一种浸没式光刻装置
技术领域
本实用新型涉及半导体制品领域，具体而言，涉及一种浸没式光刻装置。
背景技术
目前，半导体器件和液晶装置的制造是通过一个所谓的光刻技术，其中掩模上的图案转移到感光基板。
现有的实验研究过程中，通过装置对晶片进行固定使用时，拿取不便，使得工作效率低下。
实用新型内容
为了弥补以上不足，本实用新型提供了一种浸没式光刻装置，旨在改善晶片取放不便的问题。
本实用新型是这样实现的：
本实用新型提供一种浸没式光刻装置，包括透镜、支撑组件、卡接组件和定位组件。
所述支撑组件包括掩模台和基板台，所述基板台嵌装于所述掩模台中部，所述掩模台上表面固定有罩体，所述透镜固定于所述罩体顶部。
所述卡接组件包括底座和滑杆，所述滑杆滑动插接在所述底座侧壁，所述底座下表面转动插接有转轴，所述转轴的一端固定有齿轮，所述滑杆的一端固定有齿条，所述齿条与所述齿轮啮合，所述基板台中部开设有通槽，所述通槽侧壁开设有卡槽，所述底座插接在所述通槽内，所述滑杆的一端与所述卡槽卡接.
所述定位组件包括吸盘和橡胶气囊，所述吸盘固定在所述底座上表面，所述橡胶气囊固定在所述底座下表面，所述橡胶气囊的吸气端口与所述吸盘连通。
在本实用新型的一种实施例中，所述底座内开设有中空槽，所述齿条设置在所述中空槽内，所述中空槽两侧分别开设有滑槽，所述滑杆滑动插接在所述滑槽内。
在本实用新型的一种实施例中，所述转轴的一端固定有旋钮，所述转轴的另一端连接有弹性件，所述弹性件的一端与所述中空槽内部连接。
在本实用新型的一种实施例中，所述通槽内壁开设有限位槽，所述底座侧壁固定有限位块，所述限位块与所述限位槽配合卡接。
在本实用新型的一种实施例中，所述底座与所述基板台连接处设置有密封垫，所述基板台上表面开设有引流槽，所述基板台下表面开设有引流口，所述引流口端口设置有堵头。
在本实用新型的一种实施例中，所述底座内开设有通孔，所述吸盘连接在所述通孔上端口，所述橡胶气囊连接在所述通孔下端口。
在本实用新型的一种实施例中，所述基板台上表面设置有进液管和吸液管，所述进液管与所述吸液管分别设置在所述基板台两侧，所述进液管与所述吸液管设置在所述罩体内。
在本实用新型的一种实施例中，所述进液管的一端连接有喷嘴，所述进液管的另一端连通有第一连接口，所述吸液管的一端连接有吸嘴，所述吸液管的另一端连通有第二连接口。
在本实用新型的一种实施例中，所述掩模台下表面固定有支撑腿，所述支撑腿下表面粘贴有防滑垫。
在本实用新型的一种实施例中，所述罩体外表面开设有调压口，所述调压口上端设置有气压调节阀。
本实用新型的有益效果是：本实用新型通过上述设计得到的一种浸没式光刻装置，使用时，通过设置的基板台便于底座的固定，通过设置的滑杆与卡槽卡接，通过旋转转轴带动齿条移动，使得齿条带动滑杆移动，使得滑杆的一端与卡槽插接，便于底座卡接固定，通过增设的吸盘，按压橡胶气囊，使得吸盘端部产生负压，便于吸附晶片，对晶片进行吸附定位，使得加工过程中晶片稳固，便于晶片的取放，操作方便快捷。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施方式的技术方案，下面将对实施方式中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本实用新型的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
图1是本实用新型实施方式提供的结构示意图；
图2为本实用新型实施方式提供的卡接组件结构示意图；
图3为本实用新型实施方式提供的定位组件结构示意图；
图4为本实用新型实施方式提供的齿轮与齿条啮合结构示意图；
图5为本实用新型实施方式提供的掩模台结构示意图；
图6为本实用新型实施方式提供的底座结构示意图。
图中：100-透镜；110-进液管；111-喷嘴；113-第一连接口；130-吸液管；131-吸嘴；133-第二连接口；300-支撑组件；310-掩模台；311-支撑腿；330-基板台；331-卡槽；333-限位槽；335-引流槽；337-引流口；350-罩体；351-调压口；500-卡接组件；510-底座；511-中空槽；513-滑槽；515-限位块；517-通孔；530-滑杆；531-齿条；550-转轴；551-齿轮；553-旋钮；555-弹性件；700-定位组件；710-吸盘；730-橡胶气囊。
具体实施方式
