浸润式光阻涂布装置
技术领域
本实用新型有关一种光阻涂布装置，尤其是关于一种用于将一全像图图案转移至一饰材的浸润式光阻涂布装置。
背景技术
以往在制作全像图图案转移时，请参考图1至图2，先于滚轮10上组装薄片状的全像版11，再将全像版11上的全像纹路图案21转移至材料20上，使材料20具有相对应的全像纹路图案21。上述全像纹路图案21的转移方式，转移后的材料20上两个相邻的全像纹路图案21之间，会留下对应于全像板11的接缝12的间隙22。因此，转移后的材料20在后续使用时，因为间隙22的存在而会造成材料20极大的浪费。一种改进的技术如图3所示，利用制作光阻、显影以将图案转移，其中当形成光阻层时，滚轮10倾斜设置，光阻材料利用滴涂(dripcoating)的方式慢慢涂布于滚轮10上，此种制作程序需耗费十几个工作日，且涂布的均匀度不是非常好。
有鉴于上述现有结构的缺失，制造质量良好、符合成本效益又适合于全像图图案转移的光阻涂布装置便是目前极需努力的目标。
实用新型内容
本实用新型提供了一种浸润式光阻涂布装置，用于将一全像图图案转移至一饰材，其结构整体设计的目的使光阻材料涂布地更均匀且缩短制作时间，进而提高产品品质。
本实用新型一实施例的一种浸润式光阻涂布装置用于将一全像图图案转移至一饰材，所述光阻涂布装置包括：一基座，具有一第一致动构件；容器，设置于所述基座上，所述容器用以盛装一光阻材料；以及一圆柱形滚轮，设置于一轮轴上，所述轮轴与所述第一致动构件电性连接；其中，所述第一致动构件能使圆柱形滚轮与所述容器产生一相对位移；以及，在所述圆柱形滚轮置入所述容器内的状态下，所述光阻材料以浸润式涂布于所述圆柱形滚轮上，所述第一致动构件能于所述容器中或所述容器外旋转所述圆柱形滚轮，以将所述光阻材料均匀涂布至所述圆柱形滚轮上。
优选的，其中，所述圆柱形滚轮为金属材料制成的圆柱形滚轮。
优选的，其中，所述容器垂直设置于所述基座上。
优选的，其中，在所述光阻材料以浸润式涂布于所述圆柱形滚轮的状态下，所述第一致动构件于所述容器外以一第一速度旋转所述圆柱形滚轮，以将所述光阻材料均匀涂布至所述圆柱形滚轮上。
优选的，其中，所述第一速度为100转/分钟至3000转/分钟。
优选的，其中，所述相对位移是指所述圆柱形滚轮向靠近所述容器的方向位移、所述容器向靠近所述圆柱形滚轮的方向位移或所述容器与所述圆柱形滚轮均向彼此靠近的方向位移。
优选的，其中，所述容器水平设置于所述基座上。
优选的，其中，在所述光阻材料以浸润式涂布于所述圆柱形滚轮的状态下，所述第一致动构件以一第二速度于所述容器内旋转所述圆柱形滚轮，以将所述光阻材料均匀涂布至所述圆柱形滚轮上。
优选的，其中，所述第二速度为0转/分钟至100转/分钟。
优选的，其中，所述相对位移指所述圆柱形滚轮向靠近所述容器的方向位移、所述容器向靠近所述圆柱形滚轮的方向位移或所述容器与所述圆柱形滚轮均向彼此靠近的方向位移。
优选的，其中，在所述光阻材料以浸润式涂布于所述圆柱形滚轮的状态下，所述第一致动构件以一第三速度于所述容器外旋转所述圆柱形滚轮，以将所述光阻材料均匀涂布至所述圆柱形滚轮上。
优选的，其中，所述第三速度为100转/分钟至3000转/分钟。
本实用新型的浸润式光阻涂布装置的优点与效果是：可使光阻材料涂布地更均匀且缩短制作时间。
以下通过具体实施例配合所示附图详加说明，当更容易了解本实用新型的目的、技术内容、特点及其所达成的技术效果。
附图说明
图1至图3为现有技术的示意图；
图4为本实用新型的一实施例的浸润式光阻涂布装置的示意图；
图5为本实用新型的又一实施例的浸润式光阻涂布装置的示意图；
图6为本实用新型的另一实施例的浸润式光阻涂布装置的示意图。
附图标记与说明：
10、滚轮；
11、全像版；
12、接缝；
20、材料；
21、全像纹路图案；
22、间隙；
100、浸润式光阻涂布装置；
110、基座；
112、第一致动构件；
120、容器；
130、圆柱形滚轮；
132、轮轴。
具体实施方式
