图;

  图3为本实用新型提出的一种五水偏硅酸钠生产装置支撑柱的侧视结构示意图。

  图中:1-移动块,2-支撑柱,3-第一滚珠,4-支撑块,5-橡胶垫,6-第一滑杆,7-滑块,8-把手,9-转盘,10-第二滑杆,11-五水偏硅酸钠生产装置本体,12-阻尼减震器,13-弹簧,14-第二滚珠,15-尺度表。

  具体实施方式

  下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。

  参照图1-3,一种五水偏硅酸钠生产装置,包括五水偏硅酸钠生产装置本体11,五水偏硅酸钠生产装置本体11的下端固定连接有四个呈矩形分布的支撑柱2,用于支撑五水偏硅酸钠生产装置本体11,支撑柱2的下端设有插槽,插槽内滑动插设有移动块1,用于带动支撑块4将支撑柱2撑起,移动块1的下端贯穿插槽并固定连接有支撑块4,用于支撑移动块1,移动块1的两侧均固定连接有滑块7,用于带动移动块1移动,支撑柱2的两侧均设有与插槽相通的滑口,滑块7远离移动块1的一端贯穿滑口,滑块7内滑动插设有第一滑杆6,用于提高滑块7移动时的稳定性,第一滑杆6的两端分别贯穿滑块7并与滑口内相对的侧壁固定连接,支撑柱2上套设有转盘9,用于带动滑块2移动,转盘9与支撑柱2之间为螺纹连接,转盘9的下端均匀分布有多个第二凹槽,第二凹槽内设有第二滚珠14,用于降低转盘9与滑块7之间的阻力,第二滚珠14与滑块7的上端侧壁相抵。

  本实施例中,插槽内相对的侧壁上均设有第一凹槽,第一凹槽内设有第一滚珠3,第一滚珠3与移动块1的侧壁相抵,用以降低移动块1移动时的阻力,移动块1内滑动插设有第二滑杆10,第二滑杆10的上端贯穿移动块1并与插槽内顶端侧壁固定连接,用以提高移动块1移动时的稳定性,第一滑杆6上套设有弹簧13,弹簧13的两端分别与滑口的下端侧壁和滑块7的上端侧壁相抵,用以增强滑块7移动时的稳定性,插槽内顶端侧壁上固定连接有阻尼减震器12,用以降低移动块1移动至插槽内顶部时带来的冲击力,起到缓冲作用,第一滑杆6远离移动块1的一侧雕刻有尺度表15,用以方便用户调节高度尺寸,支撑块4的下端固定连接有橡胶垫5,用以提高支撑块4与地面之间的摩擦力,增强整体稳定性,转盘9的外侧壁上固定连接有把手8,用以方便用户转动转盘9。

  本实施例中,当五水偏硅酸钠生产装置本体11放置在不平整或凹陷等地面时,先根据地形调节每个支撑柱2,首先转动转盘9,转盘9通过螺纹啮合的作用向下移动,通过转盘9带动滑块7移动,通过第二滚珠14降低转盘9与滑块7之间转动时的阻力,通过第一滑杆6提高滑块7移动时的稳定性,滑块7移动带动移动块1,移动块1带动支撑块4,将支撑柱2撑起,从而实现每个支撑柱2的高度调节,本实用新型通过调节机构的设置,对五水偏硅酸钠生产装置本体的水平状态进行调节,从而适应不同地形。

  以上所述,仅为本实用新型较佳的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

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