一种具有金属闪烁效果的陶瓷砖及其制备方法
技术领域
本发明涉及建筑陶瓷技术领域，特别涉及一种具有金属闪烁效果的陶瓷砖及其制备方法。
背景技术
目前生产的抛晶、抛釉类产品，其表面覆盖着一层通体均匀透明的玻璃釉层，装饰效果相对简单。而我们常见的天然石材，其表面会带有一些晶体颗粒，呈现星星点点的金属闪烁效果。现有的陶瓷企业在仿制上述天然石材时，会在釉浆里掺杂云母片、金沙干粒、合金颗粒等材料来模拟天然石材表面的金属闪烁效果。
但云母片、金沙干粒和合金颗粒掺杂进釉料中，以仿制天然石材时，会出现较多的问题：(1)云母片不耐高温，在瓷砖的烧成过程会使大部分云母失去光泽，烧后釉层会出现黑点，降低产品的装饰效果。同时云母片形状呈片状，比较低，在混釉时，不易与釉料均匀混合。(2)混合在釉浆里的合金颗粒，在高温烧成时，合金颗粒的表面会形成黑色的氧化物。只有漂浮在釉层表面的合金颗粒在后期的抛光处理时可以抛掉表面黑色氧化物，形成金属闪烁颗粒，而在釉层中间无法抛到的合金颗粒成为黑点，降低了产品的装饰效果。(3)金沙干粒添加在釉料中，可使釉面的光泽度提高，其是通过与玻璃釉层不同的亮哑对比形成类似的金属效果，但其主要为镜面反射，与真实石材表面晶体多角度金属闪烁的效果不同，金属闪烁效果欠佳。
可见，在陶瓷砖仿制天然石材表面的金属闪烁效果方面，现有技术还有待提高和改进。
发明内容
鉴于上述现有技术的不足之处，本发明的目的在于提供一种具有金属闪烁效果的陶瓷砖及其制备方法，克服现有陶瓷砖在仿制天然石材表面金属闪烁效果上的不足。
为了达到上述目的，本发明采取了以下技术方案：
一种具有金属闪烁效果的陶瓷砖，其结构自下而上包括坯体层、面釉层、图案装饰层和表面装饰层；所述表面装饰层为分散有碳化硅颗粒的透明釉层。
所述的具有金属闪烁效果的陶瓷砖中，所述碳化硅颗粒为粒径为30-200目，纯度≥95％的六方晶系晶体。
所述的具有金属闪烁效果的陶瓷砖中，所述表面装饰层包括由透明干粒、透明干粒釉或全抛釉的任意一种施加在图案装饰层上形成的载体层和分散于所述载体层的碳化硅颗粒；所述透明干粒釉包括所述透明干粒、悬浮剂和水；碳化硅颗粒按透明干粒重量或全抛釉干粉重量的0.5-5％添加到所述载体层中。
所述的具有金属闪烁效果的陶瓷砖中，所述全抛釉包括以下重量份的组份：
钾长石15-30份，钠长石5-20份，高岭土8-12份，煅烧高岭土10-15份，碳酸钡6-10份，方解石13-18份，白云石6-10份，烧滑石2-6份，氧化锌3-5份，氧化铝1.5-2.5份。
所述的具有金属闪烁效果的陶瓷砖中，所述全抛釉按重量份计算还包括如下组份的添加剂：
羧甲基纤维素钠0.15份，三聚磷酸钠0.35份，水38份。
所述的具有金属闪烁效果的陶瓷砖中，所述透明干粒釉中，透明干粒：水：悬浮剂的重量比为为1:(0.25-0.35)：(0.45-0.55)
所述的具有金属闪烁效果的陶瓷砖中，所述透明干粒的粒径为30-250目，透明干粒按重量份计：
SiO2 50-55份，Al2O3 15-20份，K2O 4-8份，Na2O 1-4份，CaO 6-8份，SrO 3-4份，ZnO2 5份，CaF2 1份。
本发明还提供了一种所述的具有金属闪烁效果的陶瓷砖的制备方法，包括如下步骤：
(1)通过压机将坯体层压制成型，坯体层进入到干燥窑中进行干燥；所述坯体层的干燥温度为120-200℃；
(2)在干燥后的坯体层表面施加面釉，形成面釉层；面釉层的厚度为0.2-0.6mm；
(3)在所述面釉层上装饰图案，形成图案装饰层；图案装饰层的厚度为0.1-0.5mm；
(4)在所述图案装饰层表面施加分散有所述碳化硅颗粒的表面装饰层；表面装饰层的厚度为0.5-2mm；