以下将详述本实用新型的各个实施例，并配合附图作为例示。除了这些详细说明之外，本实用新型也可广泛地施行于其它的实施例中，任何所述实施例的轻易替代、修改、等效变化都包含在本实用新型的范围内，并以权利要求书的范围为准。在说明书的描述中，为了使本领域的技术人员对本实用新型有较完整的了解，提供了许多特定细节；然而，本实用新型可能在省略部分或全部特定细节的前提下，仍可实施。此外，众所周知的步骤或元件并未描述于细节中，以避免对本实用新型形成不必要的限制。附图中相同或类似的元件将以相同或类似符号来表示。特别注意的是，附图仅为示意之用，并非代表元件实际的尺寸或数量，以求附图的简洁，有些细节可能未完全绘出。
请参照图4，本实用新型的一实施例的浸润式光阻涂布装置100，用于将一全像图图案转移至一饰材，浸润式光阻涂布装置100包括：一基座110、一容器120以及一圆柱形滚轮130。基座110具有一第一致动构件112。于一实施例中，容器120设置于基座110上用以盛装一光阻材料，且圆柱形滚轮130为金属材料制成的圆柱形滚轮。
接续上述，请继续参考图4，圆柱形滚轮130设置于一轮轴132上，该轮轴132能与第一致动构件112电性连接，以将圆柱形滚轮130置入容器120或将圆柱形滚轮130由容器120中取出。其中，第一致动构件112能使圆柱形滚轮130与容器120产生一相对位移；以及当圆柱形滚轮130置入容器120中，光阻材料以浸润式涂布于圆柱形滚轮130后，第一致动构件112能于容器120中或容器120外旋转圆柱形滚轮130，以将光阻材料均匀涂布至圆柱形滚轮130上。于此实施例中，本实用新型的浸润式光阻涂布装置100，其结构整体设计可使光阻涂布地更均匀且缩短制作时间，进而提高产品品质。
接续上述，于此实施例中，容器120垂直设置于基座110上，其中该光阻材料以浸润式涂布于圆柱形滚轮130后，第一致动构件112以一第一速度于容器120外旋转圆柱形滚轮130(即将圆柱形滚轮130旋干)，以将该光阻材料均匀涂布至圆柱形滚轮130上。其中第一速度包含但不限于100转/分钟至3000转/分钟(即100RPM至3000RPM)，其中RPM的英文释义为round per minute即每分钟多少转。而于此实施例中，相对位移是指由圆柱形滚轮130趋向容器120的方向位移，然而可以理解的是，此相对位移也可是由容器120向靠近圆柱形滚轮130的方向位移，或者是两者同时相对趋动的位移(即容器120与圆柱形滚轮130均向彼此靠近的方向位移)。
于又一实施例中，请参考图5及图6，与上述实施例的主要差异在于，容器120水平设置于基座110上。而于图5的实施例中，第一致动构件112于容器120内，并以一第二速度旋转圆柱形滚轮130，以将光阻材料均匀涂布至圆柱形滚轮130上，其中第二速度可为0转/分钟至100转/分钟(即0RPM至100RPM)。而于图6的实施例中，光阻材料以浸润式涂布于圆柱形滚轮130后，该第一致动构件112于容器120外以一第三速度高速旋转圆柱形滚轮130(即将圆柱形滚轮130旋干)，以将光阻材料均匀涂布至圆柱形滚轮130上，而第三速度包含但不限于100转/分钟至3000转/分钟(即100RPM至3000RPM)。于本实用新型所提及的速度中，第一速度、第三速度均高于第二速度，其中第二速度指的是圆柱形滚轮130于容器120内浸润时慢速旋转的速度，其可以发生也可以不发生，而第一速度与第三速度指的是在不同实施例下于容器120外旋干圆柱形滚轮130的速度，第一速度与第三速度可相同或不同。
根据上述，本实用新型的浸润式光阻涂布装置100，利用浸润方式将光阻材料涂布于圆柱形滚轮130上，不仅光阻膜较均匀且制作也更快速，制作时间可从传统技术需要16天的制作时间大幅降低至7天。此外，以浸润方式形成光阻膜比较不会产生条纹也较不容易剥离。此外，圆柱形滚轮130的截面尺寸、长度更为弹性，可依据需求做不同设计。由于，光阻膜的品质提升，进而全像图图案转移整体的制作良品率也提升，制作成本也可大幅下降。
综合上述，本实用新型的浸润式光阻涂布装置100，用于将一全像图图案转移至一饰材，其结构整体设计可使光阻涂布地更均匀且提高产品品质，进而缩短制作时间。
以上所述的实施例仅是为说明本实用新型的技术思想及特点，其目的在使本领域的技术人员能够了解本实用新型的内容并据以实施，并不能以此限定本实用新型的保护范围，即只要依据本实用新型所揭的精神所作的同等变化或修饰，仍应涵盖在本实用新型的专利保护范围内。
