用于照相机的致动器和照相机模块
技术领域
本公开涉及一种用于照相机的致动器和包括该致动器的照相机模块，并且更具体地涉及一种用于照相机的致动器，该致动器通过改进用于支撑托架的线性运动的结构来进一步提高空间利用率。
背景技术
随着用于图像处理的硬件技术的发展以及用户对图像拍摄的需求的增加，诸如自动对焦(AF)和光学图像稳定(OIS)的功能已经被应用于安装至便携式终端(诸如蜂窝电话和智能电话以及独立的照相机装置)的相机模块等。
自动对焦(AF)功能(或自动地对焦的功能)是指通过使具有透镜的托架在光轴方向上线性运动以在位于透镜的后部的图像传感器(CMOS、CCD等)处产生清晰图像的对被摄体焦距的功能。
另外，光学图像稳定(OIS)功能是指通过在由于颤动使透镜抖动时使具有透镜的托架沿补偿该抖动的方向自适应地运动而提高图像的清晰度的功能。
实现AF或OIS功能的一种典型方法是：在运动件(托架)上安装磁体(线圈) 并在固定件(壳体或另一类型的托架等)上安装线圈(磁体)，然后在线圈和磁体之间产生电磁力以使运动件沿光轴方向或垂直于光轴的方向运动。
同时，存在一种将托架连接到线材以物理地支撑托架并恢复托架的位置的装置。然而，如果使用该装置，则由于内部和外部环境，线材的物理性质可能容易变形，从而容易降低驱动精度。特别地，由于透镜的高规格而导致透镜的重量和尺寸增加，因此驱动性能可能进一步劣化。
为了解决线材类型的问题，近来，在运动件和固定件之间插设有球以保持运动件和固定件之间的适当间隔距离，并且通过球的旋转运动以及与球的点接触借助于最小摩擦力使托架更加灵活且准确地运动。
在集成有AF和OIS功能的装置或致动器中，AF托架必须沿光轴方向运动而OIS 托架必须沿垂直于光轴的方向运动，从而导致其中AF托架和OIS托架彼此叠置的复杂物理结构。
在传统的装置中，AF托架通常设置在用作固定件的壳体中，使得AF托架在壳体内部沿光轴方向(Z轴方向)上下运动。而且，在AF托架的内部包括有在与光轴垂直的X轴方向上运动的第一托架和在Y轴方向(与光轴和X轴均垂直的方向)上运动的第二托架。
另外，在该装置中，在AF托架的上表面(基于Z轴方向)与第一托架的下表面 (基于Z轴方向)之间以及在第一托架的上表面与第二托架的表面之间分别布置有球，以引导每个托架的运动。
由此，在传统的装置中，多个托架基于光轴方向上下叠置，并且球分别布置在托架之间以使其高度基于光轴方向显著增加。
由于用于照相机的致动器被安装成站立在诸如智能电话的便携式终端的主板上，因此致动器的高度意味着便携式终端的厚度增加。由此，传统装置不能满足使便携式终端变薄的趋势，并且其空间利用率极低。
另外，在传统的装置中，为了满足便携式终端的厚度规格等，必须减小与驱动性能直接相关的结构、部件等的高度或尺寸。由此，传统装置具有驱动性能下降的问题。
实用新型内容
技术问题
本公开被设计成解决相关技术的问题，因此本公开旨在提供一种用于照相机的致动器，其以与传统技术根本不同的方式可以通过改进用于物理支撑并引导托架的结构来进一步提高致动器的驱动性能和厚度利用率。
从以下详细描述中可以理解本公开的这些和其它目的以及优点，并且从本公开的示例性实施方式中，本公开的这些和其它目的以及优点将变得更加显而易见。而且，将容易理解，本公开的目的和优点可以通过所附权利要求中示出的装置及其组合来实现。
技术方案
在本公开的一个方面中，提供了一种用于照相机的致动器，所述用于照相机的致动器包括：基座，所述基座的内部形成有内部空间；第一OIS托架，所述第一OIS 托架容纳在所述基座中以在垂直于光轴方向的第一方向上运动；和第一OIS球，所述第一OIS球位于所述基座的侧面的内侧与所述第一OIS托架的侧面的外侧之间，其中所述第一OIS托架沿所述基座的所述侧面在所述第一方向上线性运动。
优选地，根据本公开的用于照相机的致动器可以进一步包括：第一OIS磁体，所述第一OIS磁体设置于所述第一OIS托架；和第一OIS线圈，所述第一OIS线圈被配置为向所述第一OIS磁体提供驱动力。