(5)施有表面装饰层的陶瓷砖坯入窑烧制，烧制温度1160-1230℃，入窑烧制时间为50-60min，经过烧制使表面装饰层熔融形成分散有碳化硅颗粒的透明釉层；
(6)对烧制出的陶瓷砖半成品表面的透明釉层进行抛光处理，获得表面具有金属闪烁效果的陶瓷砖。
所述的具有金属闪烁效果的陶瓷砖的制备方法中，步骤(1)中的坯体层的干燥时间为15-20min。
有益效果：
本发明提供了一种具有金属闪烁效果的陶瓷砖及其制备方法，通过在图案装饰上施加烧制后能变为透明釉层的表面装饰层，并在表面装饰层中引入碳化硅颗粒，陶瓷砖烧制后，表面装饰层中的碳化硅颗粒经过高温氧化后无明显反应，晶体颗粒各晶面仍能够反射并折射光源，从而使产品经过抛光处理后陶瓷砖表面仍然具有类似金属的金属闪烁效果，其装饰效果与天然石材接近。同时，掺有碳化硅颗粒的表面装饰层，硬度达到4级，耐磨度达到3级1500转；耐化学腐蚀稳定性能稳定，陶瓷砖表面耐低浓度酸和耐低浓度碱达到GLA级，耐高浓度酸和高浓度碱达到GHA级，耐家庭化学试剂和游泳池盐类达到GA级。
附图说明
图1为本发明提供的具有金属闪烁效果的陶瓷砖的制备流程图。
具体实施方式
本发明提供一种具有金属闪烁效果的陶瓷砖及其制备方法，为使本发明的目的、技术方案及效果更加清楚、明确，以下参照附图并举实施例对本发明进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
如图1所示，一种具有金属闪烁效果的陶瓷砖，其结构自下而上包括坯体层、面釉层、图案装饰层和表面装饰层；所述表面装饰层为分散有碳化硅颗粒的透明釉层。
所述碳化硅颗粒的制备原料主要为英砂、石油焦(或煤焦)、木屑；将上述原料放入电阻炉中高温冶炼，冶炼温度范围为2500-2700℃，经过24h高温冶炼后，将得到的产物从电阻炉中取出，根据晶体的形状从产物中分选出属于六方晶系的碳化硅晶体颗粒(α-SiC)。前述碳化硅晶体再经过分级、粗碎、细碎、化学处理、干燥、筛分以及磁选工序后，便可获得所需的纯度在95％以上，粒径为30-200目的碳化硅颗粒，并将其作为闪烁剂添加到表面装饰层中。
碳化硅晶体的折射率非常高，其中，六方晶系的碳化硅晶体(α-SiC))折射率一般为3.217g/cm3，同时碳化硅的膨胀系数不大，耐高温，因此将碳化硅颗粒添加到表面装饰层中，当表面装饰层烧制成透明釉层时，碳化硅颗粒仍能够保持结构和性能的稳定，从而借助碳化硅颗粒，使烧制成的透明釉层中保持良好的金属闪烁效果；此外由于碳化硅晶体为六方晶系晶体，因此其晶体颗粒多面能够反射并折射光源，从而更接近天然石材表面的晶体金属闪烁效果。
优选的，所述表面装饰层包括由透明干粒、透明干粒釉或全抛釉的任意一种施加在图案装饰层上形成的载体层和分散于所述载体层的碳化硅颗粒；碳化硅颗粒按透明干粒重量或全抛釉干粉重量的0.5-5％添加到所述载体层中。
具体的，当所述载体层为全抛釉层时，全抛釉可按如下重量份数配置，但不只限于下述配方的全抛釉：
钾长石15-30份，钠长石5-20份，高岭土8-12份，煅烧高岭土10-15份，碳酸钡6-10份，方解石13-18份，白云石6-10份，烧滑石2-6份，氧化锌3-5份，氧化铝1.5-2.5份；
添加剂：羧甲基纤维素钠0.15份，三聚磷酸钠0.35份，水38份。
羧甲基纤维素钠可以调整釉浆的粘度，并使釉浆处于稳定的分散状态；而三聚磷酸钠可以调整釉浆的粘度，并改善釉浆的触变性。通过上述助剂的协同作用，可使配置出的全抛釉分散性和触变性最好，碳化硅颗粒搅拌均匀后能够更好的分散于全抛釉中。分散有碳化硅颗粒的全抛釉施加到图案装饰层上后，形成的表面装饰层中碳化硅颗粒能够分布均匀，瓷砖经过烧制后表面产生的金属闪烁效果分布均匀。
