一种除醛净味纳米蜡
技术领域
本发明涉及纳米蜡技术领域，特别的为一种除醛净味纳米蜡。
背景技术
水性蜡广泛应用于水性涂料：印刷油墨、上光油、木材着色、粘合剂、皮革纺织、抛光产品、特种纸张涂料等，水性蜡是天然蜡和/或合成蜡等制得的水乳液。低熔点的蜡可赋予皮革表面蜡感，适度封闭粒面伤残，还可改善皮堆积性，防止熨烫或压花时粘板。熔点较高的蜡乳液，则能赋予高光泽，可抛光，透明度极好，能用于苯胺涂饰。
但是当前市面水蜡性能单一，只能起护理增亮，蜡粒粗大很难深层渗入基材滋养并无除醛净味功能。
发明内容
本发明提供的发明目的在于提供一种除醛净味纳米蜡，该解决上述背景技术中的问题。
为实现以上目的，本发明通过以下技术方案予以实现：一种除醛净味纳米蜡，包括有如下步骤：
S1、除醛净味纳米蜡与去离子水在高压反应釜中按照一定的比例投放。
S2、然后将反应釜边升温边搅拌边加压，使该高压反应釜升温到一定度数，压力恒定2小时。
S3、然后以高压输送方式加入乳化剂，纳米钛，纳米锌，纳米硅。
S4、添加完毕后保持反应釜的压力、转速和温度恒定1小时。
S5、排进釜内压力，起动真空泵，搅拌速度降低，反应釜夹层流体转至冷媒流体使反应釜极速降至长温。
S6、釜内压力恒定在负0.5兆帕，以此种状态保持1小时。
S7、再加入小分子肽，搅拌速度提升，搅拌30分钟出料。
进一步的，将根据S1中的操作步骤，纳米蜡采用进口橧榈蜡，纳米蜡与去离子水的比例为：40比60。
进一步的，将根据S3中的操作步骤，乳化剂的比例为百分之3，纳米钛的比例为百分之1.5，纳米锌的比例为百分之1，纳米硅的比例为百分之1.5。
进一步的，将根据S4中的操作步骤，反应釜的压力为在6兆帕，搅拌速度在1500转每分，温度在135度。
进一步的，将根据S5中的操作步骤，搅拌速度降至100转每分，温度为20度。
进一步的，将根据S7中的操作步骤，小分子肽的比例为5个点，升至500转每分。
本发明提供了一种除醛净味纳米蜡。具备以下有益效果：
1、蜡质细腻，采高温高压乳化至纳米尺寸，渗透深入滋养基材强。
2、特殊工艺镶嵌纳米粒子，除醛净味更尺久并能长效释放人体所需的负离子。
具体实施方式
本发明提供一种技术方案：一种除醛净味纳米蜡，包括以下具体实施步骤：
S1、除醛净味纳米蜡与去离子水在高压反应釜中按照一定的比例投放，纳米蜡采用进口橧榈蜡，纳米蜡与去离子水的比例为：40比60。
S2、然后将反应釜边升温边搅拌边加压，使该高压反应釜升温到一定度数，升温到至130度，搅拌速度600转每分，压力恒定在5兆帕，压力恒定2小时。
S3、然后以高压输送方式加入乳化剂，纳米钛，纳米锌，纳米硅，乳化剂的比例为百分之3，纳米钛的比例为百分之1.5，纳米锌的比例为百分之1，纳米硅的比例为百分之1.5。
S4、添加完毕后保持反应釜的压力、转速和温度恒定1小时，反应釜的压力为在6兆帕，搅拌速度在1500转每分，温度在135度。
S5、排进釜内压力，起动真空泵，搅拌速度降低，反应釜夹层流体转至冷媒流体使反应釜极速降至长温，搅拌速度降至100转每分，温度为20度。
S6、釜内压力恒定在负0.5兆帕，以此种状态保持1小时。
S7、再加入小分子肽，小分子肽的比例为5个点，搅拌速度提升，升至500转每分，搅拌30分钟出料。
实施例的方法进行检测分析，并与现有技术进行对照，得出如下数据：
根据上述表格数据可以得出，当实施实施例时，通过本发明除醛净味纳米蜡获得参数为蜡质细腻，渗透性较强，去甲醛的效果好。
本发明提供了一种除醛净味纳米蜡，包括以下具体实施步骤：S1、除醛净味纳米蜡与去离子水在高压反应釜中按照一定的比例投放，纳米蜡采用进口橧榈蜡，纳米蜡与去离子水的比例为：40比60，S2、然后将反应釜边升温边搅拌边加压，使该高压反应釜升温到一定度数，升温到至130度，搅拌速度600转每分，压力恒定在5兆帕，压力恒定2小时，S3、然后以高压输送方式加入乳化剂，纳米钛，纳米锌，纳米硅，乳化剂的比例为百分之3，纳米钛的比例为百分之1.5，纳米锌的比例为百分之1，纳米硅的比例为百分之1.5，采高温高压乳化至纳米尺寸，渗透深入滋养基材强，S4、添加完毕后保持反应釜的压力、转速和温度恒定1小时，反应釜的压力为在6兆帕，搅拌速度在1500转每分，温度在135度，S5、排进釜内压力，起动真空泵，搅拌速度降低，反应釜夹层流体转至冷媒流体使反应釜极速降至长温，搅拌速度降至100转每分，温度为20度，S6、釜内压力恒定在负0.5兆帕，以此种状态保持1小时，S7、再加入小分子肽，小分子肽的比例为5个点，搅拌速度提升，升至500转每分，搅拌30分钟出料，蜡质细腻，特殊工艺镶嵌纳米粒子，除醛净味更尺久并能长效释放人体所需的负离子。
以上所述的仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明创造构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。
