一种显示母板及曝光系统
技术领域
本实用新型涉及拼接曝光技术领域，尤其涉及一种显示母板及曝光系统。
背景技术
随着人们生活水平的提高，大尺寸显示面板愈来愈受到消费者的喜爱，显示面板由小换大已成为一种趋势，所以大尺寸显示面板生产具有良好的市场和发展态势。但由于世代线的限制，单纯生产单一尺寸的大尺寸面板，会造成显示母板利用率低，生产成本偏高等经济效益问题，限制其市场发展。
目前采用套切技术(英文简称MMG；全称Mutil Moudel Group)来改善这一缺陷，即将大小不同的两类显示面板混合设计在同一显示母板上，这样可以提高了显示母板的利用率。
在显示面板的制作的过程中，需要通过掩膜板将所需的图案的制作到显示面板的TFT基板上，当显示面板的尺寸大于掩膜板时，TFT基板图案需要拼接曝光技术来实现。
如图1所示，现有的拼接曝光技术只是针对显示母板上沿掩膜板的拼接方向(也就是掩膜板在拼接曝光时的移动方向Y)进行排布的显示子板进行拼接曝光，也就是只能曝光一列，这样限制了显示子板(例如图1中的显示子板A和显示子板B)在显示母板上的排布设计，使得不同尺寸显示子板只能沿拼接方向排布，排布方式比较单一，不利于显示母板利用率的进一步的提高。
实用新型内容
本实用新型实施例提供一种显示母板及曝光系统，用于解决现有技术中的显示母板的利用率的提高受到显示子板排列的限制的问题。
为达到上述目的，第一方面，本实用新型实施例提供了一种一种显示母板，包括沿第一方向并排设置的第一显示子板和第二显示子板；在第二方向上，所述第一显示子板、所述第二显示子板的显示区的尺寸不相同，且所述第一显示子板中每个像素的尺寸为P1、所述第二显示子板中每个像素的尺寸为P2，所述第二方向与所述第一方向相垂直；所述第一显示子板上具有多个沿所述第二方向排列的第一端子组，每个所述第一端子组均包括多个沿所述第二方向相隔排列、且用于连接覆晶薄膜的第一端子，相邻的两个所述第一端子组共用一个所述第一端子，每个所述第一端子组中位于所述第一端子组两端的两个所述第一端子之间的距离均为F1；所述第二显示子板上具有多个沿所述第二方向排列的第二端子组，每个所述第二端子组均包括多个沿所述第二方向相隔排列、且用于连接覆晶薄膜的第二端子，相邻的两个所述第二端子组共用一个所述第二端子，每个所述第二端子组中位于所述第二端子组两端的两个所述第二端子之间的距离均为F2；其中，F1、F2、P1、P2满足：F1＝F2＝kP1＝qP2；k、q均为正整数。
进一步地，每个所述第一端子组均包括两个所述第一端子，每个所述第二端子组均包括至少三个所述第二端子。
更进一步地，在所述第二端子组中，相邻的两个所述第二端子之间的距离均相等，或者相邻的两个所述第二端子之间的距离不全相等。
进一步地，每个所述第一端子组均包括至少三个所述第一端子，每个所述第二端子组均包括至少三个所述第二端子。
更进一步地，每个所述第一端子组中相邻的两个所述第一端子之间的距离均相等，每个所述第二端子组中相邻的两个所述第二端子之间的距离均相等；或者，每个所述第一端子组中相邻的两个所述第一端子之间的距离均相等，每个所述第二端子组中相邻的两个所述第二端子之间的距离不全相等；或者，每个所述第一端子组中相邻的两个所述第一端子之间的距离不全相等，每个所述第二端子组中相邻的两个所述第二端子之间的距离均相等；或者，每个所述第一端子组中相邻的两个所述第一端子之间的距离不全相等，每个所述第二端子组中相邻的两个所述第二端子之间的距离不全相等。
第二方面，本实用新型实施例提供了一种曝光系统，包括：曝光装置，所述曝光装置包括面板承载台和位于所述面板承载台上方的掩膜板承载台，所述掩膜板承载台与所述面板承载台之间可在第一水平方向上发生相对移动；掩膜板，所述掩膜板设置于所述掩膜板承载台上；第一方面中所述的显示母板，所述显示母板设置于所述面板承载台上，并且所述第二方向与所述第一水平方向相平行。
