曝光平台和系统
技术领域
本实用新型涉及曝光技术领域，特别是涉及曝光平台系统。
背景技术
目前，曝光平台系统通过将曝光平台和光罩放置平台进行对位，利用紫外线照射光罩放置平台上的光罩，能够使得光罩上的图案转移至曝光台上放置的玻璃样品上。
然而，紫外线照射会使曝光平台的温度升高，过高的温度会使影响玻璃样品光刻的效果，从而导致曝光的玻璃样品的成品率低。
实用新型内容
基于此，有必要针对曝光平台温度高导致曝光成品率低的问题，提供一种曝光平台和系统。
一种曝光平台，应用于曝光系统，所述的曝光平台包括：
载物台，用于放置待执行曝光工序的玻璃样品；
降温通道，设置在所述载物台的底部，用于执行曝光工序时，通入冷却水对所述载物台进行降温处理。
在其中一个实施例中，所述的曝光平台还包括：
温度检测模块，设置于所述载物台上，用于执行曝光工序时采集所述载物台的环境温度；
温度处理模块，与所述温度检测模块和所述降温通道连接，用于当所述载物台的环境温度超过温度阈值时生成降温控制指令，所述降温指令用于控制所述降温通道通入冷却水。
在其中一个实施例中，所述载物台的环境温度为所述载物台上放置所述玻璃样品的对位区域的温度数据，所述温度检测模块包括：
多个温度传感器，均匀分布于所述对位区域上，用于采集所述对位区域内的温度数据。
在其中一个实施例中，所述曝光平台还包括：
整列开口，设置于所述载物台的边缘，用于作为参照位以使所述玻璃样品放置于所述载物台上的对位区域。
在其中一个实施例中，缩顶针的顶针平台，所述曝光平台还包括：
贯穿所述载物台的顶针通道，所述顶针通道用于执行所述曝光工序之前使所述可伸缩顶针伸出所述载物台接收所述玻璃样品的放置，还用于在所述曝光工序结束后使所述可伸缩顶针伸出所述载物台托起完成所述曝光工序的玻璃样品以待所述玻璃样品被取出。
在其中一个实施例中，所述顶针通道的数量与所述可伸缩顶针的数量相同，所述顶针通道的尺寸与所述可伸缩顶针的尺寸匹配。
在其中一个实施例中，所述曝光平台还包括：
抽真空通道，与所述载物台对应设置，用于当与外部抽真空装置连接时抽离所述载物台放置所述玻璃样品一侧表面的气体，以使所述载物台吸附所述玻璃样品。
在其中一个实施例中，所述抽真空通道包括：
第一抽真空通道，用于对所述载物台表面的第一区域进行抽真空处理；
第二抽真空通道，用于对所述载物台表面的第二区域进行抽真空处理，所述第二区域处于所述第一区域的外围。
在其中一个实施例中，所述曝光平台还包括：
玻璃检测装置，与所述载物台连接，用于检测所述载物台上是否放置有所述玻璃样品。
一种曝光系统，包括：
所述的放置玻璃样品的曝光平台；
光罩放置平台，设置于所述曝光平台的顶部，用于放置携带图案的光罩，以使执行所述曝光工序时将所述图案转移至所述玻璃样品。
上述曝光平台和系统，所述曝光平台应用于曝光系统，所述的曝光平台包括：载物台和降温通道，载物台用于放置待执行曝光工序的玻璃样品；降温通道，设置在所述载物台的底部，用于执行曝光工序时通入冷却水对所述载物台进行降温处理。本申请通过在放置玻璃样品的载物台上设置降温通道，在执行曝光工序时，若载物台被紫外线照射时环境温度高于温度阈值，则在降温通道通入冷却水给载物台降温，从而为曝光工序提供恒定的曝光温度，提升了曝光效果，保证了成品率。
附图说明
图1为本申请一实施例中曝光平台的结构示意图；
图2为本申请又一实施例中曝光平台的结构示意图。
具体实施方式