具体的，当所述载体层为透明干粒釉层时，透明干粒釉包括悬浮剂、水和所述60-250目的透明干粒。优选的，干粒釉按如下重量比进行配置，其中，透明干粒：水：悬浮剂的重量比为为1:(0.25-0.35)：(0.45-0.55)
按上述重量比配置的干粒釉，经过搅拌均匀后的干粒和碳化硅颗粒在悬浮液中的分散悬浮性最好。当干粒釉施加在图案装饰层上后的，表面装饰层中的碳化硅颗粒和干粒能够均匀分布在图案装饰层上。
具体的，所述载体层为由透明干粒直接施加在图案装饰层上形成时，碳化硅颗粒按干粒重量的0.5％-5％直接添加到透明干粒中；透明干粒的粒径为30-250目，经过搅拌机搅拌机械混合均匀后，可直接施加在图案装饰层上。
具体的，透明干粒可按重量份计，但不只限于下述配方的透明干粒：
SiO2 50-55份；Al2O3 15-20份；K2O 4-8份；Na2O 1-4份；CaO 6-8份；SrO 3-4份；ZnO2 5份；CaF2 1份。
按上述组成获得透明干粒的始熔温度在1100-1140℃范围内，本实施方式中可将通过上述组成获得的具有不同始熔温度的干粒进行组合搭配，以在透明干粒釉中使用或直接施加在图案装饰层上。
请参阅图1，一种制备所述具有金属闪烁效果的陶瓷砖的制备方法，包括如下步骤：
(1)通过压机将坯体层压制成型，坯体层进入到干燥窑中进行干燥；所述坯体层的干燥温度为120-200℃；
(2)在干燥后的坯体层表面施加面釉，形成面釉层；面釉层的厚度为0.2-0.6mm；
(3)在所述面釉层上装饰图案，形成图案装饰层；图案装饰层的厚度为0.1-0.5mm；
(4)在所述图案装饰层表面施加分散有所述碳化硅颗粒的表面装饰层；表面装饰层的厚度为0.5-2mm；
(5)施有表面装饰层的陶瓷砖坯入窑烧制，烧制温度1160-1230℃，经过烧制使表面装饰层熔融形成分散有碳化硅颗粒的透明釉层。
(6)对烧制出的陶瓷砖半成品表面的透明釉层进行抛光处理，获得表面具有金属闪烁效果的陶瓷砖。
具体的，上述步骤(1)中，压机压力与压制瓷砖产品的尺寸有关，压制坯体层的规格为800mm*800mm时，压机压力为2800±300T；当压制坯体层的规格为900mm*900mm时，压机压力为3000±300T；而当压制坯体层的规格为900mm*1800mm时，压机压力为5500±300T。
具体的，上述步骤(2)可通过淋釉钟罩以淋釉的方式或通过喷釉机以喷釉的方式施加面釉。其中，面釉为现有厂家常用面釉，其用于遮盖坯体的颜色，以使图案装饰层和表面装饰层的装饰效果更好的呈现。
具体的，上述步骤(2)还包括在施加面釉之前对坯体表面进行除尘。压机压制出坯体层后，坯体层表面容易粘附由压机模具引入的坯体残料，通过对坯体层表面进行除尘处理，当对坯体层施加面釉时，可减少釉面缺陷，能够维持产品的质量稳定。
具体的，上述步骤(3)可通过丝网印刷、辊筒印刷或喷墨机打印的方式印刷或打印图案装饰层。
具体的，上述步骤(4)可通过淋釉、喷釉或干法布料的方式在图案装饰层上施加掺入有碳化硅颗粒的全抛釉、透明干粒釉或透明干粒以形成表面装饰层。并进一步的，当形成的表面装饰层为全抛釉层时，可通过喷釉或淋釉的方式将表面装饰层施加于图案装饰层上；形成的表面装饰层为透明干粒釉层时，可通过淋釉的方式将表面装饰层施加于图案装饰层上；而当表面装饰层为由干法混合的透明干粒和碳化硅颗粒组成时，可通过干粒布料机或者刮板式布料机将表面装饰层布于图案装饰层上。