而且，根据本公开的用于照相机的致动器可以进一步包括：第一引导线，所述第一引导线形成在所述基座的所述侧面的内侧处以沿所述第一方向延伸；和第一凹槽线，所述第一凹槽线形成在所述第一OIS托架的所述侧面的外侧处以沿所述第一方向延伸，其中所述第一OIS球可以位于所述第一引导线和所述第一凹槽线之间。
而且，根据本公开的用于照相机的致动器可以进一步包括：AF托架，所述AF 托架安装在所述第一OIS托架上并具有AF磁体；AF线圈，所述AF线圈被配置为向所述AF磁体提供驱动力；和AF球，所述AF球位于所述第一OIS托架的所述侧面的内侧与所述AF托架的侧面的外侧之间，其中所述AF托架可以相对于所述第一 OIS托架在所述光轴方向上线性运动。
而且，根据本公开的用于照相机的致动器可以进一步包括：第二引导线，所述第二引导线形成在所述第一OIS托架的所述侧面的内侧处以沿所述光轴方向延伸；和第二凹槽线，所述第二凹槽线形成在所述AF托架的所述侧面的外侧处以沿所述光轴方向延伸，其中所述AF球可以位于所述第二引导线和所述第二凹槽线之间。
优选地，根据本公开的用于照相机的致动器可以进一步包括：第二OIS托架，所述第二OIS托架安装在所述AF托架上并具有第二OIS磁体；第二OIS线圈，所述第二OIS线圈被配置为向所述第二OIS磁体提供驱动力；和第二OIS球，所述第二OIS 球位于所述AF托架的底面和所述第二OIS托架的下表面之间，其中所述第二OIS托架可以相对于所述AF托架在垂直于所述光轴方向和所述第一方向二者的第二方向上线性运动。
而且，取决于实施方式，根据本公开的用于照相机的致动器可以进一步包括：第一OIS磁体，所述第一OIS磁体设置于所述第二OIS托架的垂直于所述第二OIS磁体的表面或设置于所述第一OIS托架；和第一OIS线圈，所述第一OIS线圈被配置为向所述第一OIS磁体提供驱动力。
而且，根据本公开的用于照相机的致动器可以进一步包括：第三引导线，所述第三引导线形成在所述AF托架的所述底面处以沿所述第二方向延伸；和第三凹槽线，所述第三凹槽线形成在所述第二OIS托架的所述下表面处以沿所述第二方向延伸，其中所述第二OIS球可以位于所述第三引导线和所述第三凹槽线之间。
更优选地，根据本公开的AF球可以与支撑表面的内侧接触，所述支撑表面是所述第一OIS托架的在其外侧处与所述第一OIS球接触的侧面，并且所述支撑表面可以在其中心部分处形成有开口，使得包括在所述AF托架中的所述AF磁体暴露于外部。
而且，根据本公开的基座可以包括由金属材料制成的主磁轭，以对所述AF磁体产生吸引力，并且其间插设有所述AF球的所述AF托架与所述第一OIS托架之间的粘附力以及其间插设有所述第一OIS球的所述第一OIS托架与所述基座之间的粘附力，可以由于所述AF磁体与所述主磁轭之间的吸引力而同时被实现。
在本实用新型的另一方面中，还提供了一种用于照相机的致动器，所述用于照相机的致动器包括：基座，所述基座的内部形成有内部空间；第一OIS托架，所述第一 OIS托架容纳在所述基座中；第二OIS托架，所述第二OIS托架容纳在所述第一OIS 托架中；AF托架，所述AF托架位于所述第一OIS托架和所述第二OIS托架之间；第一OIS球，所述第一OIS球被定位在位于所述第一OIS托架和所述基座之间并平行于光轴的第一表面上；和第二OIS球，所述第二OIS球被定位在位于所述第二OIS 托架和所述AF托架之间并垂直于所述光轴和所述第一表面的第二表面上，其中所述第一OIS托架与所述AF托架和所述第二OIS托架一起在所述第一表面上在垂直于所述光轴的第一方向上线性运动。
而且，取决于实施方式，根据本公开的用于照相机的致动器可以进一步包括：第一OIS磁体，所述第一OIS磁体在垂直于所述AF磁体的方向上设置于所述AF托架；以及第一OIS线圈，所述第一OIS线圈被配置为向所述第一OIS磁体提供驱动力。
有益效果
根据本公开的优选实施方式，由于将用于使作为运动件的托架相对于固定件的底面运动的传统结构改变为相对于固定件的侧面运动的结构，因此可以更有效地提高了致动器的厚度和空间利用率。
另外，根据本公开，由于Z轴方向、X轴方向和Y轴方向上的线性运动是在不同的区域中进行的，因此可以更独立地实现各个方向上的运动，并由此根据AF功能和OIS功能可以进一步提高驱动性能和每个方向上线性运动的精度。
