一种真空吸附台面及曝光机
技术领域
本实用新型涉及曝光领域，尤其涉及一种真空吸附台面及曝光机。
背景技术
PCB线路板直接成像或光刻加工时，均是靠曝光机的真空台面吸住工件（即PCB线路板）背面，严格平铺到曝光机的台面表面，再行曝光。实际工件因产品和拼版不同，尺寸大小并不一样，如果工作时台面真空吸附孔没有正好容纳，会导致工件吸附不平，引发曝光不良。
现有处理方法有：1.更换合适大小的垫板；2.把多余的真空孔用胶片覆盖。这两种方法都是需要人工操作，并不方便。
实用新型内容
为解决上述技术问题，本实用新型提出一种真空吸附台面和曝光机，其目的是解决曝光过程中由于台面与工件大小不适合导致曝光不良的问题，其简化操作。
为了达到上述目的，本实用新型的技术方案如下：一种真空吸附台面，包括：
台面主体，所述台面主体在X轴方向和Y轴方向上分布有吸附孔；
遮盖面板，所述遮盖面板覆盖在所述台面主体上，所述遮盖面板伸缩设置且伸缩方向为Y轴方向，所述遮盖面板伸缩以控制所述遮盖面板遮盖所述台面主体的面积；
面板驱动装置，所述面板驱动装置驱动所述遮盖面板伸缩；
进一步的，所述吸附孔在X轴方向和Y轴方向上均匀分布。
进一步的，所述遮盖面板的两侧连接有连接件，所述面板驱动装置为电缸，所述连接件与所述面板驱动装置连接。
进一步的，两个所述连接件之间设置有固定杆，所述固定杆与所述遮盖面板的顶面固定连接。
进一步的，所述遮盖面板为聚氨酯材质的软板。
进一步的，所述真空吸附台面还包括卷料装置，所述卷料装置包括卷料轴、设置在所述卷料轴两端的支撑件、安装在所述支撑件上并与所述卷料轴的端部连接的轴承，所述卷料轴以其自身的轴线为转轴转动设置，所述遮盖面板缠绕在所述卷料轴上。
进一步的，所述卷料轴的端部连接有发条弹簧。
进一步的，台面主体在X轴方向上分为第一区域和第二区域，所述第一区域的吸附孔连接有真空泵，所述第一区域内的吸附孔通过一所述真空泵抽吸真空，所述第二区域包含多个子区域，每个子区域对应一个真空发生器。
进一步的，所述第二区域内的子区域包含对应Y轴方向至少一列吸附孔。
本实用新型还公开了一种曝光机，包括所述的真空吸附台面、曝光镜头、支架和运动组件，所述真空吸附台面安装在所述运动组件上并在所述运动组件的驱动下在所述支架的下方运动，所述曝光镜头安装在所述支架上。
本实用新型的有益效果：本实用新型提供的真空吸附台面及曝光机，通过遮盖面板遮盖多余的吸附孔，以避免破真空吸附力不够，使其适用于不同大小的工件，台面第二区域内设置的多个真空发生器可选择性地控制多排吸附孔的开关，省了人力，也提高了稳定性，提高了产能。
附图说明
图1为实施例一的俯视图；
图2为实施例一的侧视图；
图3为实施例一的立体图；
图4位实施例二的结构示意图；
其中：1.台面主体，2.吸附孔，3.遮盖面板，4.面板驱动装置，5.连接件，6.固定杆，7.卷料装置，701.卷料轴，702.支撑件，703.轴承，8.曝光镜头，9.支架，10.运动组件。
具体实施方式
下面结合具体实施方式对本实用新型作进一步详细的说明。
为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚明了，下面通过附图中示出的具体实施例来描述本实用新型。但是应该理解，这些描述只是示例性的，而并非要限制本实用新型的范围。此外，在以下说明中，省略了对公知结构和技术的描述，以避免不必要地混淆本实用新型的概念。
在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”、“左”、“右”、等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。
实施例一
如图1至图3所示，本实施例提供了一种真空吸附台面，包括台面主体1、遮盖面板3、面板驱动装置4和卷料装置7。