本实用新型提供的显示母板及曝光系统，由于F1、F2、P1、P2满足F1＝F2＝kP1＝qP2；k、q均为正整数，这样，就可以将重复曝光区域c设置为c＝F1＝F2＝kP1＝qP2，从而使第一显示子板、第二显示子板具有相同的重复曝光区域，这样就可以对显示母板上并排设置且沿第二方向显示区的尺寸不相同的第一显示子板、第二显示子板进行拼接曝光，从而优化了显示子板在显示母板的排布设计，丰富了显示子板的排布方案，从而有利于显示母板利用率的进一步的提高。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1现有的一种显示母板上的显示子板排列的示意图；
图2中的(a)为掩膜板的结构示意图；(b)被掩膜板拼接曝光的显示子板的结构示意图；
图3为掩膜板对显示子板拼接曝光的过程示意图；
图4为本实用新型一些实施例中的显示母板上相邻的两个显示子板设计的示意图；
图5为本实用新型另一些实施例中的显示母板上相邻的两个显示子板设计的示意图；
图6为本实用新型另一些实施例中的显示母板上相邻的两个显示子板设计的示意图；
图7为本实用新型另一些实施例中的显示母板上相邻的两个显示子板设计的示意图；
图8为本实用新型另一些实施例中的显示母板上相邻的两个显示子板设计的示意图；
图9为本实用新型另一些实施例中的显示母板上三个紧邻的显示子板设计的示意图；
图10为本实用新型另一些实施例中的显示母板上三个紧邻的显示子板设计的示意图；
图11为图5中的显示子板拼接曝光的过程示意图；
图12为本实用新型一些实施例中的曝光系统的示意图；
图13为本实用新型一些实施例中的曝光装置中的投射部件结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。
术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本实用新型的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。
在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
如图2所示，图2中(a)所示为掩膜板，图2中(b)所示为显示子板；在显示母板上的显示子板的图案制作的过程中，通常将掩膜板放在显示母板上以对显示子板进行曝光处理，当制作的单个显示子板(Panel)的尺寸(比如长边)大于掩膜板的尺寸时，使得掩膜板覆盖不了整个显示子板，这时可以将显示子板拆分成a区域、n个c区域和b区域，也就是：a+n×c+b，其中，n为正整数，c区域是重复曝光区域，在掩膜板板里面只放入组合好的a+c+b单元，这样可以通过移动掩膜板，分几次曝光，比如，如图2所示分3次曝光，第一次曝a+c区域，第二次，单独曝c区域，第三次曝c+b区域，这样就可以实现对a+3c+b尺寸的显示子板进行曝光了。
如图1所示，在现有技术中的显示母板上，多个显示子板是沿掩膜板的拼接方向(也就是掩膜板的移动方向Y)进行排列的，这种排列方式可以很好地采用上述方式进行拼接曝光，也就是现有技术可以对显示母板上单列的显示子板进行拼接曝光，然而，要想对显示母板上沿垂直于掩膜板的拼接方向并排设置的多个不同尺寸的显示子板进行拼接曝光(也就是对多列的显示子板进行同时拼接曝光)，则需要满足并排设置的多个显示子板需要有共同的重复曝光区域，再次说明重复曝光区域是指在拼接曝光中，这个区域会被重复使用，以此对如：a+c+c+c+c…….