此外，根据本公开的另一实施方式，由于仅在使用AF磁体和磁轭的情况下就可以同时实现用于始终保持AF托架与AF球之间的接触以及OIS托架与OIS球之间的接触的吸引结构，因此可以进一步简化装置配置。
另外，根据本公开的另一实施方式，由于可以通过有效地利用使沿各个方向运动的球彼此垂直地被引导的物理结构，而将多个驱动磁体设置于特定的运动物体，因此可以解决其中必须向所有运动物体设置驱动磁体的传统装置的结构复杂性和组装效率低的问题，并且还可以更容易地确保空间，从而提高了装置设计的效率。
附图说明
附图示出了本公开的优选实施方式，并且附图与前述公开一起用于提供对本公开的技术特征的进一步理解，由此本公开不被解释为限于附图。
图1是示出了根据本公开优选实施方式的用于照相机的致动器的分解图；
图2是示出了根据本公开优选实施方式的基座和第一OIS托架的图；
图3是用于说明根据本公开的第一OIS托架的运动关系的图；
图4是示出了根据本公开优选实施方式的第一OIS托架和AF托架的图；
图5是用于说明根据本公开的AF托架的运动关系的图；
图6是用于说明在AF磁体与主磁轭之间施加的吸引力的图；
图7是示出了根据本公开优选实施方式的AF托架和第二OIS托架的图；
图8是用于说明根据本公开的第二OIS托架的运动关系的图；
图9是用于说明由AF功能和OIS功能在各个方向上的运动关系的图；以及
图10和图11是用于说明根据本公开另一实施方式的第一OIS磁体的图。
附图标记
100：用于照相机的致动器
110：基座110-1：主基座
110-2：引导基座113：第一引导线
120：第一OIS托架 121：第一凹槽线
123：第二引导线125：开口
126：支撑表面
130：AF托架131：第二凹槽线
133：第三引导线135：突起
140：第二OIS托架 141：第三凹槽线
150：透镜组件
160：主磁轭170：电路板
具体实施方式
以下将参考附图详细描述本公开的优选实施方式。在描述之前，应该理解的是，说明书和所附权利要求书中使用的术语不应被解释为限于一般含义和词典含义，而应基于允许发明人为最佳解释适当定义术语的原则基于与本公开的技术方面相对应的含义和概念来解释。
因此，这里提出的描述仅是出于说明目的的优选实施例，而无意于限制本公开的范围，因此应当理解的是，在不脱离本公开的范围的情况下可以对其做出其它等同替换和修改。
图1是示出了根据本公开的用于照相机的致动器100(以下称为致动器)的分解图。以下将首先参照图1描述本公开的整体配置，并且稍后将描述用于实现AF功能和OIS功能的本公开的实施方式。
如图1所示的本公开的致动器100是其中AF功能和OIS功能被一起实现的实施方式，但是根据实施方式，本公开的致动器100也可以被实现为仅用于OIS功能的致动器。
如图1所示，本公开的致动器100可以包括基座110、第一OIS托架120、AF 托架130、第二OIS托架140、透镜组件150、主磁轭160、止动件191和壳体192。
图1中所示的Z轴方向为光进入透镜组件150所沿的光轴方向，并且对应于后述的AF托架130前后运动所沿的方向。
如果AF托架130在光轴方向上前后运动，则调节透镜组件150与设置在致动器 100的后部处的照相装置(未示出，诸如电荷耦合器件(CCD)和互补金属氧化物半导体(CMOS))之间的焦距，从而实现AF功能。
同时，垂直于光轴方向(Z轴方向)的X轴方向和Y轴方向这两个方向是指透镜组件150通过OIS操作进行运动以补偿由颤动引起的抖动所沿的方向。在下面的描述中，将X轴方向称为第一方向并将Y轴方向称为第二方向。然而，从相对角度来看，这仅是一个实施例，并且X轴方向和Y轴方向中的任一个可以是第一方向，而另一个方向可以是第二方向。
如图1所示，本公开的致动器100具有如下结构，其中：第一OIS托架120、AF 托架130和第二OIS托架140基于用作一种壳体的基座110而顺序地设置。
本公开的基座110对应于根据本公开的致动器100的基本框架结构。为了提高组装过程的效率，如图1所示，取决于实施方式，基座110可以被二分成主基座110-2 和引导基座110-1，或者可以一体地形成。
