一种涂胶显影设备的喷嘴结构
技术领域
本发明涉及涂胶显影设备相关领域，具体是一种涂胶显影设备的喷嘴结构。
背景技术
在半导体生产领域，涂胶是在半导体晶片涂覆光刻胶的一种工艺，属于光刻工序，与曝光，显影系统共同构成整个半导体制造过程中最关键、重复次数最多的一道工艺过程，对于提高产品集成度和成品率有着重要影响；涂胶显影设备是半导体芯片制程中必不可少的处理设备，涂胶显影设备利用机械手实现晶圆在各系统间的传输和加工，与光刻机达成完美配合从而完成晶圆的光刻胶涂覆、固化、显影等工艺过程。
涂胶显影设备工作时需要使用喷嘴进行加工，但现有喷嘴结构连接时稳定性较差，并且对于不同加工件需要的原料较少，流量过大容易出现浪费以及溢出的情况。
发明内容
因此，为了解决上述不足，本发明在此提供一种涂胶显影设备的喷嘴结构。
本发明是这样实现的，构造一种涂胶显影设备的喷嘴结构，该装置包括连接管，所述连接管右侧设置有密封片，并且密封片右侧与喷头相连接，所述连接管左侧设置有连接装置，所述连接装置包括连接环、限位块、流量调节机构和连接架，所述连接环与限位块内侧进行电弧焊，并且连接环右侧设置有流量调节机构，所述连接架左侧与连接环相连接。
优选的，所述流量调节机构包括安装环、轴承、转动片、转轴、推动环、推块、转动环、防滑纹和密封圈，所述安装环左侧与连接环相连接，所述轴承嵌入于安装环中部，所述转动片左侧通过转轴与轴承转动配合，所述推动环中部设置有推块，并且推动环外圈与转动环相连接，所述防滑纹开设于转动环表面，所述密封圈右侧与转动环紧密粘附。
优选的，所述限位块相互对称设置有两个，并且两个限位块形状相同。
优选的，所述连接架右侧外径与连接管相同，并且连接架与连接管相互平行安装。
优选的，所述转动片设置有七片，并且七片转动片形状大小相同。
优选的，所述转动环外径与推动环相同，并且推动环与转动环相互平行安装。
优选的，防滑纹开设有两条以上，并且每条防滑纹深度相同。
优选的，所述密封圈厚度为2mm，并且密封圈与转动环平行安装。
优选的，所述转轴为不锈钢材质。
优选的，所述流量调节机构的侧面包括多个矩形平面，多个所述矩形平面两两相邻以在所述流量调节机构侧面形成多个凸角。
优选的，所述连接架包括一个连接圆环和四个连接曲轴；四个所述连接曲轴一端连接在所述连接架内侧面，四个所述连接曲轴另一端连接在所述流量调节机构。
本发明具有如下优点：本发明通过改进在此提供一种涂胶显影设备的喷嘴结构，与同类型设备相比，具有如下改进：
优点1：本发明所述的一种涂胶显影设备的喷嘴结构，通过设置了连接装置，连接时只需将连接环与外部设备进行连接，并由限位块进行限位增加固定性即可，解决了现有喷嘴结构连接时稳定性较差的问题。
优点2：本发明所述的一种涂胶显影设备的喷嘴结构，通过设置了流量调节机构，使用转动环带动推动环转动，使推块推动转动片转动进行流量调节，解决了对于不同加工件需要的原料较少，流量过大容易出现浪费以及溢出的情况的问题。
附图说明
图1是本发明的结构示意图；
图2是本发明的连接装置结构示意图；
图3是本发明的连接装置主视结构示意图；
图4是本发明的流量调节机构结构示意图；
图5是本发明的密封圈结构示意图。
其中：连接管-1、密封片-2、喷头-3、连接装置-4、连接环-41、限位块-42、流量调节机构-43、连接架-44、安装环-431、轴承-432、转动片-433、转轴-434、推动环-435、推块-436、转动环-437、防滑纹-438、密封圈-439。
具体实施方式
下面将结合附图1-5对本发明进行详细说明，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
本发明通过改进，在此提供一种涂胶显影设备的喷嘴结构，如图1。喷嘴结构包括连接管1，连接管1右侧(图1中的右侧，也可以认为是前端)设置有密封片2，并且密封片2右侧与喷头3相连接，连接管1左侧(图1中的左侧，也可以认为是后端)设置有连接装置4。