+b尺寸的显示子板进行曝光，以图11所示为例，第一显示子板1和第二显示子板2是用同一张掩膜板进行曝光的，在进行对第一显示子板1和第二显示子板2的一个重复曝光区域c曝光完毕后，下一次曝光，掩膜板需要移动的距离是重复曝光区域c，如果第一显示子板1和第二显示子板2的重复曝光区域c不一样，那么掩膜板移动时，显示子板的曝光区域就不能拼接在一起，从而使的曝光图案出错，因此，沿垂直于掩膜板的拼接方向X并排设置的多个不同尺寸的显示子板需要有共同的重复曝光区域c才能够实现拼接曝光。
为了更好地理解沿垂直于掩膜板的拼接方向X并排设置的多个不同尺寸的显示子板共同的重复曝光区域c的确定条件，下面说明一下单个显示子板重复曝光区域c的确定时需要满足的下条件：
如图3所示，图3中标号B所示为显示子板，标号B-1所示为掩膜板，在显示母板上，对于单个显示子板(也可以理解成对单列显示子板进行拼接曝光)而言，重复曝光区域c的确定需要同时满足以下条件：
(1)在重复曝光区域c必须为显示子板在掩膜板的拼接方向上每个像素尺寸P的整数倍，也就是：c-kP＝0，k为正整数。
之所以重复曝光区域c必须为像素尺寸P的整数倍，这是保证两次曝光的图案能够拼接在一起，如果重复曝光区域c不是像素尺寸P的整数倍的话，那么两次曝光的图案就无法拼接在一起。
(2)重复曝光区域c必须为显示子板上用于连接覆晶薄膜(COF)的端子周期f的整数倍，也就是：c-mf＝0，m为正整数。
需要说明的是：如图3所示，沿掩膜板的拼接方向Y，显示子板上会设置多个连接覆晶薄膜的端子(例如图3中所示的cof1端子、cof2端子等)，并且相邻的两个端子之间的距离相等(也就是端子的周期f)相等；显示子板上用于连接覆晶薄膜的端子的周期可以通过以下公式来计算：显示子板上用于连接覆晶薄膜的端子周期f＝(显示子板在掩膜板的拼接方向的分辨率)×(在掩膜板的拼接方向像素的尺寸)/端子的个数；例如显示子板的分辨率是3840×2160，像素的尺寸为414um×414um，端子的个数为8，那么端子周期f为(3840×414/8)um。
之所以重复曝光区域c必须为端子周期f的整数倍，这是因为沿掩膜板的拼接方向Y，端子的两侧不是完全对称，所以在拼接曝光时，如果重复曝光区域c的边界线在端子的第一侧的某一位置，那么下一次曝光，重复曝光区域c的边界线也要求在其他端子第一侧的相同位置，这样才能保证两次曝光的图案完全一模一样。具体如图3所示，该图示出了掩膜板对显示子板进行拼接曝光的过程，由图中可知该显示子板的COF端子周期f为100mm，重复曝光区域c为2f，也就是200mm，在一次曝光中重复曝光区域c右侧的边界线离COF3端子的距离为60mm，在下一次曝光中重复曝光区域c右侧的边界线离COF5端子的距离为60mm，这样能够保证两次曝光的图案能够拼接在一起；如果重复曝光区域c不是端子周期f的整数倍，比如为1.5f，也就是150mm，那么在一次曝光中重复曝光区域c右侧的边界线离COF3端子的距离，与下一次曝光中重复曝光区域c右侧的边界线离COF5端子的距离就会不相等，这样就两次曝光的图案就无法拼接在一起。因此，重复曝光区域c必须为端子周期f的整数倍。
如图4所示，在显示母板上，与单个显示子板的条件相类似，沿垂直于掩膜板的拼接方向(也就是图4中所示的Y方向)并排设置且显示区的尺寸不同的第一显示子板1和第二显示子板2，要想具有共同的重复曝光区域c的确定，需要同时满足以下条件：
(11)第一显示子板1和第二显示子板2的显示区(AA区)中，在掩膜板的拼接方向Y上，第一显示子板1中每个像素尺寸为P1、第二显示子板2中每个像素尺寸P2；重复曝光区域c必须为第一显示子板1的像素尺寸P1、第二显示子板2的像素尺寸P2的最小公倍数的整数倍，也就是：c＝k P1＝q P2；其中，k、q均为正整数。