具体的，上述步骤(1)中，坯体层的干燥时间为15-20min。经过压机压制成型的坯体含水率较高，同时，坯体层在入窑烧制前，施有釉料和其它装饰层，通过干燥窑对陶瓷砖坯进行干燥，并干燥一定时间，可时坯体层的含水率降低，避免陶瓷砖在烧制过程中出现炸砖的情况。但坯体干燥的时间不能过长，坯体中粘土类原料较多，干燥时间长反而会使坯体层收缩变形严重。
具体的，上述步骤(5)中，施有表面装饰层的坯体层的入窑烧制时间为50-60min，可使坯体层和施加在坯体上的面釉以及图案、表面装饰层能够有充足的反应时间。
上述步骤(6)中，所述抛光处理包括对陶瓷砖表面进行粗抛、中抛和精抛加工。掺入有碳化硅颗粒的表面装饰层经高温烧制后形成的透明釉层表面较硬，为了使较硬的透明釉层表面更易进行抛光处理，保证抛后砖面平整，并便于中抛和精抛加工顺利进行，较佳的，本实施方式中，抛光处理所需的粗抛磨块组数多于中抛和精抛所需磨块组数，其中，粗抛加工所需磨块组目数为180-400目，中抛加工所需磨块组目数为600-1000目，精抛加工所需磨块组目数为1200-6000目。具体的，优选实施方式中，抛光机中磨块组的安放要求如下表所示，表中所示序号为抛光机中磨块组的安放编号。
通过上述方法制备的陶瓷砖产品，表面装饰层中的碳化硅颗粒高温氧化后无明显反应，产品经过抛光处理后陶瓷砖表面仍然具有类似金属的金属闪烁效果，其装饰效果与天然石材接近。同时，掺有碳化硅颗粒的表面装饰层，硬度达到4级，耐磨度达到3级1500转；耐化学腐蚀稳定性能稳定，陶瓷砖表面耐低浓度酸和耐低浓度碱达到GLA级，耐高浓度酸和高浓度碱达到GHA级，耐家庭化学试剂和游泳池盐类达到GA级。
实施例一：
一种具有金属闪烁效果的陶瓷砖，其自下而上设置坯体层、面釉层、图案装饰层和表面装饰层；所述表面装饰层为分散有碳化硅颗粒的透明釉层。
其中，表面装饰层以全抛釉层作为载体层；全抛釉釉浆按如下重量份数配置：钾长石28份，钠长石7份，高岭土10份，煅烧高岭土13份，碳酸钡8份，方解石15份，白云石8份，烧滑石5份，氧化锌4份，氧化铝2份，羧甲基纤维素钠0.15份；三聚磷酸钠0.35份，水37份。将上述配方入球磨机球磨，控制球磨后釉浆的比重范围为1.85-1.95,筛余范围为0.3-0.6。取出达到上述要求后的釉浆，并导入搅拌桶中，缓慢加入1重量份的碳化硅颗粒，通过搅拌叶片缓慢搅拌至碳化硅颗粒混合均匀后以待施加到图案装饰层上。
一种制备所述具有金属闪烁效果的陶瓷砖的制备方法，包括如下步骤：
(1)通过压机将坯体层压制成型，压机压力为2800T，坯体层进入到干燥窑中进行干燥；所述坯体层的干燥温度为150℃，干燥时间20min；
(2)在干燥后的坯体层表面施加面釉，形成面釉层；面釉层的厚度为0.4mm；
(3)在所述面釉层上装饰图案，形成图案装饰层；图案装饰层的厚度为0.3mm；
(4)在所述图案装饰层表面施加分散有所述碳化硅颗粒的表面装饰层；表面装饰层的厚度为1.5mm；
(5)施有表面装饰层的坯体层入窑烧制，烧制温度1200℃，入窑炉烧时间50min，经过烧制使表面装饰层熔融形成分散有碳化硅颗粒的透明釉层；
(6)对烧制出的陶瓷砖半成品表面的透明釉层进行抛光处理，获得表面具有金属闪烁效果的抛釉陶瓷砖。
通过上述方法制备的具有金属闪烁效果的陶瓷砖产品，表面装饰层中的碳化硅颗粒高温氧化后无明显反应，产品经过抛光处理后陶瓷砖表面仍然具有类似金属的金属闪烁效果，其装饰效果与天然石材接近。同时，掺有碳化硅颗粒的表面装饰层，硬度达到4级，耐磨度达到3级1500转；耐化学腐蚀稳定性能稳定，陶瓷砖表面耐低浓度酸和耐低浓度碱达到GLA级，耐高浓度酸和高浓度碱达到GHA级，耐家庭化学试剂和游泳池盐类达到GA级。
实施例二：