当驱动OIS时，本公开的第一OIS托架120在基座110的内部空间中沿第一方向(X轴方向)运动。在这方面，第一OIS托架120对应于运动件，并且在相应的意义上，基座110对应于固定件。
如果诸如霍尔传感器的位置传感器(未示出)将与因颤动引起的运动方向相对应的电信号及其大小发送至操作驱动器(未示出)，则操作驱动器将与该大小和方向相对应的电力控制为施加至第一OIS线圈C1。
如果将向第一OIS线圈C1施加电力，则第一OIS线圈C1对安装在第一OIS托架120处的第一OIS磁体M1产生电磁力，并且第一OIS托架120由于该电磁力而沿第一方向运动。霍尔传感器的检测和驱动器的处理可以通过反馈控制周期性地执行。
取决于实施方式，本公开的第一OIS磁体M1可以不如图中所示的实施方式那样被安装在第一OIS托架120处，而是被安装在安装有透镜组件150的第二OIS托架 140处(稍后将参考图10进行解释)。
在这种情况下，用于第二方向上的OIS操作的第二OIS磁体M3和第一OIS磁体M1可以在彼此垂直的方向上一起被安装到第二OIS托架140。
如图1等所示，根据本公开实施方式的致动器100被配置成使得AF托架130和第二OIS托架140被安装在第一OIS托架120的内部。由此，如果第一OIS托架120 在第一方向上运动，则AF托架130和第二OIS托架140均在第一方向上运动。
由于透镜组件150被安装在第二OIS托架140上，因此如果第一OIS托架120 沿第一方向运动，则透镜组件150也沿第一方向运动以补偿沿第一方向的抖动。
如图1所示，本公开的AF托架130被设置于本公开的第一OIS托架120，以相对于第一OIS托架120在光轴方向(Z轴方向)上运动。为此，如果AF托架130是运动件，则鉴于相对应的观点第一OIS托架120对应于固定件。
即，本公开的第一OIS托架120相对于针对OIS操作的第一方向运动对应于运动件，但是相对于AF操作对应于固定件。
如果将适当大小和方向的电力施加到AF线圈C2，则AF线圈C2对安装在AF 托架130处的AF磁体M2产生电磁力，并且AF托架130由于该电磁力而沿光轴方向运动。
由于AF托架130包括第二OIS托架140并且透镜组件150安装在第二OIS托架 140上，因此如果AF托架130沿光轴方向运动，则第二OIS托架140也沿光轴方向运动并且透镜组件150也沿光轴方向运动以调节拍摄装置的焦距。
如图1所示，本公开的第二OIS托架140被设置于本公开的AF托架130，且对应于相对于AF托架130在第二方向(Y轴方向)上运动的运动件，并且本公开的 AF托架130相对于OIS托架140的运动用作固定件。
为此，本公开的AF托架130在第二方向上相对于AF操作对应于运动件，但是相对于OIS操作相对地对应于固定件。
如果将适当大小和方向的电力施加到第二OIS线圈C3，则第二OIS线圈C3对安装在第二OIS托架140处的第二OIS磁体M3产生电磁力，并且第二OIS托架140 由于该电磁力而在第二方向(Y轴方向)上运动。第二OIS托架140的上述运动补偿了第二方向上的颤动。
如上所述的霍尔传感器和操作驱动器的反馈控制也可以应用于第二OIS托架140的运动。
在将第二OIS托架140安装在AF托架130上之后，本公开的止动件191在位于 AF托架130上方的位置处联接至AF托架130。在该配置中，可以更顺畅地引起第二 OIS托架140在第二方向上的线性运动，并且还可以防止第二OIS托架140在光轴方向上被抬起或分离。
图2是示出了根据本公开优选实施方式的基座110和第一OIS托架120的图，并且图3是用于说明第一OIS托架120的运动关系的图。
以下将参照图2和图3描述本公开的第一OIS托架120根据OIS操作在第一方向上运动的详细配置以及相关配置。
如上所述，本公开的第一OIS托架120对应于在垂直于光轴的第一方向(X轴方向)上运动的运动件。
