一种缩短曝光时间的直写光刻装置
技术领域
本实用新型涉及直写光刻设备技术领域，具体为一种缩短曝光时间的直写光刻装置。
背景技术
光刻技术是用于在衬底表面上印刷具有特征的构图，这样的衬底可包括用于制造半导体器件、多种集成电路、平面显示器，为了在晶片上制造器件，需要多个分划板，高能激光在光敏感衬底上直接产生图形，加工速度慢，单个晶片曝光时间长。
现在直写光刻装置采用离轴对焦方式，因不同的镜头存在位移误差，投影镜头转换过程，难以根据图形的表面积调节镜头与镜片之间的距离，增加不同类型图形拍摄的难度，并且拍摄过程中，难以根据照明的需求调节照明灯的角度，增加对不同角度图形拍摄的时间及难度。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种缩短曝光时间的直写光刻装置，以解决上述背景技术中提出的投影镜头转换过程，难以根据图形的表面积调节镜头与镜片之间的距离，并且拍摄过程中，难以根据照明的需求调节照明灯的角度，增加对不同角度图形拍摄的时间及难度的问题。
为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案:一种缩短曝光时间的直写光刻装置，包括装置底座、透镜面板和平面齿轮，所述装置底座的正上方连接有第一支撑杆，且第一支撑杆的左右两侧设置有投影镜头，所述投影镜头的正上方设置有波长分束器，所述透镜面板的外侧连接有齿牙条，且齿牙条的底部连接有调试箱体，所述调试箱体的表面连接有旋转块，且调试箱体的一侧设置有照明灯，所述照明灯的外侧连接有设备外壳，且设备外壳的外侧铰接固定有第二支撑杆，所述平面齿轮安装在设备外壳的正下方，所述调试箱体的一侧焊接固定有拉手，且调试箱体的底部连接有滑块，所述齿牙条的背部开设有滑槽，所述透镜面板的外侧贯穿连接有镜片，且透镜面板的外侧连接有滚动轴承。
优选的，所述投影镜头与波长分束器为相互平行，且投影镜头与第一支撑杆构成卡合结构，并且投影镜头的数量为2组。
优选的，所述调试箱体的纵截面为“T”字形结构，且调试箱体与照明灯为相互平行，并且照明灯嵌套在设备外壳内部。
优选的，所述照明灯与设备外壳通过第二支撑杆和平面齿轮构成转动结构，且设备外壳与平面齿轮为啮合连接。
优选的，所述滑块与调试箱体焊接为一体式结构，且调试箱体与投影镜头关于装置底座中心线对称分布。
优选的，所述镜片与透镜面板通过齿牙条和调试箱体构成升降结构，且调试箱体与第二支撑杆均设置有平面齿轮。
与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：该缩短曝光时间的直写光刻装置，
1、采用齿牙条与平面齿轮，通过平面齿轮带动齿牙条进行垂直升降，便于根据装置使用需求调节投影镜头与镜片之间的距离，直接利用可调节的投影镜头来共轴投射对焦图形，方便对不同类型的图形进行记录，缩短不同类型图形记录的时间，提升装置实际使用效率；
2、采用滑块与设备外壳，通过设备外壳带动照明灯进行转动，根据照明灯的使用需求调节自身的角度，提升对晶片表面图形曝光的清晰度，并通过滑动对调试箱体的位置进行调节，提升调试箱体的位置调节及使用的便捷性。
附图说明
图1为本实用新型正视结构示意图；
图2为本实用新型调试箱体侧视结构示意图；
图3为本实用新型透镜面板俯视结构示意图；
图4为本实用新型第二支撑杆侧视结构示意图。
图中：1、装置底座；2、第一支撑杆；3、投影镜头；4、波长分束器；5、透镜面板；6、齿牙条；7、调试箱体；8、旋转块；9、照明灯；10、设备外壳；11、第二支撑杆；12、平面齿轮；13、拉手；14、滑槽；15、滑块；16、滚动轴承；17、镜片。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1-4，本实用新型提供一种技术方案：一种缩短曝光时间的直写光刻装置，包括装置底座1、第一支撑杆2、投影镜头3、波长分束器4、透镜面板5、齿牙条6、调试箱体7、旋转块8、照明灯9、设备外壳10、第二支撑杆11、平面齿轮12、拉手13、滑槽14、滑块15、滚动轴承16和镜片17，装置底座1的正上方连接有第一支撑杆2，且第一支撑杆2的左右两侧设置有投影镜头3，投影镜头3的正上方设置有波长分束器4，透镜面板5的外侧连接有齿牙条6，且齿牙条6的底部连接有调试箱体7，调试箱体7的表面连接有旋转块8，且调试箱体7的一侧设置有照明灯9，照明灯9的外侧连接有设备外壳10，且设备外壳10的外侧铰接固定有第二支撑杆11，平面齿轮12安装在设备外壳10的正下方，调试箱体7的一侧焊接固定有拉手13，且调试箱体7的底部连接有滑块15，齿牙条6的背部开设有滑槽14，透镜面板5的外侧贯穿连接有镜片17，且透镜面板5的外侧连接有滚动轴承16。
投影镜头3与波长分束器4为相互平行，且投影镜头3与第一支撑杆2构成卡合结构，并且投影镜头3的数量为2组，根据使用需求对投影镜头3进行转换及更换，提升操作及更换的效率。
调试箱体7的纵截面为“T”字形结构，且调试箱体7与照明灯9为相互平行，并且照明灯9嵌套在设备外壳10内部，通过照明灯9对调试箱体7的一侧进行照明，确保调试箱体7日常调节及使用的便捷性。
照明灯9与设备外壳10通过第二支撑杆11和平面齿轮12构成转动结构，且设备外壳10与平面齿轮12为啮合连接，根据晶片的面积调节照明灯9的角度，提升照明灯9角度调节的灵活性。
滑块15与调试箱体7焊接为一体式结构，且调试箱体7与投影镜头3关于装置底座1中心线对称分布，方便对调试箱体7与投影镜头3之间距离进行调节，避免投影镜头3在调试过程中发生偏移。
镜片17与透镜面板5通过齿牙条6和调试箱体7构成升降结构，且调试箱体7与第二支撑杆11均设置有平面齿轮12，根据光刻使用需求调节镜片17与透镜面板5之间距离，提升不同类型晶片拍摄的清晰度。
工作原理：在使用该缩短曝光时间的直写光刻装置时，根据图1至图4所示，操作人员将光刻用的晶片放置在装置底座1的表面，操作人员拨动透镜面板5，使得透镜面板5表面的镜片17与投影镜头3相互对齐，并根据晶片的宽度，握持旋转块8，通过旋转块8带动平面齿轮12进行转动，平面齿轮12带动齿牙条6进行垂直升降，进而根据拍摄需求调节投影镜头3与透镜面板5之间的距离，同时可以握持拉手13，拉手13带动调试箱体7及滑块15在装置底座1的外侧进行滑动，进而调节投影镜头3与透镜面板5之间的位置；
根据图1至图3所示，随后打开照明灯9，并握持照明灯9进行转动，使得照明灯9底部的设备外壳10和平面齿轮12进行啮合转动，进而调节照明灯9的角度，方便照明灯9与第一支撑杆2相互对齐，随后分别打开波长分束器4及投影镜头3，当光敏感元件表面位于投影镜头3的焦平面上时，对焦图形经过投影光学系统投射波长分束器4内部的光敏感元件表面的象是最清晰的，同时也反射到波长分束器4内部光学探测器上成一个清晰的象，通过计算机和聚焦函数的算法，将给出聚焦函数的最大值，进而对晶片曝光的速度。
尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