一种具有金属闪烁效果的陶瓷砖，其自下而上设置坯体层、面釉层、图案装饰层和表面装饰层；所述表面装饰层为分散有碳化硅颗粒的透明釉层。
其中，表面装饰层以全抛釉层作为载体层；全抛釉釉浆按如下重量份数配置：钾长石28份，钠长石7份，高岭土10份，煅烧高岭土13份，碳酸钡8份，方解石15份，白云石8份，烧滑石5份，氧化锌4份，氧化铝2份，羧甲基纤维素钠0.15份；三聚磷酸钠0.35份，水37份。将上述配方入球磨机球磨，控制球磨后釉浆的比重范围为1.85-1.95,筛余范围为0.3-0.6。取出达到上述要求后的釉浆，并导入搅拌桶中，缓慢加入3重量份的碳化硅颗粒，通过搅拌叶片缓慢搅拌至碳化硅颗粒混合均匀后以待施加到图案装饰层上。
一种制备所述具有金属闪烁效果的陶瓷砖的制备方法，包括如下步骤：
(1)通过压机将坯体层压制成型，压机压力为2800T，坯体层进入到干燥窑中进行干燥；所述坯体层的干燥温度为180℃，干燥时间20min；
(2)在干燥后的坯体层表面施加面釉，形成面釉层；面釉层的厚度为0.5mm；
(3)在所述面釉层上装饰图案，形成图案装饰层；图案装饰层的厚度为0.3mm；
(4)在所述图案装饰层表面施加分散有所述碳化硅颗粒的表面装饰层；表面装饰层的厚度为1.2mm；
(5)施有表面装饰层的坯体层入窑烧制，烧制温度1210℃，入窑炉烧时间50min，经过烧制使表面装饰层熔融形成分散有碳化硅颗粒的透明釉层；
(6)对烧制出的陶瓷砖半成品表面的透明釉层进行抛光处理，获得表面具有金属闪烁效果的抛釉陶瓷砖。
通过上述方法制备的具有金属闪烁效果的陶瓷砖产品，表面装饰层中的碳化硅颗粒高温氧化后无明显反应，产品经过抛光处理后陶瓷砖表面仍然具有类似金属的金属闪烁效果，其装饰效果与天然石材接近。同时，掺有碳化硅颗粒的表面装饰层，硬度达到4级，耐磨度达到3级1500转；耐化学腐蚀稳定性能稳定，陶瓷砖表面耐低浓度酸和耐低浓度碱达到GLA级，耐高浓度酸和高浓度碱达到GHA级，耐家庭化学试剂和游泳池盐类达到GA级。
实施例三：
一种具有金属闪烁效果的陶瓷砖，其自下而上设置坯体层、面釉层、图案装饰层和表面装饰层；所述表面装饰层为分散有碳化硅颗粒的透明釉层。
其中，表面装饰层以全抛釉层作为载体层；全抛釉釉浆按如下重量份数配置：钾长石30份，钠长石8份，高岭土10份，煅烧高岭土12份，碳酸钡8份，方解石13份，白云石8份，烧滑石6份，氧化锌4份，氧化铝1份，羧甲基纤维素钠0.15份；三聚磷酸钠0.35份，水37份。将上述配方入球磨机球磨，控制球磨后釉浆的比重范围为1.85-1.95,筛余范围为0.3-0.6。取出达到上述要求后的釉浆，并导入搅拌桶中，缓慢加入1重量份的碳化硅颗粒，通过搅拌叶片缓慢搅拌至碳化硅颗粒混合均匀后以待施加到图案装饰层上。
一种制备所述具有金属闪烁效果的陶瓷砖的制备方法，包括如下步骤：
(1)通过压机将坯体层压制成型，压机压力为2800T，坯体层进入到干燥窑中进行干燥；所述坯体层的干燥温度为200℃，干燥时间15min；
(2)在干燥后的坯体层表面施加面釉，形成面釉层；面釉层的厚度为0.5mm；
(3)在所述面釉层上装饰图案，形成图案装饰层；图案装饰层的厚度为0.3mm；
(4)在所述图案装饰层表面施加分散有所述碳化硅颗粒的表面装饰层；表面装饰层的厚度为1.6mm；
(5)施有表面装饰层的坯体层入窑烧制，烧制温度1190℃，入窑炉烧时间50min，经过烧制使表面装饰层熔融形成分散有碳化硅颗粒的透明釉层；
(6)对烧制出的陶瓷砖半成品表面的透明釉层进行抛光处理，获得表面具有金属闪烁效果的抛釉陶瓷砖。
