一种晶圆光刻设备
技术领域
本发明涉及晶圆光刻显影设备领域，具体的是一种晶圆光刻设备。
背景技术
集成电路技术是现今所有电子产品所需的基本技术，集成电路技术的承载物是集成电路板，集成电路板的最重要的零件是晶圆,晶圆光刻的工作及其重要，如光刻失败会直接导致晶圆报废，晶圆在进行光刻之后需要利用光蚀剂进行显影。
基于上述本发明人发现，现有的一种晶圆光刻设备主要存在以下几点不足，比如：将光蚀剂喷涂在晶圆的表面，让光蚀剂与晶圆发生化学反应进行显影，光蚀剂与晶圆进行化学反应所产生的残渣置于晶圆的表面，在光蚀剂的带动下发生偏移，有部分未从晶圆表面脱落的残渣会附在未进行反应的光刻位置上，让后反应的光刻位置得不到充分的反应，从而造成晶圆光刻失败的情况。
发明内容
针对上述问题，本发明提供一种晶圆光刻设备。
为了实现上述目的，本发明是通过如下的技术方案来实现：一种晶圆光刻设备，其结构包括主体、控制面板、进料口、光刻块、显影装置，所述主体的前端设有控制面板，所述进料口设置在主体的左侧，所述光刻块位于主体的一端，所述显影装置设置在主体的另一端，所述显影装置包括光蚀剂回收箱、晶圆收集箱、传送带、载盘、滑动杆、喷料装置，所述光蚀剂回收箱安装在显影装置的底部一端，所述晶圆收集箱安装在显影装置的底部另一端，所述传送带设置在光蚀剂回收箱的正上方，所述载盘设有十个以上，且横向安装在传送带的上端，所述滑动杆嵌固在显影装置的顶部两端，所述喷料装置安装在滑动杆中，且与滑动杆螺纹配合。
进一步的，所述喷料装置包括横向滑动块、限位块、旋转块、螺纹杆、通料管、出料装置，所述滑动块的前端正中间设有限位块，所述旋转块安装在滑动块的底部前端，所述螺纹杆垂直安装在限位块与旋转块之间，所述通料管连接于螺纹杆的顶部，所述出料装置焊接在螺纹杆的底部，所述螺纹杆内部为剖空状，且与通料管还有出料装置相连通。
进一步的，所述出料装置包括通料槽、喷料头、凹槽、动力喷头、刷渣装置，所述通料槽设置在出料装置的内部，所述喷料头嵌固在通料槽的底部，所述凹槽设置在通料槽的侧端，所述动力喷头安装在凹槽的顶部，所述刷渣装置卡合在凹槽的水平两侧，所述刷渣装置的长度小于凹槽的宽度。
进一步的，所述刷渣装置包括挡料装置、转杆、刷子，所述挡料装置设置在刷渣装置的侧端，所述转杆连接于挡料装置的侧端，所述刷子安装在转杆的侧端，所述刷子设有十个以上，且以每组为四个，环绕于转杆进行排列。
进一步的，所述挡料装置包括载体、挡料板、集料槽、盖板、排料头，所述载体为圆柱状，所述挡料板设有四个，且均匀环绕于载体排列，所述集料槽设置在挡料板的内部，所述盖板卡合在集料槽的上端，所述排料头安装在集料槽的末端，所述盖板的长度小于集料槽的长度。
进一步的，所述盖板包括集料孔、进料头、安装槽、复位弹簧、卡块，所述集料孔设有五个以上，且横向在列在盖板的内部，所述进料头设有五个以上，分别安装在集料孔的上端，所述安装槽设有两个，分别设于盖板的左右两侧，所述复位弹簧设有四个，且分别嵌固在安装槽的内侧，所述卡块设有两个，卡合在安装槽中，且与复位弹簧活动配合，所述集料孔与水平面之间的夹角为45度。
进一步的，所述进料头包括进料体、斜板、凸块、穿孔，所述进料体的内侧四周设有斜板，所述斜板与水平面之间的夹角为15度，所述凸块设有八个以上，且分为两组嵌固在斜板上，所述穿孔设置在四个斜板的正中间，所述凸块为三角形状。
有益效果
与现有技术相比，本发明具有如下有益效果：