如图2所示，第一OIS磁体M1设置于本公开的第一OIS托架120的一个侧面。而且，可以在第一OIS磁体M1的背面另外设置后磁轭5，以防止磁通泄漏并使磁通集中。后磁轭也可以另外设置于其它驱动磁体M2、M3，这将在后面说明。
用于将驱动力提供给第一OIS磁体M1的第一OIS线圈C1设置于基座110，以面对第一OIS磁体M1。第一OIS线圈C1可以与其它线圈C2、C3一起设置在由FPCB 等制成的电路板170上。
在基座110和第一OIS托架120之间布置有用于有效地引导第一OIS托架120 在第一方向上运动的第一OIS球B1。
在传统的装置中，这种球装置典型地布置在运动件和固定件之间的底面或下表面处。然而，在本公开中，与传统装置基本不同，第一OIS球B1位于基座110的一个侧面的内侧与第一OIS托架120的一个侧面的外侧之间，如图2所示。
通过第一OIS球B1的这种结构和布置，本公开的第一OIS托架120沿着基座110 的侧面在垂直于光轴的第一方向上线性运动。换句话说，本公开的第一OIS球B1位于在第一OIS托架120和基座110之间的相对表面当中的、平行于光轴的第一表面上。
可以在基座110的侧面(第一表面)的内侧处形成在第一方向上延伸的第一引导线113。而且，可以在第一OIS托架120的面向第一表面的侧面的外侧处形成在第一方向上延伸的第一凹槽线121。
在这种情况下，第一OIS球B1布置在第一引导线113和第一凹槽线121之间。通过这种配置，由于第一引导线113和第一凹槽线121的物理引导，不仅可以有效地防止第一OIS球B1向外偏斜，而且可以更精确地使第一OIS托架120在第一方向上线性运动。
如果将基座110二分为主基座110-2和引导基座110-1，则第一引导线113可以形成在引导基座110-2的内侧处。
如上所述，根据本公开的第一OIS托架120借助于基座110沿着侧面的物理引导而沿着基座110的侧面运动，并且第一OIS球B1布置在基座110的一个侧面的内侧和第一OIS托架120的一个侧面的外侧之间。
由此，根据本公开的致动器100不需要在其下表面或底面处布置用于引导球和托架沿第一方向运动的物理结构，从而显著地减小了致动器(基于光轴方向)的厚度。
随着便携式终端的屏幕显示装置近来变宽，主基板的宽度也充分增加。在本公开中，由于仅在基于光轴的水平方向即宽度方向上增大尺寸，因此可以实现更紧密地满足便携式终端的趋势的结构。
如图3的(a)和图3的(b)所示，本公开的第一OIS托架120相对于基座110 在第一方向(X轴方向)上线性运动，并且基于图3的(c)，第一OIS托架120沿进入或离开附图的方向线性运动。
另外，由于用于引导第一OIS托架120的运动的第一OIS球B1布置在基座110 与第一OIS托架120的侧面之间，而未布置在第一OIS托架120和基座110/110-1的下表面或底面处，因此整个致动器100在光轴方向H上的高度(见图3的(c))可以被充分降低。
图4是示出了根据本公开优选实施方式的第一OIS托架120和AF托架130的图，图5是用于说明AF托架130的运动关系的图，并且图6是用于说明在AF磁体M2 与主磁轭160之间施加的吸引力的图。
以下将参考图4等描述由于AF操作而在光轴方向上运动的本公开的AF托架130 的详细配置以及相关配置。
如图4等所示，本公开的AF托架130被设置于第一OIS托架120，并且对应于相对于第一OIS托架120在光轴方向上线性运动的运动件。
如图4所示，AF磁体M2设置在AF托架130的一侧处，并且AF线圈C2在面对AF磁体M2的那一侧被设置于基座110，以向AF磁体M2施加驱动力。
参照图5，如果如上所述将适当大小和方向的电力施加至AF线圈C2，则在AF 线圈C2处产生的电磁力被传递到AF磁体M2，从而包括AF磁体M2的AF托架130 在光轴方向上线性运动。
本公开的AF球B2包括至少一个球，优选地如图所示，多个球基于光轴方向并排布置。AF球B2布置在AF托架130与第一OIS托架120之间，并且具体地，AF 球B2位于第一OIS托架120的侧面的内侧与AF托架130的侧面的外侧之间。
第二引导线123可以形成在第一OIS托架120的侧面的内侧处以在光轴方向上延伸。而且，第二凹槽线131可以形成在AF托架130的侧面的外侧处以在光轴方向上延伸。