通过上述方法制备的具有金属闪烁效果的陶瓷砖产品，表面装饰层中的碳化硅颗粒高温氧化后无明显反应，产品经过抛光处理后陶瓷砖表面仍然具有类似金属的金属闪烁效果，其装饰效果与天然石材接近。同时，掺有碳化硅颗粒的表面装饰层，硬度达到4级，耐磨度达到3级1500转；耐化学腐蚀稳定性能稳定，陶瓷砖表面耐低浓度酸和耐低浓度碱达到GLA级，耐高浓度酸和高浓度碱达到GHA级，耐家庭化学试剂和游泳池盐类达到GA级。
实施例四：
一种具有金属闪烁效果的陶瓷砖，其自下而上设置坯体层、面釉层、图案装饰层和表面装饰层；所述表面装饰层为分散有碳化硅颗粒的透明釉层。
其中，表面装饰层以透明干粒釉层作为载体层，透明干粒按重量份计：
SiO2 50份；Al2O3 20份；K2O 8份；Na2O 4份；CaO 8份；SrO 4份；ZnO2 5份；CaF2 1份。
进一步的，透明干粒釉按如下重量份数配置：悬浮剂27份，水：14份，透明干粒55份；其中透明干粒粒径为60-250目，将上述原材料依次加入搅拌桶后，再引入1重量份的碳化硅化硅颗粒混合均匀后以待施加到图案装饰层上。
一种制备所述具有金属闪烁效果的陶瓷砖的制备方法，包括如下步骤：
(1)通过压机将坯体层压制成型，压机压力为2800T，坯体层进入到干燥窑中进行干燥；所述坯体层的干燥温度为160℃，干燥时间20min；
(2)在干燥后的坯体层表面施加面釉，形成面釉层；面釉层的厚度为0.4mm；
(3)在所述面釉层上装饰图案，形成图案装饰层；图案装饰层的厚度为0.3mm；
(4)在所述图案装饰层表面施加分散有所述碳化硅颗粒的表面装饰层；表面装饰层的厚度为1.8mm；
(5)施有表面装饰层的坯体层入窑烧制，烧制温度1190℃，入窑炉烧时间50min，经过烧制使表面装饰层熔融形成分散有碳化硅颗粒的透明釉层；
(6)对烧制出的陶瓷砖半成品表面的透明釉层进行抛光处理，获得表面具有金属闪烁效果的抛晶陶瓷砖。
通过上述方法制备的具有金属闪烁效果的陶瓷砖产品，表面装饰层中的碳化硅颗粒高温氧化后无明显反应，产品经过抛光处理后陶瓷砖表面仍然具有类似金属的金属闪烁效果，其装饰效果与天然石材接近。同时，掺有碳化硅颗粒的表面装饰层，硬度达到4级，耐磨度达到3级1500转；耐化学腐蚀稳定性能稳定，陶瓷砖表面耐低浓度酸和耐低浓度碱达到GLA级，耐高浓度酸和高浓度碱达到GHA级，耐家庭化学试剂和游泳池盐类达到GA级。
实施例五：
一种具有金属闪烁效果的陶瓷砖，其自下而上设置坯体层、面釉层、图案装饰层和表面装饰层；所述表面装饰层为分散有碳化硅颗粒的透明釉层。
其中，表面装饰层以透明干粒釉层作为载体层，透明干粒按重量份计，组成如下：
SiO2 55份；Al2O3 20份；K2O 8份；Na2O 1份；CaO 7份；SrO 3份；ZnO2 5份；CaF2 1份。
进一步的，透明干粒釉按如下重量份数配置：悬浮剂25份，水18份，透明干粒55份；其中透明干粒粒径为60-250目，将上述原材料依次加入搅拌桶后，再引入3重量份的碳化硅化硅颗粒混合均匀后以待施加到图案装饰层上。
一种制备所述具有金属闪烁效果的陶瓷砖的制备方法，包括如下步骤：
(1)通过压机将坯体层压制成型，压机压力为2800T，坯体层进入到干燥窑中进行干燥；所述坯体层的干燥温度为160℃，干燥时间20min；
(2)在干燥后的坯体层表面施加面釉，形成面釉层；面釉层的厚度为0.5mm；
(3)在所述面釉层上装饰图案，形成图案装饰层；图案装饰层的厚度为0.4mm；
(4)在所述图案装饰层表面施加分散有所述碳化硅颗粒的表面装饰层；表面装饰层的厚度为1.5mm；
(5)施有表面装饰层的坯体层入窑烧制，烧制温度1160℃，入窑炉烧时间50min，经过烧制使表面装饰层熔融形成分散有碳化硅颗粒的透明釉层；
