一种处理切割槽悬顶的扇形回采中深孔
技术领域
本实用新型涉及矿山悬顶处理技术领域，具体为一种处理切割槽悬顶的扇形回采中深孔。
背景技术
拉槽也叫开切割槽，切割槽的开掘质量直接关系到，崩矿时的自由面形成矿石损失贫化的大小。主要通过浅孔拉槽法、水平深孔拉槽法、垂直深孔拉槽法这三种方法进行拉槽。需要切割槽的采矿方法主要有：分段矿房法、阶段矿房法、分段崩落法。这些采矿方法回采矿石，能够顺利进行的前提条件就是切割槽的顺利拉槽，一旦在拉槽过程中出现悬顶故障将严重影响后续工序的进行。在拉槽爆破时，如果爆破效果不好，都属于崩落不完全，一般称其为“悬顶”。
当拉槽出现悬顶情况后，如果不进行处理继续爆破将无法按预期要求形成切割槽，而且情况会变得更糟，此时再进行处理难度更大、更不安全。一般处理方法为，人员进入悬顶下方的爆破空区内，利用气腿式凿岩机按浅孔落矿的方法，在未崩落的岩体上凿中深孔，然后再进行装药爆破。该方法在实际的应用过程中，需要人工开凿的孔位较多，费时费力，并且难以将悬顶一次性清理完成，需要多次处理，效率较低影响正常生产工作。
实用新型内容
为了解决上述的问题，本实用新型提供一种处理切割槽悬顶的扇形回采中深孔。
本实用新型解决其技术问题采用以下技术方案来实现：
一种处理切割槽悬顶的扇形回采中深孔，包括切割槽、回采凿岩巷以及回采中深孔，所述切割槽上方形成悬顶，所述回采凿岩巷上方向上掘进一条中深孔凿岩巷道，所述中深孔凿岩巷道内设置若干排回采中深孔，每排的回采中深孔间排布构成扇形回采中深孔，位于中深孔凿岩巷道最上部的回采中深孔的排面角为90°，其余的回采中深孔的排面角为60-70°。
优选的，所述中深孔凿岩巷道的排面角为80°。
优选的，所述扇形中深孔的边孔角在40-70°，孔深在5-8m，中深孔直径在55-70mm，相邻排的中深孔孔口排距在0.8-1.5m。
优选的，所述相邻排中深孔相互交错设置。
通过采用上述的技术方案，本实用新型的有益效果是：本实用新型解决了切割槽形成过程中出现悬顶后，通过在回采凿岩巷上方向上掘进一条中深孔凿岩巷道，能够降低悬顶的强度，再通过在中深孔凿岩巷道内钻出呈扇形布置且呈特定角度的回采中深孔，在爆破时能够将悬顶逐级的爆破掉，能够在尽量少打孔的情况下，将悬顶全部爆破，不会出现悬顶清理不完全的情况；处理悬顶效率高、安全性好、可操作性强、处理效果好等优点。
附图说明
图1为所述处理切割槽悬顶的扇形回采中深孔的示意图。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施方式中的附图，对本实用新型实施方式中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施方式，而不是全部的实施方式。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
实施例：
本实施例所述的处理切割槽1悬顶4的扇形回采中深孔3，其结构包括切割槽1、回采凿岩巷2以及回采中深孔3，如附图1所述，所述切割槽1上方形成悬顶4，所述回采凿岩巷2上方向上掘进一条中深孔凿岩巷道5，所述中深孔凿岩巷道5内设置有六排的回采中深孔3，每排的回采中深孔3间排布构成扇形回采中深孔3，位于中深孔凿岩巷道5最上部的回采中深孔3(a)的排面角为90°，其余的回采中深孔3(b、c、d、e、f)的排面角为70°,所述中深孔凿岩巷道5的排面角为80°；所述扇形中深孔的边孔角在60°，孔深在8m，中深孔直径在70mm，相邻排的中深孔孔口排距在1.3m；所述相邻排中深孔相互交错设置。
当切割槽1上出现悬顶4时，回采凿岩巷2与切割槽1垂直设置，在回采凿岩巷2上方向上掘进一条中深孔凿岩巷道5，并在中深孔凿岩巷道5安装悬梯，钻孔人员利用悬梯上下移动，在中深孔凿岩巷道5内按边孔角在60°，孔深在8m，中深孔直径在70mm进行开凿出扇形中深孔，利用装药器向中深孔内填装炸药，扇形回采中深孔3的中深孔(a、b、c、d、e、f)中装药长度依次是3m、4m、4m、6m、7m、8m用18m毫秒导爆管连线，从f点起爆，依次起爆e、d、c、b点，最后起爆a点，进行逐排进行微差爆破，一次爆破将悬顶4蹦落。
在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
虽然在上文中已经参考实施例对本实用新型进行了描述，然而在不脱离本实用新型的范围的情况下，可以对其进行各种改进并且可以用等效物替换其中的部件。尤其是，只要不存在结构冲突，本实用新型所披露的实施例中的各项特征均可通过任意方式相互结合起来使用，在本说明书中未对这些组合的情况进行穷举性的描述仅仅是出于省略篇幅和节约资源的考虑。因此，本实用新型并不局限于文中公开的特定实施例，而是包括落入权利要求的范围内的所有技术方案。