为使本实用新型实施方式的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施方式中的附图，对本实用新型实施方式中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施方式是本实用新型一部分实施方式，而不是全部的实施方式。基于本实用新型中的。实施方式，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施方式，都属于本实用新型保护的范围。
因此，以下对在附图中提供的本实用新型的实施方式的详细描述并非旨在限制要求保护的本实用新型的范围，而是仅仅表示本实用新型的选定实施方式。基于本实用新型中的实施方式，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施方式，都属于本实用新型保护的范围。
应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。
在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的设备或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。
此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本实用新型的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
实施例
请参阅图1-6，本实用新型提供一种技术方案：一种浸没式光刻装置，包括透镜100、支撑组件300、卡接组件500和定位组件700。
其中，透镜100设置在支撑组件300上方，定位组件700设置在卡接组件500内，便于固定晶片，便于晶片的固定与拆卸。
请参阅图1、5，支撑组件300包括掩模台310和基板台330，基板台330上表面设置有进液管110和吸液管130，进液管110与吸液管130分别设置在基板台330两侧，进液管110与吸液管130设置在罩体350内，进液管110的一端连接有喷嘴111，进液管110的另一端连通有第一连接口113，吸液管130的一端连接有吸嘴131，吸液管130的另一端连通有第二连接口133，基板台330嵌装于掩模台310中部，掩模台310下表面固定有支撑腿311，支撑腿311下表面粘贴有防滑垫，掩模台310上表面固定有罩体350，罩体350外表面开设有调压口351，调压口351上端设置有气压调节阀，透镜100固定于罩体350顶部。
请参阅图2、4，卡接组件500包括底座510和滑杆530，滑杆530滑动插接在底座510侧壁，底座510下表面转动插接有转轴550，转轴550的一端固定有齿轮551，滑杆530的一端固定有齿条531，齿条531与齿轮551啮合，基板台330中部开设有通槽，通槽侧壁开设有卡槽331，底座510插接在通槽内，滑杆530的一端与卡槽331卡接，底座510内开设有中空槽511，齿条531设置在中空槽511内，中空槽511两侧分别开设有滑槽513，滑杆530滑动插接在滑槽513内，转轴550的一端固定有旋钮553，转轴550的另一端连接有弹性件555,弹性件555可以为扭簧，弹性件555的一端与中空槽511内部连接，通槽内壁开设有限位槽333，底座510侧壁固定有限位块515，限位块515与限位槽333配合卡接，底座510与基板台330连接处设置有密封垫，基板台330上表面开设有引流槽335，基板台330下表面开设有引流口337，引流口337端口设置有堵头。
请参阅图3、6，定位组件700包括吸盘710和橡胶气囊730，吸盘710固定在底座510上表面，橡胶气囊730固定在底座510下表面，橡胶气囊730的吸气端口与吸盘710连通，底座510内开设有通孔517，吸盘710连接在通孔517上端口，橡胶气囊730连接在通孔517下端口。
该浸没式光刻装置的工作原理：使用时，通过设置的基板台330便于底座510的固定，通过设置的滑杆530与卡槽331卡接，通过旋转转轴550带动齿条531移动，使得齿条531带动滑杆530移动，使得滑杆530的一端与卡槽331插接，便于底座510卡接固定，通过增设的吸盘710，按压橡胶气囊730，使得吸盘710端部产生负压，便于吸附晶片，对晶片进行吸附定位，使得加工过程中晶片稳固，便于晶片的取放，操作方便快捷。
以上所述仅为本实用新型的优选实施方式而已，并不用于限制本实用新型，对于本领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