(6)对烧制出的陶瓷砖半成品表面的透明釉层进行抛光处理，获得表面具有金属闪烁效果的抛晶陶瓷砖。
通过上述方法制备的具有金属闪烁效果的陶瓷砖产品，表面装饰层中的碳化硅颗粒高温氧化后无明显反应，产品经过抛光处理后陶瓷砖表面仍然具有类似金属的金属闪烁效果，其装饰效果与天然石材接近。同时，掺有碳化硅颗粒的表面装饰层，硬度达到4级，耐磨度达到3级1500转；耐化学腐蚀稳定性能稳定，陶瓷砖表面耐低浓度酸和耐低浓度碱达到GLA级，耐高浓度酸和高浓度碱达到GHA级，耐家庭化学试剂和游泳池盐类达到GA级。
实施例六：
一种具有金属闪烁效果的陶瓷砖，其自下而上设置坯体层、面釉层、图案装饰层和表面装饰层；所述表面装饰层为分散有碳化硅颗粒的透明釉层。
其中，表面装饰层以透明干粒釉层作为载体层，透明干粒由具有不同始熔温度的两种透明干粒组成，其中，透明干粒1按重量份计，组成如下：
SiO2 50份；Al2O3 20份；K2O 8份；Na2O 4份；CaO 8份；SrO 4份；ZnO2 5份；CaF2 1份。
透明干粒2按重量份计，组成如下组成如下：
SiO2 55份；Al2O3 20份；K2O 8份；Na2O 1份；CaO 7份；SrO 3份；ZnO2 5份；CaF2 1份。
进一步的，透明干粒釉按如下重量份数配置：悬浮剂26份，水16份，透明干粒1 25份，透明干粒2 30份；其中透明干粒1和透明干粒2的粒径均为60-250目，将上述原材料依次加入搅拌桶后，再引入3重量份的碳化硅化硅颗粒混合均匀后以待施加到图案装饰层上。
一种制备所述具有金属闪烁效果的陶瓷砖的制备方法，包括如下步骤：
(1)通过压机将坯体层压制成型，压机压力为2800T，坯体层进入到干燥窑中进行干燥；所述坯体层的干燥温度为160℃，干燥时间20min；
(2)在干燥后的坯体层表面施加面釉，形成面釉层；面釉层的厚度为0.4mm；
(3)在所述面釉层上装饰图案，形成图案装饰层；图案装饰层的厚度为0.5mm；
(4)在所述图案装饰层表面施加分散有所述碳化硅颗粒的表面装饰层；表面装饰层的厚度为1.5mm；
(5)施有表面装饰层的坯体层入窑烧制，烧制温度1175℃，入窑炉烧时间50min，经过烧制使表面装饰层熔融形成分散有碳化硅颗粒的透明釉层。
(6)对烧制出的陶瓷砖半成品表面的透明釉层进行抛光处理，获得表面具有金属闪烁效果的抛晶陶瓷砖。
通过上述方法制备的具有金属闪烁效果的陶瓷砖产品，表面装饰层中的碳化硅颗粒高温氧化后无明显反应，产品经过抛光处理后陶瓷砖表面仍然具有类似金属的金属闪烁效果，其装饰效果与天然石材接近。同时，掺有碳化硅颗粒的表面装饰层，硬度达到4级，耐磨度达到3级1500转；耐化学腐蚀稳定性能稳定，陶瓷砖表面耐低浓度酸和耐低浓度碱达到GLA级，耐高浓度酸和高浓度碱达到GHA级，耐家庭化学试剂和游泳池盐类达到GA级。
实施例七：
一种具有金属闪烁效果的陶瓷砖，其自下而上设置坯体层、面釉层、图案装饰层和表面装饰层；所述表面装饰层为分散有碳化硅颗粒的透明釉层。
其中，表面装饰层为掺有碳化硅颗粒的透明干粒层，透明干粒按重量份计，组成如下：
SiO2 50份；Al2O3 20份；K2O 8份；Na2O 4份；CaO 8份；SrO 4份；ZnO2 5份；CaF2 1份。
进一步的，透明干粒层按如下重量份配置：100份透明干粒；1份碳化硅颗粒。其中，透明干粒粒径为30-250目，上述原料混合均匀后通过干法布料的方式施加在图案装饰层上。
一种制备所述具有金属闪烁效果的陶瓷砖的制备方法，包括如下步骤：
