一种液晶显示屏生产用光刻胶冲洗装置
技术领域
本实用新型涉及光刻胶冲洗技术领域，具体为一种液晶显示屏生产用光刻胶冲洗装置。
背景技术
随着半导体制造技术的飞速发展，半导体器件为了达到更快的运算速度、更大的数据存储量以及更多的功能，半导体晶片朝向更高的元件密度、高集成度方向发展。CMOS器件的特征尺寸已经进入纳米阶段，栅极宽度变得越来越细且长度变得较以往更短。这就使得半导体器件的发展产生了两个新的要求：低掺杂浓度控制和超浅结。
以往的做法是先通过等离子体干法刻蚀去除大部分光刻胶，然后在配合湿法刻蚀对残余光刻胶进行清除，但是往往采用单一的机构导致冲刷的角度不可调节，无法全面的清洗。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种液晶显示屏生产用光刻胶冲洗装置，具有通过水平以及竖直方向的调节，对半导体的表面全面的清洗的优点，解决了现有技术中的问题。
为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种液晶显示屏生产用光刻胶冲洗装置，包括底座、前侧板和后侧板，所述前侧板和后侧板并排固定在底座的顶面上，前侧板和后侧板之间的底座上通过螺栓安装滑轨；
所述滑轨上方的前侧板和后侧板之间固定倾斜的板托架，板托架的上下边沿上加工内凹的卡槽，卡槽内卡入显示屏的边角；
所述滑轨上固定移动机构，移动机构包括滑块、马达、齿条和第一齿轮，齿条放置在滑轨上，滑块卡在包覆齿条的滑轨上，并在滑块的顶端连接喷射机构，马达安装在滑块的外壁上，马达上旋转的转轴穿过滑块安装有与齿条相啮合的第一齿轮；
所述喷射机构包括托板、水箱、外壳、转盘和电机，托板的底面与滑块相接，托板内贯穿导向杆，托板的顶端并排放置水箱和外壳，外壳内安装带有第二齿轮的电机，外壳朝向板托架侧壁上加工的条形槽之间插入转盘，转盘延伸至外壳外部的端面上安装喷嘴，转盘延伸至外壳内部的端面上安装有与第二齿轮相啮合的弧形齿口；
所述水箱通过管道与转盘上的喷嘴连通。
优选的，所述转盘的两侧圆心处连接有插入外壳轴承的主轴，两根所述主轴一端中空，一端实心，中空的主轴内插入旋转的水箱管道，主轴和水箱管道连接处密封。
优选的，所述板托架位于卡槽同一侧的表面上分布顶端直径为1-3mm的圆台，板托架下方的底座上放置收集槽。
优选的，所述转盘和板托架之间的距离为5-10cm，转盘直径的1/2露出外壳。
与现有技术相比，本实用新型的有益效果如下：
本液晶显示屏生产用光刻胶冲洗装置，板托架下方的底座上放置收集槽，圆台让半导体悬空，方便水流流下被收集槽收集，利用马达驱动第一齿轮旋转，带动滑块沿着滑轨移动，从而让喷射机构水平移动，可以将半导体长度方向都喷射到，电机驱动第二齿轮正旋或者反旋，在旋转过程中带动弧形齿口旋转，从而调整喷嘴的上下角度，完成半导体的竖直方向冲洗，通过水平以及竖直方向的调节，对半导体的表面全面的清洗。
附图说明
图1为本实用新型的正视图；
图2为本实用新型的侧视图；
图3为本实用新型的图2的A处放大图；
图4为本实用新型的喷射机构侧视图；
图5为本实用新型的喷射机构正视图。
图中：1、底座；11、滑轨；2、前侧板；3、后侧板；4、第二齿轮；5、板托架；51、卡槽；6、移动机构；61、滑块；62、马达；63、齿条；64、第一齿轮；7、喷射机构；71、托板；711、导向杆；72、水箱；73、外壳；74、转盘；741、喷嘴；742、弧形齿口；743、主轴；75、电机。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1-2，一种液晶显示屏生产用光刻胶冲洗装置，包括底座1、前侧板2和后侧板3，前侧板2和后侧板3并排固定在底座1的顶面上，前侧板2和后侧板3相互平行，前侧板2和后侧板3之间的底座1上通过螺栓安装滑轨11，滑轨11上方的前侧板2和后侧板3之间固定倾斜的板托架5，板托架5倾斜方式让喷射的液体快速流下，倾斜的角度根据需求设置，板托架5的上下边沿上加工内凹的卡槽51，卡槽51内卡入显示屏的边角，卡槽51将显示屏上的半导体卡住，板托架5位于卡槽51同一侧的表面上分布顶端直径为1-3mm的圆台，板托架5下方的底座1上放置收集槽，圆台让半导体悬空，方便水流流下。
请参阅图3，滑轨11上固定移动机构6，移动机构6包括滑块61、马达62、齿条63和第一齿轮64，齿条63放置在滑轨11上，滑块61卡在包覆齿条63的滑轨11上，并在滑块61的顶端连接喷射机构7，马达62安装在滑块61的外壁上，马达62上旋转的转轴穿过滑块61安装有与齿条63相啮合的第一齿轮64，利用马达62驱动第一齿轮64旋转，带动滑块61沿着滑轨11移动，从而让喷射机构7水平移动，可以将半导体长度方向都喷射到。
请参阅图4-5，喷射机构7包括托板71、水箱72、外壳73、转盘74和电机75，托板71的底面与滑块61相接，托板71内贯穿导向杆711，导向杆711为移动起到导向作用，托板71的顶端并排放置水箱72和外壳73，外壳73内安装带有第二齿轮4的电机75，外壳73朝向板托架5侧壁上加工的条形槽之间插入转盘74，转盘74的两侧圆心处连接有插入外壳73轴承的主轴743，两根主轴743一端中空，一端实心，中空的主轴743内插入旋转的水箱72管道，主轴743和水箱72管道连接处密封，主轴743在旋转时，水箱72管道不会旋转，并且旋转不会影响其密封性，而且水箱72内的水会流入主轴743内，转盘74延伸至外壳73外部的端面上安装喷嘴741，水箱72通过管道与转盘74上的喷嘴741连通，转盘74和板托架5之间的距离为5-10cm，转盘74直径的1/2露出外壳73，转盘74和板托架5之间距离不易过近或者过远，设置的5-10cm适合冲洗，通过主轴743将水送至喷嘴741，转盘74延伸至外壳73内部的端面上安装有与第二齿轮4相啮合的弧形齿口742，电机75驱动第二齿轮4正旋或者反旋，在旋转过程中带动弧形齿口742旋转，从而调整喷嘴741的上下角度，完成半导体的竖直方向冲洗，通过水平以及竖直方向的调节，对半导体的表面全面的清洗。
综上所述：本液晶显示屏生产用光刻胶冲洗装置，板托架5下方的底座1上放置收集槽，圆台让半导体悬空，方便水流流下被收集槽收集，利用马达62驱动第一齿轮64旋转，带动滑块61沿着滑轨11移动，从而让喷射机构7水平移动，可以将半导体长度方向都喷射到，电机75驱动第二齿轮4正旋或者反旋，在旋转过程中带动弧形齿口742旋转，从而调整喷嘴741的上下角度，完成半导体的竖直方向冲洗，通过水平以及竖直方向的调节，对半导体的表面全面的清洗。
需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。
尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。
