一种按压开关出水结构、出水控制阀芯和出水装置
技术领域
本发明涉及厨卫领域，尤其涉及出水控制结构。
背景技术
出水阀芯广泛应用在各种出水终端中，出水阀芯的切换方式一般有旋转切换和按压切换两种。
按压切换因为操作手感好，并且按压切换产品的外观一体性比较好，不会出现旋转切换阀芯所必须的把手，因此外观比较美观，受到很多消费者的喜爱。
发明内容
本发明所要解决的主要技术问题是提供一种按压开关出水结构，减小按压开关的行程，减小整体结构的厚度和体积。
为了解决上述的技术问题。本发明提供了一种按压开关出水结构，包括：本体、密封组件和按压开关组件；
所述本体具有一进水口和出水口，以及连通进水口和出水口的出水流道；所述密封组件安装在本体内，并与本体之间形成一个压力腔；还具有一连通所述压力腔和出水流道的泄压孔；所述本体还具有一连通压力腔的进水孔；
所述按压开关组件带动一密封杆沿着轴向往复运动，使其在第一位置和第二位置之间运动；当密封杆位于第一位置时，所述泄压孔被密封杆密封，密封组件被水压将所述出水流道关闭；当所述密封杆位于第二位置时，所述泄压孔被密封杆打开，密封组件复位将所述出水流道打开；
当所述密封杆从第一位置移动至第二位置时，所述密封组件的一部分保持静止固定，另一部分发生形变以打开所述出水流道。
在一较佳实施例中：所述出水口设置在本体的下端面；所述进水口设置在本体的侧壁下端。
在一较佳实施例中：所述本体包括一外壳和底座，所述出水口设置在底座，所述进水口设置在底座和外壳的侧壁之间。
在一较佳实施例中：所述本体的下端面在进水口和出水口之间的区域沿着轴向向上延伸形成一圈凸缘；当所述密封杆位于第一位置时，所述密封组件的下端面与所述凸缘顶抵贴合，将出水流道关闭。
在一较佳实施例中：所述泄压孔处设置有密封圈，当所述密封杆位于第一位置时.密封杆的侧壁与所述密封圈贴合将所述泄压孔密封。
在一较佳实施例中：所述本体内设置有密封组件安装座，所述安装座具有沿着轴向设置的贯穿开口，并且所述贯穿开口的内壁沿着径向向内延伸形成放置所述密封圈的平台。
在一较佳实施例中：所述密封组件包括皮碗、皮碗支撑件；所述皮碗包括内圈和U形外圈，所述U形外圈的侧壁上设有Y形圈；所述安装座分为上座和下座，所述皮碗的内圈被夹持固定在上座和下座之间；U形外圈的侧壁与本体的内壁通过Y形圈密封；
所述皮碗支撑件的上表面与皮碗U形外圈的下表面顶抵支撑，下表面延伸至皮碗外。
在一较佳实施例中：所述按压开关组件包括按钮、上棘轮和下棘轮、所述密封杆与下棘轮连动配合。
本发明还提供了一种出水控制阀芯，使用了如上所述的按压开关出水结构。
本发明还提供了一种出水装置，使用了如上所述出水控制阀芯。
在一较佳实施例中：所述出水装置为恒温淋浴器。
相较于现有技术，本发明的技术方案具备以下有益效果：
本发明提供的一种按压开关出水结构，皮碗的内圈是固定的依靠水压或者弹性复位件的作用来改变皮碗U形外圈的高度，从而使得皮碗的下端面密封或打开出水流道，这样可以最大限度减小按压开关的行程，阀芯的高度尺寸就可以尽可能做小。并且，在出水时，皮碗的打开高度不受泄压孔位置影响，阀芯流量不受影响，可以实现小阀芯大流量的要求。
附图说明
图1为本发明优选实施例1中恒温淋浴器的外观图；
图2为本发明优选实施例1中恒温淋浴器的剖视图；
图3为本发明优选实施例1中按压开关出水结构的外观图；
图4为本发明优选实施例1中按压开关出水结构的爆炸图；
图5为本发明优选实施例1中按压开关组件在关水状态下的剖视图；
图6为本发明优选实施例1中按压开关组件在开水状态下的剖视图；
图7为本发明优选实施例2中按压开关组件在关水状态下的剖视图；
图8为本发明优选实施例2中按压开关组件在开水状态下的剖视图。
具体实施方式
下文结合附图和具体实施方式对本发明做进一步说明。
实施例1
参考图1和2，本实施例以恒温淋浴器进行举例，但是本发明的改进之处在于按压开关出水结构，以恒温淋浴器仅是为了更好地说明本发明的有益效果，其他的出水终端中依然可以使用本实施例的按压开关出水结构，因此不能以此限定本发明的保护范围。
一种恒温淋浴器，包括外壳、热水进水口、冷水进水口、第一混合水出水口和第二混合水出水口；外壳内放置了两个出水控制阀芯，分别用于将第一混合水出水口和第二混合水出水口打开或者关闭，从而实现出水控制。从图上可以看出，本发明地恒温淋浴器控制部分的宽度非常小，这是因为上述的出水控制阀芯地高度很小。因此，下文对于出水控制阀芯地结构做出进一步说明：
参考图1-4，该出水控制阀芯使用了按压开关出水结构，包括：本体1、密封组件2和按压开关组件3；
所述本体1具有一进水口11和出水口12，以及连通进水口11和出水口12的出水流道；所述密封组件2安装在本体1内，并与本体1之间形成一个压力腔13；还具有一连通所述压力腔13和出水流道的泄压孔21；所述本体1还具有一连通压力腔13的进水孔14；
