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一种食品工业设备去霉斑助洗剂

2023-03-11 12:21:51

一种食品工业设备去霉斑助洗剂

  技术领域

  本发明实施例涉及设备助洗剂领域,广泛应用于乳品、饮品等食品工业设备及啤酒瓶、奶瓶等回收瓶霉斑的清洗,特别适用于高温瞬间巴氏灭菌器、蒸馏器、超高温设备及其它加热设备及管道中顽垢的循环清洗,具体涉及一种食品工业设备去霉斑助洗剂。

  背景技术

  食品工业的首要条件就是安全卫生性,因此食品生产的各个环节都要及时的清洗。而食品加工的原料及其来源多种多样,同一种原料也有多种品种,也可以加工不同的产品,决定了食品设备及工艺的复杂性。使得设备、工具的清洗同样有了复杂性。食品工业设备清洗通常采用CIP(原位清洗)清洗,局部采用COP(移位清洗)清洗。食品工业设备中的主要清洗对象是食品加工中残留的蛋白质、油脂、矿物质垢、色渍、纤维等污垢,以及一些食品变质形成的微生物粘泥、霉斑等污垢。而通用的碱性、酸性清洗剂在清洗顽固污垢,特别是霉斑均很难一次性清洗干净。

  为了解决上述问题,亟需发明一种能安全、高效、快速、彻底地去除食品工业设备中残留的霉斑的清洗助剂。

  发明内容

  为此,本发明实施例提供一种食品工业设备去霉斑助洗剂,通过在碱性环节中加入本助洗剂,使得碱性清洗液中富含活性基团,其优异的螯合作用将附着在设备表面的霉斑以及油污、氧化层、矿物质垢等软化、螯合、分散、溶解至清洗液中,达到清洗霉斑的目的,以解决现有技术中存在的问题。

  为了实现上述目的,本发明实施例提供如下技术方案:一种食品工业设备去霉斑助洗剂,包括主要成分(按重量份数计):

  

  

  由上述组份组成的助洗剂在CIP或COP清洗中与碱性清洗剂复配使用,不增加清洗环节,使用方便,操作简单,能有效加速食品工业设备、容器的CIP、COP清洗过程,特别对顽固霉斑能有效去除。

  进一步地,该助洗剂包括主要成分(按重量份数计):

  

  进一步地,该助洗剂包括主要成分(按重量份数计):

  

  进一步地,该助洗剂包括主要成分(按重量份数计):

  

  

  进一步地,所述表面活性剂为低泡或无泡非离子表面活性剂,低泡非离子表面活性剂为EO、PO嵌段脂肪醇聚氧乙烯醚、TAE56(封端醇醚)或ME9(低泡抑泡润湿剂),无泡非离子表面活性剂为烷基封端脂肪醇聚氧乙烯醚或31766(超支化吉米奇无泡表面活性剂)。

  进一步地,所述螯合剂为EDTA、GLDA、HEDP、PBTCA、ATMP、葡萄糖酸钠、葡萄糖酸内酯的一种或几种共混物,当助洗剂组成成分中含有氧化剂时,螯合剂为HEDP、PBTCA、ATMP中的一种或几种共混物。

  进一步地,所述缓蚀剂为聚螯合剂缓蚀剂IS136。

  进一步地,所述氧化剂为双氧水或次氯酸钠。

  进一步地,所述稳定剂为EDTA钙钠。

  本发明还提供了一种食品工业设备去霉斑助洗剂的制备方法,包括以下制备步骤:

  S1、按照一定质量配比取所述去离子水,加入化料釜中,然后分别按照一定的质量配比依次加入螯合剂得到混合液A;

  S2、按照一定质量配比向所述混合液A中加入表面活性剂得到混合溶液B;

  S3、按照一定质量配比向所述混合液B中稳定剂,搅拌均匀,得到混合溶液C;

  S4、按照一定质量配比向所述混合液C中加入氧化剂,搅拌均匀,得到混合溶液D;

  S5、按照一定质量配比向所述混合液D中加入缓蚀剂,搅拌均匀,得到混合溶液E;

  S6、将所述混合溶液E进行过滤处理,得到所述的霉斑清洗助剂。

  本发明实施例具有如下优点:

  1、本发明主要利用组分中活性基团优异的螯合作用,在对设备、容器、工具碱洗时,加入本发明产品,可以有效去除各种顽固霉斑,同时也能加速碱洗药液对油脂、焦糖、蛋白质、矿物质等多种污垢的清洗;

  2、本发明使用的原料均为绿色环保材料,作为碱洗环节的的添加剂与碱洗药剂按一定比例复配使用,得到一个稳定的高浓缩体系,使得清洗高效,在CIP或COP清洗中与碱性清洗剂复配使用,无需增加对霉斑等顽固污垢的特殊清洗环节,使用方便,操作简单。

  具体实施方式

  以下由特定的具体实施例说明本发明的实施方式,熟悉此技术的人士可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本发明的其他优点及功效,显然,所描述的实施例是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。

  本发明提供了一种食品工业设备去霉斑助洗剂,包括主要成分(按重量份数计):

  

  由上述组份组成的助洗剂在CIP或COP清洗中与碱性清洗剂复配使用,不增加清洗环节,使用方便,操作简单,能有效加速食品工业设备、容器的CIP、COP清洗过程,特别对顽固霉斑能有效去除。

  进一步地,所述表面活性剂为低泡或无泡非离子表面活性剂,低泡非离子表面活性剂为EO、PO嵌段脂肪醇聚氧乙烯醚、TAE56(封端醇醚)或ME9(低泡抑泡润湿剂),无泡非离子表面活性剂为烷基封端脂肪醇聚氧乙烯醚或31766(超支化吉米奇无泡表面活性剂)。