(22)第一显示子板1上设有多个第一端子组3，第二显示子板2上设有多个第二端子组4，第一端子组3的周期F1与第二端子组4的周期F2相等；重复曝光区域c必须等于第一端子组3的周期F1或者第二端子组4的周期F2，也就是c＝F1＝F2。
需要说明的是：如图4所示，多个第一端子组3沿掩膜板的拼接方向(也就是图4中所示的Y方向)排列，每个第一端子组3中包括多个第一端子31，且相邻的两个第一端子组3之间共用一个第一端子31，第一端子组3的周期F1为位于第一端子组3两端的第一端子31之间的距离；多个第二端子组4沿掩膜板的拼接方向排列，每个第二端子组4中包括多个第二端子41，且相邻的两个第二端子组4之间共用一个第二端子41，第二端子组4的周期F2为位于第二端子组4两端的第二端子41之间的距离。其中，第一端子组3中可以包括两个第一端子31(如图4所示)，也可以包括两个以上的第一端子31(如图5所示)，在此不做具体限定；同样，第二端子组4中可以包括两个第二端子41，也可以包括两个以上的第二端子41，在此不做具体限定。
之所以将第一端子组3的周期F1设置为与第二端子组4的周期F2相等，重复曝光区域c设置为等于第一端子组3的周期F1或者第二端子组4的周期F2，这是由于在拼接曝光时，如图11所示，如果重复曝光区域c的边界线在第二端子41的下侧的某一位置，那么下一次曝光，重复曝光区域c的边界线也要求在其他第二端子41的下侧的相同位置，这样才能保证两次曝光的图案完全一模一样。
如图4所示，下面以一个具体的例子来第一显示子板1、第二显示子板2的重复曝光区域c设计的过程；
下表为调整前，第一显示子板1、第二显示子板2的结构参数
对于第二显示子板2：
第二端子41的周期f2＝1589.76mm/18＝88.32mm；
对于第一显示子板1：
第一端子31的周期f1＝1400.976/8＝175.122mm；
下面写一下确定重复曝光区域c的过程：
以第一显示子板1的第一端子31的周期f1作为重复曝光区域c，也就是f1＝c＝175.122，175.122/0.414＝423，423为整数，满足上述条件(11)。而第二显示子板1中2个第二端子41的周期f2，2×f2＝176.64，与第一显示子板1的c＝f1＝175.122比较接近；因此，第二显示子板2以三个第二端子41构成的第二端子组4(也就是两个第二端子41的间隔)进行调整，调整前第二端子组4的周期F2为2×f2＝176.64，调整后将第二端子组4的周期F2由176.64调为175.122与第一端子组3的周期F1(也是第一端子3的周期f1)保持一致，这样设置满足上述条件(11)和(22)，第一显示子板1和第二显示子板2就可以实现拼接曝光。
其中，在上述三个第二端子41构成的第二端子组4中，相邻的两个第二端子41的间隔可以设置成相等的(如图4所示)，具体步骤如下：△f＝175.122-2×f2＝-1.518mm，然后将第二端子组4中的两个第二端子41的周期f2的每个均减去1.518/2mm，得到调整后相邻的两个第二端子41的间隔为86.561mm。
另外，在上述三个第二端子41构成的第二端子组4中，相邻的两个第二端子41的间隔可以设置成不相等的，具体步骤如下：将第二端子组4中将一个第二端子41间隔保持不变，即88.32；另一个第二端子41间隔在调整前的基础上减去1.518mm，也就是88.32-1.518＝86.802mm。
在上述调整过程中，是将第二显示子板2中第二端子41的周期f2作为重复曝光区域c的，除此之外，也可以将第二端子41的周期f2的整数倍作为重复曝光区域c，然后在调整第一端子组3的周期重复曝光区域c相同，以满足上述条件(11)和(22)。