所述按压开关组件3带动一密封杆31沿着轴向往复运动，使其在第一位置和第二位置之间运动；当密封杆31位于第一位置时，所述泄压孔21被密封杆31密封，压力腔13中的水压增大，密封组件2被水压推动至密封位置将所述出水流道关闭，同时密封组件2挤压复位组件4积累弹性复位力；当所述密封杆31位于第二位置时，所述泄压孔21被密封杆31打开，压力腔13中的水压减小，此时密封组件2受到向上的进水压力，进水压力和复位组件4的复位力带动密封组件2复位将所述出水流道打开。这样就完成了止水和开水两个过程。当所述密封杆从第一位置移动至第二位置时，所述密封组件的内圈保持静止固定，外圈发生形变以打开所述出水流道。
需要说明的是，复位组件4是在低压情况下辅助打开密封组件2的，如果水压是正常的状态下，去除复位组件4仅仅依靠水压差也是可以将密封组件2打开的。
本实施例中，所述出水口12设置在本体1的下端面；所述进水口11设置在本体1的侧壁下端。使得出水口12和进水口11形成类似一个同心圆的分布，二者可以位于同一水平面内，相对于传统的将进水口11和出水口12上下排布，这种排布方式可以降低出水控制阀芯的整体高度，阀芯高度降低了，恒温淋浴器的整体的宽度。
具体来看本实施例的结构：所述本体1包括一外壳14和15，所述出水口12设置在底座15，所述出水口12设置在15和外壳14的侧壁之间。也就是说外壳14的底面为开口面，底座15放置在开口面处时，底座15的边缘和外壳侧壁的边缘形成一定空隙，这个空隙就形成了进水口11。
为了实现密封组件2对出水通道的关闭，所述本体1的下端面，也就是底座15在进水口11和出水口12之间的区域沿着轴向向上延伸形成一圈凸缘151；当所述密封杆31位于第一位置时，所述密封组件2的下端面与所述凸缘151顶抵贴合，将出水流道关闭。
为了实现密封杆31密封泄压孔21，所述泄压孔21处设置有密封圈22，当所述密封杆31位于第一位置时.密封杆31的侧壁与所述密封圈22贴合将所述泄压孔21密封。
对于泄压孔21的设置，本发明采用了如下所述的结构，所述本体1内设置有密封组件2安装座16，所述安装座16具有沿着轴向设置的贯穿开口，并且所述贯穿开口的内壁沿着径向向内延伸形成放置所述密封圈的平台163，密封圈22就放置在平台163上，从而形成泄压孔21。密封杆31具有沿着轴向设置的第一部分和第二部分，其中第一部分的直径小于第二部分，当密封杆31位于第一位置时，第二部分运动至密封圈22中，使得第二部分与密封圈22的内周贴合，从而关闭了泄压孔21。而当密封杆31位于第二位置时，第一部分运动至密封圈22中，由于第一部分的直径小于第二部分，这样密封杆31与密封圈22的内壁就解除了贴合的状态，泄压孔21被打开。
本实施例中，所述密封组件2包括皮碗23、皮碗支撑件24和顶杆25；所述皮碗23包括内圈和U形外圈，所述U形外圈的侧壁上设有Y形圈；所述安装座16分为上座161和下座162，所述皮碗23的内圈被夹持固定在上座161和下座162之间；U形外圈的侧壁与本体1的内壁通过Y形圈密封；
所述皮碗支撑件24的上表面与皮碗23的U形外圈的下表面顶抵支撑，下表面延伸至皮碗23外。皮碗支撑件24的作用除了对U形外圈提供支撑外，还通过暴露在皮碗23外的部分与顶杆25抵接，而顶杆25与复位组件4联动设置，这样在复位组件带动顶杆25复位时，顶杆25就会推动皮碗支撑件24，又因为皮碗23的内圈被夹持固定在上座161和下座162之间，所以皮碗23的整体位置是不会变化的，顶杆25对U形外圈的作用力和进水压力只会使得U形外圈的高度发生改变，从而实现皮碗23与凸缘151的分离。这种方式皮碗无需发生移动，因此进一步缩小了阀芯的高度。
本实施例中，所述顶杆25的一部分伸入所述贯穿开口中，另一部分沿着径向张开与所述皮碗23支撑件暴露在皮碗23外的部分抵接。
所述按压开关组件3包括按钮、上棘轮和下棘轮、所述密封杆31与下棘轮连动配合。按钮、上棘轮和下棘轮构成了圆珠笔按压切换机构，从而实现循环切换。圆珠笔按压切换机构属于现有技术中广泛应用的，在本文中不做更多描述。
实施例2
参考图7和图8，本实施例与实施例的区别在于取消了复位组件和顶杆。在开水状态时，此时棘轮及密封杆31处于上行位置，密封杆31上有凹面与密封圈22不密封，压力腔13的水压释放，此时密封组件2受到向上的进水压力，密封组件2因上下压力差影响，皮碗23下方水压大于压力腔13的水压，受水压向上推力，密封组件2通过U形外圈变形上行，密封组件2离开底座密封面，即处于开水状态。
在关水状态时，此时按压使密封杆31下行，密封杆31与密封圈22形成密封，内压腔水压瞬间增加，密封组件2在U形外圈变形复位力作用下，密封组件2将向下移动与凸缘151密封至关闭，此时密封组件2上方受水压面积大于下方面积，阀芯关闭。
以上所述，仅为本发明较佳的具体实施方式，但本发明的设计构思并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，利用此构思对本发明进行非实质性的改动，均属于侵犯本发明保护范围的行为。