在这种情况下，AF球B2布置在第二引导线123和第二凹槽线131之间，并且突起135可以设置在第二凹槽线131的端部处以防止AF球B2向外偏斜。
优选地，在本公开的第一OIS托架120的侧面当中的、形成有第一凹槽线121 的支撑表面126的中心部分处形成有开口125，以使得AF托架130的AF磁体M2 暴露于外部。
另外，第二引导线123优选地形成在支撑表面126的内侧处，使得第一凹槽线 121和第二引导线123一起形成在同一支撑表面126的外侧或内侧处。
此外，第一凹槽线121和第二引导线123优选地形成为相对于支撑表面126的开口125在左右方向上对称。
在该配置中，AF球B2与第一OIS托架120的侧面当中的、与第一OIS球B1 的外侧接触的支撑表面126的内侧接触。即，基于第一OIS托架120的支撑表面126，第一OIS球B1位于外侧而AF球B2位于内侧。
同时，如图1、图2和图5所示，主磁轭160设置在本公开的基座110处。如上所述，主磁轭160由具有磁性的金属材料制成并且对AF磁体M2产生吸引力。
如上所述，基于第一OIS托架120(具体地，支撑表面126)，第一OIS球B1位于外侧且AF球B2位于内侧，并且产生吸引力的主磁轭160和AF磁体M2分别被设置于AF托架130和基座110。
由此，如图6所示，主磁轭160和AF磁体M2之间的吸引力可以使AF托架130 和第一OIS托架120保持与AF球B2接触，但是同时保持第一OIS托架120和基座 110与第一OIS球B1连续地接触。
即，在根据本公开的致动器100中，其间插设有AF球B2的AF托架130与第一OIS托架120之间的粘附力以及其间插设有第一OIS球B1的第一OIS托架120 与基座110/110-1之间的粘附力可以通过AF磁体M2和主磁轭160之间的吸引力同时实现。
图7是示出了根据本公开优选实施方式的AF托架130和第二OIS托架140的图，并且图8是用于说明根据本公开的第二OIS托架140的运动关系的图。
以下将参照图7等描述根据OIS操作在第二方向上运动的本公开的第二OIS托架140的详细配置以及相关配置。
如以上参照图1等简要描述的，本公开的第二OIS托架140安装在AF托架130 上并且包括第二OIS磁体M3。如上所述，第二OIS线圈C3设置在面对第二OIS磁体M3的方向上。
如图8的(a)和图8的(b)所示，如果通过向第二OIS线圈C3施加适当大小和方向的电力而产生电磁力，则包括第二OIS磁体M3的第二OIS托架140通过使用电磁力作为驱动力相对于AF托架130在垂直于光轴和第一方向这两个方向的第二方向上线性运动。
第二OIS球B3优选地位于第二OIS托架140和AF托架130之间，以使得第二 OIS托架140的线性运动更平稳地进行。即，本公开的第二OIS球B3设置在第二表面处，该第二表面是与设置有第一OIS球B1的第一表面(在基座110和第一OIS托架120之间)以及与光轴二者垂直的平面。
具体地，在AF托架130的底面(第二表面)处设置有沿第二方向延伸的第三引导线133，并且在第二OIS托架140的下表面在与此相对应的位置处形成有第三凹槽线141。在这种情况下，第二OIS球B3位于第三引导线133和第三凹槽线141之间。
图9是用于说明由AF功能和OIS功能在每个方向上的运动关系的图。如图9所示，当将驱动力施加至第一OIS磁体M1时，本公开的第一OIS托架120相对于基座 110在第一方向(X轴方向)上运动。
由于本公开的第一OIS球B1布置在基座110的侧面的内侧与第一OIS托架120 的侧面的外侧之间，因此与传统技术不同的是，通过这种配置，本公开的第一OIS 托架120沿着基座110的侧面线性运动。
如果第一OIS托架120如上所述沿第一方向运动，则依次安装在第一OIS托架 120上的AF托架130和第二OIS托架140也沿第一方向运动，从而使安装在第二OIS 托架140上的透镜组件150在第一方向(X轴方向)上运动以补偿在第一方向上的颤动。