结合上述第一显示子板1、第二显示子板2的重复曝光区域c设计的过程的具体的例子，我们可以得出以下调整过程：
令在调整前第一显示子板1的第一端子31的周期为f1、第二显示子板2的第二端子41的周期为f2，假设m个f1或n个f2与重复拼接区域c数值相近或相等，
对第一显示子板1：△f1＝c-m×f1；其中，△f1等于0表示第一显示子板1重复拼接区域c为m个f1，第一显示子板1上的第一端子31不调整，第二显示子板2上的第二端子41调整；△f1不等于0时，表示此时△f2＝0，第一显示子板1上的第一端子31需要调整，第二显示子板2上的第二端子41不调整。
对第二显示子板2：△f2＝c-n×f2；其中，△f2等于0表示第二显示子板2重复拼接区域c为n个f2，第二显示子板2上的第二端子41不调整，第一显示子板1上的第一端子31调整；△f2不等于0时，表示此时△f1＝0，第二显示子板2上的第二端子41需要调整，第一显示子板1上的第一端子31不需要调整。
以下是两种调整方案：
方案1：端子间距等间距增大：
将第一端子31的周期f1、第二端子41的周期f2分别以d1、d2等间距增大或减小，其中，d1＝△f1/m，d1＜0，表示第一端子31的间距此时等间距减小，d1＞0，表示第一端子31的间距等间距增大；d2＝△f2/n，d2＜0，表示第二端子41的间距此时等间距减小，d2＞0，表示第二端子41间距等间距增大。
示例的，假设以第一显示子板1中n个第一端子31的周期为c，n×f1＝c即第一端子31的间距不动，调整第二显示子板2的第二端子41的间距，此时，假设m个第二端子41的周期为一组，m×f2与c接近，则：△f2＝c-m×f2，一组第二端子41的间距移动距离为△f2，d2＝△f2/m，d2可以为正数，也可以为负数；调整后第二端子41的间距＝调整前间距+d2。
方案2：端子间距非等间距增大
1)、第一显示子板1中具有m个第一端子31的周期的第一端子31为一组，组内第一端子31的间距任意移动，以使组内第一端子31调整的总距离为△f1；
2)、第二显示子板2中具有n个第二端子41的周期的第二端子41为一组，组内第二端子41的间距任意调整，以使组内第二端子41调整的总距离为△f2；
示例的，选其中第一显示子板1的m个第一端子31的周期为重复拼接区域m×f1＝c，此时，调整第二显示子板2中第二端子41的间距，使调整后的第二显示子板2满足上述条件(11)和(22)，令具有n个第二端子41的周期的第二端子41为一组，△f2＝c-n×f2，组内第二端子41的间距任意调整，以使组内第二端子41调整的总距离为△f2。
通过以上两种端子调整方案，可实现第一显示子板1和第二显示子板2并列排列时在同一掩模版上拼接曝光。
基于以上，第一方面，本实用新型提供了一种显示母板，如图4所示，包括沿第一方向X并排设置的第一显示子板1和第二显示子板2；在第二方向Y上，第一显示子板1、第二显示子板2的显示区的尺寸不相同，且第一显示子板1中每个像素的尺寸为P1、第二显示子板2中每个像素的尺寸为P2，第二方向Y与第一方向X相垂直；
其中，上述像素均为包含多个亚像素的像素，比如，该像素包括RGB三个亚像素。
如图4所示，第一显示子板1上具有多个沿第二方向Y排列的第一端子组3，每个第一端子组3均包括多个沿第二方向Y相隔排列、且用于连接覆晶薄膜的第一端子31，相邻的两个第一端子组3共用一个第一端子31，每个第一端子组3中位于第一端子组3两端的两个第一端子31之间的距离均为F1；