本申请提供一种曝光平台，应用于曝光系统，如图1所示，曝光平台10包括：载物台110和降温通道120，其中，载物台110，用于放置待执行曝光工序的玻璃样品；降温通道120，设置在载物台110的底部，用于执行曝光工序时通入冷却水对载物台110进行降温处理。
具体的，载物台110的中心区域作为对位区域放置玻璃样品，在执行曝光工序时，曝光平台10顶端的光罩放置平台上放置有携带图案的光罩，紫外线的照射光罩和玻璃样品，光罩上的图案将转移至玻璃样品上。在紫外线的照射下，玻璃样品和载物台110的温度都会升高，温度会对曝光工序的效果产生影响，造成曝光图案与预期存在偏差，影响玻璃样品的成品率。在载物台110的底端可以设有多个降温通道120，如图1所示，每个降温通道120包括入水口和出水口，如图1所示，每个通道的出水口和入水口分别在载物台110的两侧；还可以是出水口和入水口在载物台110的同侧，降温通道成“U”形、“冂”形、“回”形迷宫等，此处不作限定。在一个降温通道的入水口通入冷却水后，一段时间后冷却水将由对应的出水口流出，且冷却水在降温通道中运动会通过热传递效应降低载物台110的温度。
上述曝光平台通过在放置玻璃样品的载物台上设置降温通道，在执行曝光工序时，若载物台被紫外线照射时环境温度高于温度阈值，则在降温通道通入冷却水给载物台降温，从而为曝光工序提供恒定的曝光温度，提升了曝光效果，保证了成品率。
在其中一个实施例中，曝光平台还包括：温度检测模块，设置于载物台上，用于执行曝光工序时采集载物台的环境温度；温度处理模块，与温度检测模块和降温通道连接，用于当载物台的环境温度超过温度阈值时生成降温控制指令，降温指令用于控制降温通道通入冷却水。本实施例中，在载物台放置玻璃样品的一侧设有温度检测模块，温度检测模块采集载物台表面的环境温度，并将采集的环境温度传输给温度处理模块，温度处理模块包括微处理器，能够接收环境温度并将环境温度与内部预先存储的温度阈值进行比较，当载物台的环境温度超过温度阈值时生成降温控制指令，利用降温控制指令控制降温通道通入冷却水对载物台进行降温处理。
在其中一个实施例中，载物台的环境温度为载物台上放置玻璃样品的对位区域的温度数据，温度检测模块包括：多个温度传感器，均匀分布于对位区域上，用于采集对位区域内的温度数据。本申请中在对位区域内安装多个温度传感器，且玻璃样品放置于对位区域，执行曝光工序时，紫外线照射玻璃样品，温度传感器能够精确的采集到玻璃样品在紫外线照射的温度变化。在对位区域内安装多个温度传感器提升采集的环境温度的准确性。
在其中一个实施例中，如图1所示，曝光平台10还包括整列开口130，设置于载物台110的边缘，用于作为参照位以使玻璃样品放置于载物台110上的对位区域。在载物台的中心区域为玻璃样品的对位区域，若玻璃样品尺寸较大，则对位区域较大，在将玻璃样品放置在载物台110上时，以整列开口130作为参照位，能够使玻璃样品准确放置于对位区域上，以使玻璃样品与光罩对位准确，使曝光图案的位置更加准确。
在其中一个实施例中，如图2所示，曝光系统包括：设有可伸缩顶针的顶针平台20，曝光平台10还包括：贯穿载物台的顶针通道140，顶针通道140用于执行曝光工序之前使可伸缩顶针210伸出载物台接收玻璃样品的放置，还用于在曝光工序结束后使可伸缩顶针210伸出载物台110托起完成曝光工序的玻璃样品以待玻璃样品被取出。