1.本发明利用动力喷头垂直喷出光蚀剂，对安装在凹槽正中间的刷渣装置进行冲击，使得挡料装置受到冲击力进行旋转，从而让嵌固在转杆上的刷子通过旋转对晶圆表面的残渣进行刷洗，避免由反应过后的残渣附在晶圆的表面，影响后反应的晶圆光刻位置显影。
2.本发明通过四个环绕于载体排列放入挡料板可以轮流受到光蚀剂的冲击，从而让载体持续进行旋转，再利用把挡料板中的集料孔设置为倾斜45度，能够让让垂直下落的光蚀剂加大冲击盖板力度，加快刷渣装置的旋转速度，更快速的将附在晶圆表面的残渣进行清洗。
附图说明
图1为本发明一种晶圆光刻设备的主视结构示意图。
图2为本发明的显影装置剖视结构示意图。
图3为本发明的喷料装置剖视结构示意图。
图4为本发明的出料装置剖视结构示意图。
图5为本发明的刷渣装置主视结构示意图。
图6为本发明的挡料装置剖视结构示意图。
图7为本发明的盖板剖视结构示意图。
图8为本发明的进料头主视结构示意图。
图中：主体1、控制面板2、进料口3、光刻块4、显影装置5、光蚀剂回收箱51、晶圆收集箱52、传送带53、载盘54、滑动杆55、喷料装置56、横向滑动块561、限位块562、旋转块563、螺纹杆564、通料管565、出料装置566、通料槽a1、喷料头a2、凹槽a3、动力喷头a4、刷渣装置a5、挡料装置a51、转杆a52、刷子a53、载体b1、挡料板b2、集料槽b3、盖板b4、排料头b5、集料孔b41、进料头b42、安装槽b43、复位弹簧b44、卡块b45、进料体c1、斜板c2、凸块c3、穿孔c4。
具体实施方式
为使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施方式，进一步阐述本发明。
实施例一：请参阅图1-图5，本发明具体实施例如下：
其结构包括主体1、控制面板2、进料口3、光刻块4、显影装置5，所述主体1的前端设有控制面板2，所述进料口3设置在主体1的左侧，所述光刻块4位于主体1的一端，所述显影装置5设置在主体1的另一端，所述显影装置5包括光蚀剂回收箱51、晶圆收集箱52、传送带53、载盘54、滑动杆55、喷料装置56，所述光蚀剂回收箱51安装在显影装置5的底部一端，所述晶圆收集箱52安装在显影装置5的底部另一端，所述传送带53设置在光蚀剂回收箱51的正上方，所述载盘54设有十个以上，且横向安装在传送带53的上端，所述滑动杆55嵌固在显影装置5的顶部两端，所述喷料装置56安装在滑动杆55中，且与滑动杆55螺纹配合。
所述喷料装置56包括横向滑动块561、限位块562、旋转块563、螺纹杆564、通料管565、出料装置566，所述滑动块561的前端正中间设有限位块562，所述旋转块563安装在滑动块561的底部前端，所述螺纹杆564垂直安装在限位块562与旋转块563之间，所述通料管565连接于螺纹杆564的顶部，所述出料装置566焊接在螺纹杆564的底部，所述螺纹杆564内部为剖空状，且与通料管565还有出料装置566相连通，有利于将光蚀剂通过出料装置566中进行喷洒在晶圆的表面。
所述出料装置566包括通料槽a1、喷料头a2、凹槽a3、动力喷头a4、刷渣装置a5，所述通料槽a1设置在出料装置566的内部，所述喷料头a2嵌固在通料槽a1的底部，所述凹槽a3设置在通料槽a1的侧端，所述动力喷头a4安装在凹槽a3的顶部，所述刷渣装置a5卡合在凹槽a3的水平两侧，所述刷渣装置a5的长度小于凹槽a3的宽度，有利于动力喷头a4喷出光蚀剂带动刷渣装置a5旋转，对晶圆表面的残渣进行清理。