如图4所示，第二显示子板2上具有多个沿第二方向Y排列的第二端子组4，每个第二端子组4均包括多个沿第二方向Y相隔排列、且用于连接覆晶薄膜的第二端子41，相邻的两个第二端子组4共用一个第二端子41，每个第二端子组4中位于第二端子组4两端的两个第二端子41之间的距离均为F2；F1、F2、P1、P2满足：F1＝F2＝kP1＝qP2；k、q均为正整数。
其中，第一显示子板1中像素的尺寸P1、第二显示子板2中像素的尺寸P2可以相等，也可以不相等，在此也不做具体限定；第一显示子板1的数目可以为一个，也可以为多个(如图10所示)，在此不做具体限定；第二显示子板2的数目可以为一个，也可以为多个(如图9所示)，在此不做具体限定。。
本实用新型提供的显示母板，如图4所示，由于F1、F2、P1、P2满足F1＝F2＝kP1＝qP2；k、q均为正整数，这样，就可以将重复曝光区域c设置为c＝F1＝F2＝kP1＝qP2，从而满足前文所述的条件(11)和(22)，使第一显示子板1、第二显示子板2具有相同的重复曝光区域c，这样就可以对显示母板上并排设置且沿第二方向Y显示区的尺寸不相同的第一显示子板1、第二显示子板2进行拼接曝光，从而优化了显示子板在显示母板的排布设计，丰富了显示子板的排布方案，从而有利于显示母板利用率的进一步的提高。
第一端子组3、第二端子组4中端子的设置方式不唯一，图4所示为每个第一端子组3均包括两个第一端子31，每个第二端子组4均包括至少三个第二端子41的实施例(图4所示第二端子组4包括三个第二端子41)。在该实施例中，第一端子组3的周期F1就是第一端子31的周期f1，通过这样设置就可以直接将第一端子31的周期f1的整数倍设置为重复曝光区域c，在设计时只需调整第二端子组4的周期F2即可简化了重复曝光区域c的确定过程，从而有利于降低设计成本。
在该实施例中，第二端子组4中第二端子41的排布方式不唯一，比如，如图4所示，相邻的两个第二端子41之间的距离可以均相等，也就是第二端子组4内的第二端子41按周期性排布；
另外，相邻的两个第二端子41之间的距离也可以不全相等，也就是第二端子组4中的第二端子41不全按周期性排布，可以一部分第二端子41按周期性排布，另一部分第二端子41按非周期性排布，也可以全部第二端子41按非周期性排布。
当相邻的两个第二端子41之间的距离不全相等时，在设计过程中，只需调整较少数目的第二端子41的间距就可以满足第二端子组4的周期F2符合要求，这样有利于简化设计。
图5所示为每个第一端子组3均包括至少三个第一端子31，每个第二端子组4均包括至少三个第二端子41的实施例。在该实施例中，可以先确定满足前文所述条件(11)的重复曝光区域c，然后再分别调整第一端子组3的周期F1和第二端子组4的周期F2，以满足前文所述条件(22)。
在该实施例中，第一端子组3中第一端子31的排布方式、第二端子组4中第二端子41的排布方式不唯一，
图5所示为另一种排布方式，在该排布方式中，每个第一端子组3中相邻的两个第一端子31之间的距离不全相等，每个第二端子组4中相邻的两个第二端子41之间的距离不全相等；
其中，每个第一端子组3中相邻的两个第一端子31之间的距离不全相等，可以是一部分第一端子31的间隔不相等，也可以是全部第一端子31的间隔均不相等；每个第二端子组4中相邻的两个第二端子41之间的距离不全相等，可以是一部分第二端子41的间隔不相等，也可以是全部第二端子41的间隔均不相等。
图6所示为另一种排布方式，在该排布方式中，每个第一端子组3中相邻的两个第一端子31之间的距离均相等，每个第二端子组4中相邻的两个第二端子41之间的距离不全相等。
图7所示为另一种排布方式，在该排布方式中，每个第一端子组3中相邻的两个第一端子31之间的距离均相等，每个第二端子组4中相邻的两个第二端子41之间的距离均相等。