本实施中，载物台110上设有贯穿性的顶针通道140，在其中一个实施例中，顶针通道140的数量与可伸缩顶针210的数量相同，顶针通道140的尺寸与可伸缩顶针210的尺寸匹配。可收缩顶针210在伸出状态时，可经过顶针通道140伸出载物台110表面；可收缩顶针210在收缩状态时，处于顶针通道140内不伸出载物台110表面。在执行曝光工序之前，可收缩顶针210经过顶针通道140伸出载物台110表面，将玻璃样品放置在伸出的可收缩顶针210上，然后可收缩顶针210缓慢收缩至顶针通道140内，可收缩顶针210上的玻璃样品自然搁置在载物台110上，以使玻璃样品执行曝光工序，当执行完成曝光工序之后，可伸缩顶针210伸出载物台110托起完成曝光工序的玻璃样品，以使工作人员或机械手取出执行完曝光工序的玻璃样品。利用可收缩顶针210和顶针通道140可以实现玻璃样品的轻拿轻放，以免在移动玻璃样品造成剐蹭。
在其中一个实施例中，如图2所示，曝光平台10还包括抽真空通道150，抽真空通道150与载物台110对应设置，用于当与外部抽真空装置连接时抽离载物台110放置玻璃样品一侧表面的气体，以使载物台110吸附玻璃样品。抽真空通道150可以包括多个，如在其中一个实施例中，抽真空通道150包括：第一抽真空通道，用于对载物台表面的第一区域进行抽真空处理；第二抽真空通道，用于对载物台表面的第二区域进行抽真空处理，第二区域处于第一区域的外围。当待执行曝光工序的玻璃样品尺寸较小时，仅用第一真空通道进行抽真空处理；当执行曝光工序的玻璃样品尺寸较大时，利用第一真空通道和第二抽真空通道同时进行抽真空处理，以使载物台110吸附较大尺寸的玻璃样品。
在其中一个实施例中，曝光平台还包括：与载物台连接的玻璃检测装置，玻璃检测装置用于检测载物台上是否放置有玻璃样品。本申请中利用玻璃检测装置检测对位区域内的预设位置是否被遮挡来判断载物台上是否放置有玻璃样品。当检测到预设位置被遮挡，则视为载物台上放置有玻璃样品，可以执行曝光工序，若检测到预设位置未被遮挡，视为载物台上未放置玻璃样品，则无法启动执行曝光工序。
本申请提供一种曝光系统，包括：曝光平台和光罩放置平台，其中，曝光平台上放置玻璃样品；光罩放置平台，设置于曝光平台的顶部，用于放置携带图案的光罩，以使执行曝光工序时将图案转移至玻璃样品。
具体的，曝光平台包括载物台和降温通道，载物台的中心区域作为对位区域放置玻璃样品，在执行曝光工序时，曝光平台顶端的光罩放置平台上放置有携带图案的光罩，紫外线的照射光罩和玻璃样品，光罩上的图案将转移至玻璃样品上。在紫外线的照射下，玻璃样品和载物台的温度都会升高，温度会对曝光工序的效果产生影响，造成曝光图案与预期存在偏差，影响成品率。在载物台的底端可以包括至少一个降温通道，每个降温通道包括入水口和出水口，每个通道的出水口和入水口可以分别在载物台的两侧；还可以是出水口和入水口在载物台的同侧，降温通道成“U”形、“冂”形、“回”形迷宫等，此处不作限定。在一个降温通道的入水口通入冷却水后，冷却水将由对应的出水口流出，且在出水口流出前通过热传递效应降低载物台的温度。
上述曝光系统中的曝光平台通过在放置玻璃样品的载物台上设置降温通道，在执行曝光工序时，若载物台被紫外线照射时环境温度高于温度阈值，则在降温通道通入冷却水给载物台降温，从而为曝光工序提供恒定的曝光温度，提升了曝光效果，保证了成品率。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。