  进一步地,所述螯合剂为EDTA、GLDA、HEDP、PBTCA、ATMP、葡萄糖酸钠、葡萄糖酸内酯的一种或几种共混物。

  进一步地,当助洗剂组成成分中含有氧化剂时,螯合剂为HEDP、PBTCA、ATMP中的一种或几种共混物。

  进一步地,所述缓蚀剂为聚螯合剂缓蚀剂IS136。

  进一步地,所述氧化剂为双氧水或次氯酸钠。

  进一步地,所述稳定剂为EDTA钙钠。

  本发明还提供了一种食品工业设备去霉斑助洗剂的制备方法,包括以下制备步骤:

  S1、按照一定质量配比取所述去离子水,加入化料釜中,然后分别按照一定的质量配比依次加入螯合剂得到混合液A;

  S2、按照一定质量配比向所述混合液A中加入表面活性剂得到混合溶液B;

  S3、按照一定质量配比向所述混合液B中稳定剂,搅拌均匀,得到混合溶液C;

  S4、按照一定质量配比向所述混合液C中加入氧化剂,搅拌均匀,得到混合溶液D;

  S5、按照一定质量配比向所述混合液D中加入缓蚀剂,搅拌均匀,得到混合溶液E;

  S6、将所述混合溶液E进行过滤处理,得到所述的霉斑清洗助剂。

  洗助剂制备中所用质量单位为克,也可以为千克,各原料均已大规模生产。

  实施例1

  一种食品工业设备去霉斑助洗剂,该助洗剂包括主要成分(按重量份数计):

  

  

  本发明还提供了一种食品工业设备去霉斑助洗剂的制备方法,包括以下制备步骤:

  S1、按照一定质量配比取所述去离子水,加入化料釜中,然后分别按照一定的质量配比依次加入葡萄糖酸内酯和HEDP组成的螯合剂得到混合液A;

  S2、按照一定质量配比向所述混合液A中加入TAE56(封端醇醚)表面活性剂得到混合溶液B;

  S3、按照一定质量配比向所述混合液B中EDTA钙钠稳定剂,搅拌均匀,得到混合溶液C;

  S4、按照一定质量配比向所述混合液C中加入聚螯合剂缓蚀剂IS136,搅拌均匀,得到混合溶液D;

  S5、将所述混合溶液D进行过滤处理,得到所述的霉斑清洗助剂。

  采用本发明产品进行清洗时,根据结垢轻重,添加量与碱性清洗剂的比例为1:3-20。

  实施例2

  一种食品工业设备去霉斑助洗剂,该助洗剂包括主要成分(按重量份数计):

  

  本发明还提供了一种食品工业设备去霉斑助洗剂的制备方法,包括以下制备步骤:

  S1、按照一定质量配比取所述去离子水,加入化料釜中,然后分别按照一定的质量配比依次加入PBTCA和HEDP组合的螯合剂得到混合液A;

  S2、按照一定质量配比向所述混合液A中加入31766表面活性剂得到混合溶液B;

  S3、按照一定质量配比向所述混合液B中EDTA钙钠稳定剂,搅拌均匀,得到混合溶液C;

  S4、按照一定质量配比向所述混合液C中加入双氧水氧化剂,搅拌均匀,得到混合溶液D;

  S5、按照一定质量配比向所述混合液D中加入聚螯合剂缓蚀剂IS136,搅拌均匀,得到混合溶液E;

  S6、将所述混合溶液E进行过滤处理,得到所述的霉斑清洗助剂。

  采用本发明产品进行清洗时,根据结垢轻重,添加量与碱性清洗剂的比例为1:3-20。

  实施例3

  一种食品工业设备去霉斑助洗剂,该助洗剂包括主要成分(按重量份数计):

  

  本发明还提供了一种食品工业设备去霉斑助洗剂的制备方法,包括以下制备步骤:

  S1、按照一定质量配比取所述去离子水,加入化料釜中,然后分别按照一定的质量配比依次加入PBTCA螯合剂得到混合液A;

  S2、按照一定质量配比向所述混合液A中加入31766表面活性剂得到混合溶液B;

  S3、按照一定质量配比向所述混合液B中EDTA钙钠稳定剂,搅拌均匀,得到混合溶液C;

  S4、按照一定质量配比向所述混合液C中加入次氯酸钠氧化剂,搅拌均匀,得到混合溶液D;

  S5、按照一定质量配比向所述混合液D中加入聚螯合剂缓蚀剂IS136,搅拌均匀,得到混合溶液E;

  S6、将所述混合溶液E进行过滤处理,得到所述的霉斑清洗助剂。

  采用本发明产品进行清洗时,根据结垢轻重,添加量与碱性清洗剂的比例为1:3-20。

  本发明主要利用组分中活性基团优异的螯合作用,在对设备、容器、工具碱洗时,加入本发明产品,可以有效去除各种顽固霉斑,同时也能加速碱洗药液对油脂、焦糖、蛋白质、矿物质等多种污垢的清洗。本发明产品作为碱洗环节的的添加剂与碱洗药剂按一定比例复配使用,无需增加对霉斑等顽固污垢的特殊清洗环节,使用方便,操作简单。

  广泛应用于乳品、饮品等食品工业设备及啤酒瓶、奶瓶等回收瓶霉斑的去除清洗,特别适用于高温瞬间巴氏灭菌器、蒸馏器、超高温设备及其它加热设备及管道中顽垢的循环清洗。

  虽然,上文中已经用一般性说明及具体实施例对本发明作了详尽的描述,但在本发明基础上,可以对之作一些修改或改进,这对本领域技术人员而言是显而易见的。因此,在不偏离本发明精神的基础上所做的这些修改或改进,均属于本发明要求保护的范围。

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