图8所示为另一种排布方式，在该排布方式中，每个第一端子组3中相邻的两个第一端子31之间的距离不全相等，每个第二端子组4中相邻的两个第二端子41之间的距离均相等。
以上排布方式可根据具体的情况设计，在此不做具体限定。
第二方面，本实用新型实施例提供了一种曝光系统，如图12所示，包括：曝光装置(比如曝光机)，曝光装置包括面板承载台200和位于面板承载台200上方的掩膜板承载台300，掩膜板承载台300与面板承载台200之间可在第一水平方向y上发生相对移动，掩膜板400，掩膜板400设置于掩膜板承载台300上；第一方面中所述的显示母板100，显示母板100设置于面板承载台200上，并且第二方向Y与第一水平方向y相平行。
其中，如图12所示，掩膜板承载台300和面板承载台200之间的运动关系可以按照以下设置：掩膜板承载台300只可沿第二水平方向x移动，面板承载台200可沿第一水平方向y以及第二水平方向x移动；第二水平方向x为与第一水平方向y相垂直的方向。
在曝光前，如图11和图2中的(b)所示，可以沿第二方向Y，将第一显示子板1、第二显示子板2拆分成a区域、n个重复曝光区域c区域和b区域；如图12所示，第一次曝光时，在掩膜板承载台300的带动下，掩膜板400移动至第一次曝光的位置(也就是与第一显示子板1、第二显示子板2上第一次曝光的区域相对的位置)，然后掩膜板承载台300、面板承载台200在第二水平方向x上分别沿相同的方向以相同的速度通过曝光装置的光源，以完成第一显示子板1、第二显示子板2上第一次曝光区域的曝光，第一次曝光结束后，面板承载台200、掩膜板承载台300在第一水平方向y上发生相对移动，以使掩膜板400移动至第二次曝光的位置(也就是与第一显示子板1、第二显示子板2上第二次曝光的区域相对的位置)，然后掩膜板承载台300、面板承载台200在第二水平方向x上分别沿相同的方向以相同的速度通过曝光装置的光源，以完成第一显示子板1、第二显示子板2上第二次曝光区域的曝光，依次类推，完成第一显示子板1和第二显示子板2上所有区域的曝光。
本实用新型实施例提供的曝光系统所解决的技术问题以及取得的技术效果，与第一方面中所述的显示母板100所解决的技术问题以及取得的技术效果相同，在此不再赘述。
图13所示表示曝光装置里的11个透镜(LENS)，分别是透镜(lens)M1/M 3/M 5/M7/M 9/M 11，透镜M 2/M 4/M 6/M 8/M 10，VFS是一个可遮挡透镜透光的楔形挡块，位于曝光装置的透镜单元中，在透镜M 2和M10各有一个，它只可以在掩膜板Y方向上移动，移动范围是Y＝372～451mm,或者Y＝-389～-471.5mm，对于大尺寸的面板，VFS片可用于设置屏幕的分割区域以至于调整曝光面积。
图13中所示的Blinds，用于遮挡不需要的光线，防止曝光区域外部的图案被曝光，Blind Unit由在X方向限制曝光区域的X Blinds、在Y方向限制曝光区域的Y Blinds以及VFS片组成。
其中，X Blinds：是一种安装于掩膜板承载台300上的遮光片，X Blinds在X方向对不需要曝光的区域进行遮光。Y Blinds：这两个遮光片位于Projection Lens(投影透镜)的下方。Y Blinds在Y方向对不需要曝光的区域进行遮光。
在本说明书的描述中，具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
以上，仅为本实用新型的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应以权利要求的保护范围为准。