所述刷渣装置a5包括挡料装置a51、转杆a52、刷子a53，所述挡料装置a51设置在刷渣装置a5的侧端，所述转杆a52连接于挡料装置a51的侧端，所述刷子a53安装在转杆a52的侧端，所述刷子a53设有十个以上，且以每组为四个，环绕于转杆a52进行排列，有利于刷子a53旋转覆盖晶圆的表面，对晶圆的表面进行全面刷洗。
基于上述实施例，具体工作原理如下：打开进料口3，将晶圆放置在传送带53上的载盘54中，先通过光刻块4对晶圆进行光刻工作，在通过传送带53将晶圆传送到显影装置5中，利用喷料装置56中的螺纹杆564内部为剖空状，能够将光蚀剂输送到出料装置566中，在通过设置在通料槽a1底部的喷料头a2均匀的将光蚀剂喷出洒在晶圆的外表面，让晶圆上光刻的位置与光蚀剂发生化学反应进行显影，再利用设置在凹槽a3顶部的动力喷头a4喷出光蚀剂与刷渣装置a5中的挡料装置a51接触，从而带动与挡料装置a51侧端相连接的转杆a52旋转，使得安装在转杆a52上的刷子a53与晶圆的表面接触，对晶圆上的残渣进行清洗。
实施例二：请参阅图6-图8，本发明具体实施例如下：
所述挡料装置a51包括载体b1、挡料板b2、集料槽b3、盖板b4、排料头b5，所述载体b1为圆柱状，所述挡料板b2设有四个，且均匀环绕于载体b1排列，所述集料槽b3设置在挡料板b2的内部，所述盖板b4卡合在集料槽b3的上端，所述排料头b5安装在集料槽b3的末端，所述盖板b4的长度小于集料槽b3的长度，有利于盖板b4在集料槽b3中拆卸与安装。
所述盖板b4包括集料孔b41、进料头b42、安装槽b43、复位弹簧b44、卡块b45，所述集料孔b41设有五个以上，且横向在列在盖板b4的内部，所述进料头b42设有五个以上，分别安装在集料孔b41的上端，所述安装槽b43设有两个，分别设于盖板b4的左右两侧，所述复位弹簧b44设有四个，且分别嵌固在安装槽b43的内侧，所述卡块b45设有两个，卡合在安装槽b43中，且与复位弹簧b44活动配合，所述集料孔b41与水平面之间的夹角为45度，有利于让垂直下落的光蚀剂冲击盖板b4，加快挡料装置a51的旋转速度。
所述进料头b42包括进料体c1、斜板c2、凸块c3、穿孔c4，所述进料体c1的内侧四周设有斜板c2，所述斜板c2与水平面之间的夹角为15度，所述凸块c3设有八个以上，且分为两组嵌固在斜板c2上，所述穿孔c4设置在四个斜板c2的正中间，所述凸块c3为三角形状，有利于将撞击到斜板c2上的光蚀剂导向穿孔c4中，加大挡料装置a51受到的冲击力，使得挡料装置a51带动刷子a53更快的对晶圆进行刷洗。
基于上述实施例，具体工作原理如下：通过安装在转杆a52侧端的四个挡料板b2轮流受到光蚀剂的冲击，能够让载体b1持续进行旋转，再利用复位弹簧b44复位带动卡块b45向外端移动，能够将盖板b4在集料槽b3的上端进行安装与拆卸，然后将置于盖板b4上的集料孔b41设置为倾斜45度，能够让垂直下落的光蚀剂冲击盖板b4，加快挡料装置a51的旋转速度，最后将进料体c1内端的斜板c2设置为倾斜15度，在通过把凸块c3设为三角形状，使得撞击到斜板c2上的光蚀剂导向穿孔c4中，加大挡料装置a51受到的冲击力，使得挡料装置a51带动刷子a53更快的对晶圆进行刷洗。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本发明的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。