如图2和图3，连接装置4包括连接环41、限位块42、流量调节机构43和连接架44，连接环41与限位块42内侧进行电弧焊，并且连接环41右侧设置有流量调节机构43，连接架44左侧与连接环41相连接。
进一步的，所述流量调节机构43包括安装环431、轴承432、转动片433、转轴434、推动环435、推块436、转动环437、防滑纹438和密封圈439。安装环431左侧与连接环41相连接。轴承432嵌入于安装环431中部。转动片433左侧通过转轴434与轴承432转动配合，推动环435中部设置有推块436，并且推动环435外圈与转动环437相连接，防滑纹438开设于转动环437表面，密封圈439右侧与转动环437紧密粘附。
进一步的，所述限位块42相互对称设置有两个，并且两个限位块42形状相同，起到很好的限位作用。两个限位块42对称地设置在连接环41的侧面，限位块42呈向连接环41前方伸出的侧角形状，如图3所示。
连接环41具有相应的外沿(未标注)，上述两个限位块42将外沿分为两个部分，每个部分发大致呈半个圆环状，但是每个部分又分为两段不同的弧段，如图2中所示。
图3中显示，流量调节机构43的侧面包括多个矩形平面(未标注)，多个矩形平面(未标注)两两相邻以在流量调节机构43侧面形成多个凸角(未标注)，这样方便工作人员对流量调节机构43的旋转操作。
进一步的，所述连接架44右侧外径与连接管1相同，并且连接架44与连接管1相互平行安装，更好的进行连接。连接架44包括一个连接圆环(未标注)和四个连接曲轴(未标注)。连接架44右侧为所述圆环。四个连接曲轴一端连接在连接架44内侧面，四个连接曲轴另一端连接在流量调节机构43。
进一步的，所述转动片433设置有七片，并且七片转动片433形状大小相同，能够很好的同时转动，如图4所示。
每个转动片433都呈现叶片状，并且呈翘曲的叶片状，它们共同均匀排布形成整圈的结构，相应的转轴434设置在叶片状结构的叶柄一端(非叶尖一端)，如图4所示。
进一步的，所述转动环437外径与推动环435相同，并且推动环435与转动环437相互平行安装。
进一步的，如图5，防滑纹438开设有两条以上，并且每条防滑纹438深度相同，起到增加摩擦力的作用。防滑纹438并不需要均匀开设，不需要在转动环437整个外侧面开设，只需要一半的外侧面或者三分之一的外侧面设计即可。
进一步的，所述密封圈439厚度为2mm，并且密封圈439与转动环437平行安装，能够很好的进行密封。
进一步的，所述转轴434为不锈钢材质，不易生锈。
本发明通过改进提供一种涂胶显影设备的喷嘴结构，工作原理如下；
第一，连接管1起到很好的通料作用，密封片2能够很好的进行密封，防止原料漏出，最后由喷头3处流出；
第二，连接时只需将连接环41与外部设备进行连接，并由限位块42进行限位增加固定性即可，连接架44起到很好的连接固定作用，密封圈439起到增加密封性的作用；
第三，使用转动环437带动推动环435转动，使推块436推动转动片433转动，此时转动片433通过转轴434在轴承432中转动进行流量调节，安装环431起到很好的安装作用，防滑纹438起到增加摩擦力的作用。
本发明通过改进提供一种涂胶显影设备的喷嘴结构，通过设置了连接装置4，连接时只需将连接环41与外部设备进行连接，并由限位块42进行限位增加固定性即可，解决了现有喷嘴结构连接时稳定性较差的问题，通过设置了流量调节机构43，使用转动环437带动推动环435转动，使推块436推动转动片433转动进行流量调节，解决了对于不同加工件需要的原料较少，流量过大容易出现浪费以及溢出的情况的问题。
本发明对所公开的实施例的上述说明，是使本领域专业技术人员能够实现或使用本发明。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本发明的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本发明将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。