台面主体1水平设置。台面主体1在X轴方向和Y轴方向上分布有吸附孔2。吸附孔2在X轴方向和Y轴方向上均匀分布。该吸附孔2的作用则为吸附工件。在本实施例中，X轴方向为左右方向，Y轴方向为前后方向。
遮盖面板3覆盖在台面主体上，遮盖面板3伸缩设置且伸缩方向为Y轴方向。遮盖面板3伸缩以控制遮盖面板3遮盖台面主体1的面积，从而控制遮盖面板3遮盖吸附孔2的数量。
面板驱动装置4的作用是驱动遮盖面板3伸缩。面板驱动装置4为电缸。电缸为公知常识，本实施例不对其内部结构做详细描述。面板驱动装置4为对称设置的两组，且均位于台面主体1的下方。
遮盖面板3的左右两侧连接有连接件5，连接件5与面板驱动装置4连接。面板驱动装置4通过带动连接件5驱动遮盖面板3移动。两个连接件5之间设置有固定杆6，固定杆6与遮盖面板3的顶面固定连接。固定杆6的作用是防止遮盖面板3与连接件5脱离。
遮盖面板3为聚氨酯材质的软板。使用聚氨酯材料目的是使遮盖面板3的硬度小，便于吸附孔2抽真空时将遮盖面板3吸住以实现遮盖，同时遮盖面板3的耐磨性也更好。
卷料装置7的作用是收卷遮盖面板3，卷料装置7位于台面主体1的前方。卷料装置7包括卷料轴701、设置在卷料轴701两端的支撑件701、安装在支撑件702上并与卷料轴701的端部连接的轴承703。卷料轴701以其自身的轴线为转轴转动设置，遮盖面板3缠绕在卷料轴701上。卷料轴701的端部连接有发条弹簧，发条弹簧的作用是使卷料轴701转动以实现收料。发条弹簧为现有的常用结构，本实施例不对其结构做详细描述。
台面主体1在X轴方向上分为第一区域和第二区域。在本实施例中，第一区域为台面主体1的左半区域，第二区域为台面主体1的右半区域。第一区域的吸附孔2连接有真空泵（图中未示出），第二区域的吸附孔2连接有真空发生器（图中未示出）。真空发生器又名负压真空器，此装置用来提供吸孔的吸附力，真空泵和真空发生器均为公知的常用装置，本实施例不对其做详细描述。
第一区域内的吸附孔2通过一真空泵抽吸真空。所述第二区域包含多个子区域，每个子区域对应一个真空发生器，第二区域内子区域的Y轴方向上的一排吸附孔2通过一真空发生器抽吸真空。即把本来一体的台面真空腔体分为为左侧真空泵吸附部分和右侧多个真空发生器吸附腔排列部分，即真空腔体分为左侧一个大气室和右侧多条直列气室。
该真空吸附台面的工作过程为：
根据工件的大小，通过面板驱动装置4将遮盖面板3移动至合适位置，工作则放置在台面主体1的左上角，遮盖面板3的边缘移动到工件的边缘附件，以堵住多余的吸附孔2，避免破真空导致的吸附力不够。工件的左侧部分由真空泵提供吸力，工件的右侧部分由真空发生器提供吸力。另外，根据工件在X轴方向的大小，选择开启多少列的真空发生器，第二区域内不位于工件正下方的吸附孔2不抽吸真空。或者即使第二区域未被工件覆盖的吸附孔2抽吸真空，由于其真空独立发生，也不会影响工件整体被牢固和平稳的吸附在台面主体1上。
需要注意的是，在本实施例中工件在X轴方向上的长度大于第一区域在X轴方向上的长度。
实施例二
如图4所示，本实施例提供了一种曝光机，包括实施例一的真空吸附台面、曝光镜头8、支架9和运动组件10。真空吸附台面安装在运动组件10上并在运动组件10的驱动下在支架9的下方运动，曝光镜头8安装在支架9上。
运动组件10可以带动真空吸附台面在X轴方向和Y轴方向上运动，其包括Y轴运动组件和安装在Y轴运动组件上的X轴运动组件，真空吸附台面安装在X轴运动组件上。
以上所述仅为本实用新型的实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是利用本实用新型说明书内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其它相关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。