如果将驱动力施加至设置在AF托架130中的AF磁体M2，则本公开的AF托架 130由位于AF托架130和第一OIS托架120之间的AF球B2引导以在光轴方向(Z 轴方向)上线性运动。
如果AF托架130沿光轴方向运动，则如上所述，安装在AF托架130上的第二 OIS托架140也沿光轴方向运动。由此，安装在第二OIS托架140上的透镜组件150 在光轴方向上运动从而实现AF功能。
本公开的第二OIS托架140安装在AF托架130上，并且如果驱动力被提供至 AF磁体M2，则第二OIS托架140由位于第二OIS托架140与AF托架130之间的第二OIS球B3引导，以在第二方向(X轴方向)上线性运动。
第一OIS托架120在第一方向上的运动、AF托架130在光轴方向上的运动以及第二OIS托架140在第二方向上的运动可以通过单独的处理和单独的物理结构独立地驱动，这样就可以分别实现每个方向上的运动。而且，可以同时执行在多个相互组合的方向(XY、XZ、YZ、XYZ等)上的运动。
如图9所示，AF球B2位于第一OIS托架120与AF托架130之间，并沿光轴方向(Z轴方向)运动(滚动)以引导AF托架130沿光轴方向的运动。
而且，第一OIS球B1与AF球B2同样地布置在第一表面上，并且在与AF球 B2的线性运动(滚动)方向垂直的第一方向(X轴方向)上线性运动(滚动)。
如上所述，本公开的第二OIS球B3布置在位于AF托架130和第二OIS托架140 之间且与光轴和第一表面垂直的表面(第二表面)处，以沿第二方向(Y轴方向)线性运动(滚动)。
图10和图11是用于说明根据本公开另一实施方式的第一OIS磁体M1的图。第一OIS磁体M1可以如上所述安装在第一OIS托架120处，并且也可以如图10所示安装在第二OIS托架140处。
在这种情况下，第一OIS磁体M1和第二OIS磁体M3被安装在第二OIS托架 140处，并且磁体M1、M3优选地被安装在如图所示彼此垂直的方向上，以使得作用在各个磁体M1、M3上的各个方向的磁力互不影响。
如上所述并且还如图所示，根据本公开的致动器100被配置成使得位于第二OIS托架140与AF托架130之间的第二OIS球B3、位于AF托架130与第一OIS托架 120之间的AF球B2以及位于第一OIS托架120与基座110之间的第一OIS球B1 彼此垂直地物理运动或引导。
由此，如果如上所述将第一OIS磁体M1安装在第二OIS托架140处，则在第一 OIS线圈C1和第一OIS磁体M1之间产生的磁力不会影响另一托架(AF托架130、第二OIS托架140)的单独运动(在光轴方向上的运动、在第二方向上的运动)，并且仅使在与由第一OIS球B1产生的磁力相对应的方向上运动和被引导的第一OIS托架120运动。
从类似的角度来看，图11所示的实施方式对应于其中第一OIS磁体M1安装在 AF托架130处的实施例。
如果将第一OIS磁体M1安装在AF托架130处，则即使在第一OIS线圈C1和第一OIS磁体M1之间产生磁力，由于其中球B1、B2、B3彼此垂直地被引导的结构使得其它托架(AF托架130、第二OIS托架140)也不会单独运动，并且仅第一OIS 托架120在第一方向上运动。
其它托架没有单独运动意味着：AF托架130未在光轴方向上运动并且第二OIS 托架140未在第二方向上运动。如果第一OIS托架120沿第一方向运动，则AF托架 130和第二OIS托架140也与第一OIS托架120一起沿第一方向运动。
已经详细描述了本公开。然而应当理解，虽然指示了本公开的优选实施方式，但详细说明和具体实施例仅以说明的方式给出，这是因为从该详细的描述在本公开的范围内的各种改变和修改对于本领域技术人员而言将是显而易见的。
在本说明书的以上描述中，诸如“第一”、“第二”、“上”和“下”之类的术语仅是用于相对地彼此识别部件的概念性术语，由此不应将其解释为用于表示特定顺序、优先级等的术语。
为了强调或突出本公开的技术内容，可以以某种程度的放大形式示出用于说明本公开及其实施方式的附图，但是应当理解，本领域技术人员在不脱离本实用新型的范围的情况下可以考虑以上描述和附图的说明而进行各种修改。