(1)通过压机将坯体层压制成型，压机压力为2800T，坯体层进入到干燥窑中进行干燥；所述坯体层的干燥温度为140℃，干燥时间20min；
(2)在干燥后的坯体层表面施加面釉，形成面釉层；面釉层的厚度为0.5mm；
(3)在所述面釉层上装饰图案，形成图案装饰层；图案装饰层的厚度为0.4mm；
(4)在所述图案装饰层表面施加分散有所述碳化硅颗粒的表面装饰层；表面装饰层的厚度为1mm；
(5)施有表面装饰层的坯体层入窑烧制，烧制温度1165℃，入窑炉烧时间50min，经过烧制使表面装饰层熔融形成分散有碳化硅颗粒的透明釉层；
(6)对烧制出的陶瓷砖半成品表面的透明釉层进行抛光处理，获得表面具有金属闪烁效果的抛晶陶瓷砖。
通过上述方法制备的具有金属闪烁效果的陶瓷砖产品，表面装饰层中的碳化硅颗粒高温氧化后无明显反应，产品经过抛光处理后陶瓷砖表面仍然具有类似金属的金属闪烁效果，其装饰效果与天然石材接近。同时，掺有碳化硅颗粒的表面装饰层，硬度达到4级，耐磨度达到3级1500转；耐化学腐蚀稳定性能稳定，陶瓷砖表面耐低浓度酸和耐低浓度碱达到GLA级，耐高浓度酸和高浓度碱达到GHA级，耐家庭化学试剂和游泳池盐类达到GA级。
实施例八：
一种具有金属闪烁效果的陶瓷砖，其自下而上设置坯体层、面釉层、图案装饰层和表面装饰层；所述表面装饰层为分散有碳化硅颗粒的透明釉层。
其中，表面装饰层为掺有碳化硅颗粒的透明干粒层，并且透明干粒由具有不同始熔温度的两种透明干粒组成，其中，透明干粒1按重量份计，组成如下：
SiO2 50份；Al2O3 20份；K2O 8份；Na2O 4份；CaO 8份；SrO 4份；ZnO2 5份；CaF2 1份。
透明干粒2按重量份计，组成如下：
SiO2 55份；Al2O3 20份；K2O 8份；Na2O 1份；CaO 7份；SrO 3份；ZnO2 5份；CaF2 1份。
进一步的，透明干粒层按如下重量份配置：60份透明干粒1，40份透明干粒2，1份碳化硅颗粒。其中，透明干粒1和透明干粒2粒径均为30-250目，上述原料混合均匀后通过干法布料的方式施加在图案装饰层上。
一种制备所述具有金属闪烁效果的陶瓷砖的制备方法，包括如下步骤：
(1)通过压机将坯体层压制成型，压机压力为2800T，坯体层进入到干燥窑中进行干燥；所述坯体层的干燥温度为140℃，干燥时间20min；
(2)在干燥后的坯体层表面施加面釉，形成面釉层；面釉层的厚度为0.4mm；
(3)在所述面釉层上装饰图案，形成图案装饰层；图案装饰层的厚度为0.3mm；
(4)在所述图案装饰层表面施加分散有所述碳化硅颗粒的表面装饰层；表面装饰层的厚度为0.8mm；
(5)施有表面装饰层的坯体层入窑烧制，烧制温度1160℃，入窑炉烧时间50min，经过烧制使表面装饰层熔融形成分散有碳化硅颗粒的透明釉层；
(6)对烧制出的陶瓷砖半成品表面的透明釉层进行抛光处理，获得表面具有金属闪烁效果的抛晶陶瓷砖。
通过上述方法制备的具有金属闪烁效果的陶瓷砖产品，表面装饰层中的碳化硅颗粒高温氧化后无明显反应，产品经过抛光处理后陶瓷砖表面仍然具有类似金属的金属闪烁效果，其装饰效果与天然石材接近。同时，掺有碳化硅颗粒的表面装饰层，硬度达到4级，耐磨度达到3级1500转；耐化学腐蚀稳定性能稳定，陶瓷砖表面耐低浓度酸和耐低浓度碱达到GLA级，耐高浓度酸和高浓度碱达到GHA级，耐家庭化学试剂和游泳池盐类达到GA级。
可以理解的是，对本领域普通技术人员来说，可以根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变，而所有的这些替换或改变都应属于本发明所附的权利要求书的保护范围内。
