一种高磨耗度低化学稳定性光学玻璃的清洗方法
技术领域
本发明涉及一种光学玻璃的清洗方法，尤其是涉及一种高磨耗度低化学稳定性光学玻璃的清洗方法。
背景技术
在光学仪器和机械系统的制造过程中，经常使用的透镜、棱镜、反射镜和窗口等场合的玻璃材料称之为光学玻璃。根据不同的光学性能要求，在光学加工生产中通常选用不同的玻璃，包括无色光学玻璃、有色光学玻璃、耐辐射光学玻璃、防辐射玻璃和光学石英玻璃等。
光学玻璃的每道加工过程中，因表面落尘、油脂、白点等情况，通常都需要清洗处理。而高磨耗度低化学稳定性光学玻璃指的是指满足以下任何一条的情况：1.磨耗度高：相对研磨硬度FA FA≥300，相对研磨硬度FA是指在完全相同的条件下，试样的磨损量与标准试样K9玻璃的磨损量(体积)的比值乘以100后所得的数值，其值越高，耐磨性能越差；2.化学稳定性低：耐水作用稳定性DW≥4，耐酸作用稳定性DA≥4，耐水作用稳定性DW和耐酸作用稳定性DA两者数值越高，耐环境性越差。
高磨耗度低化学稳定性玻璃的清洗难度相对较高，目前此类产品的清洗方式主要是依靠乙醚加乙醇进行人工擦拭处理，这种处理方法存在以下问题点：
1、效率低下，一般软材质产品外观若要达到镀膜要求，熟练员工每分钟只能擦拭1片左右；
2、成本较高，由于擦拭效率低，所以需要较多的人员来对应生产，导致人工成本高；
3、处理后产品品质较差，人工擦拭过程中亮丝、伤痕、擦拭印较多，导致合格率低下，无法满足镀膜的外观要求，清洗良率＜50％；
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种效率高、成本较低且处理后产品品质较好的高磨耗度低化学稳定性光学玻璃的清洗方法。
本发明解决上述技术问题所采用的技术方案为：一种高磨耗度低化学稳定性光学玻璃的清洗方法，包括溶剂清洗、自来水漂洗、纯水清洗、异丙醇清洗和异丙醇烘干，所述的溶剂按质量百分比由以下物质组成：氢氧化钠：0.1％-0.5％；异丙醇胺：0.1％-0.5％；碳酸钠：1％-3％；磷酸钠：5％-10％；余量为水，调配后溶剂的pH值为8-9。
与现有技术相比，本发明的优点在于采用以高频超声配合高活性低浓度弱碱性溶剂清洗工艺，用于替代人工擦拭工艺，可在保证产品不产生不良的基础上有效去除产品表面的落尘、油脂和白点等脏污；且效率提升，软材质清洗节拍2min/篮，平均每篮40片，效率提升20倍；品质稳定，人为影响因素低，品质良率(镀前外观要求)由50％提升至95％以上。
对清洗前的来料按10％比例进行抽检，确保来料无研磨粉、手指印、压克、亮丝等不良情况，若有超过来料总量2％的不良数目，则退回前道工序处理。通过来料品质管控，可以确保清洗前产品无如研磨粉、手指印等难处理物。
所述的溶剂清洗是使用调配后的弱碱性溶剂，在温度为40±5℃的条件下，在120-170KHZ，900W的超声波槽内清洗2min±30S。
所述的自来水漂洗是指在120-170KHZ，900W的自来水超声波清洗槽内，使用一次性自来水溢流，清洗2min±30S。
所述的纯水清洗采用两槽纯水清洗，每槽纯水使用一次性溢流，每槽纯水超声波为120-170KHZ,900W，清洗时间各2min±30S。
所述的异丙醇清洗采用两槽异丙醇清洗，每槽超声波为120-170KHZ,900W，清洗时间各2min±30S，密度控制在小于0.820g/cm3。
所述的异丙醇烘干是指使用异丙醇蒸汽干燥，干燥时间70±5S。
具体实施方式
以下结合实施例对本发明作进一步详细描述。
实施例：一种高磨耗度低化学稳定性光学玻璃的清洗方法，包括以下步骤：
1、来料确认：对清洗前的来料按10％比例进行抽检，确保来料无研磨粉、手指印、压克、亮丝等不良情况，若不良数目超过来料总量的2％，则退回前道工序处理；若不良数目低于来料总量的2％，则进入产品清洗阶段；
2、产品清洗：
2－1、溶剂清洗；按质量百分比用以下物质配制溶剂：氢氧化钠：0.1％-0.5％；异丙醇胺：0.1％-0.5％；碳酸钠：1％-3％；磷酸钠：5％-10％；余量为水，调配后溶剂的pH值为8-9，然后使用调配后的弱碱性溶剂，在温度为40±5℃的条件下，在120-170KHZ，900W的超声波槽内清洗2min±30S；
2－2、在120-170KHZ，900W的自来水超声波清洗槽内，使用一次性自来水溢流，清洗2min±30S；
2－3、采用两槽纯水清洗，每槽纯水使用一次性溢流，每槽纯水超声波为120-170KHZ,900W，清洗时间各2min±30S；
2－4、采用两槽异丙醇清洗，每槽超声波为120-170KHZ,900W，清洗时间各2min±30S，密度控制在小于0.820g/cm3；
2－5、使用异丙醇蒸汽干燥，干燥时间70±5S。
