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一种从废有机硅浆渣中提取铜和氧化硅抛光粉的系统

2021-04-08 05:59:59

一种从废有机硅浆渣中提取铜和氧化硅抛光粉的系统

  技术领域

  本实用新型涉及固废处理技术领域,具体为一种从废有机硅浆渣中提取铜和氧化硅抛光粉的系统。

  背景技术

  随着工业发展,市场对有机硅单体的需求逐年扩大,因而产生的污染废物逐年增多,在甲基氯硅烷生产过程中,采用甲基氯硅烷的高沸点副物对合成的甲基氯硅烷混合物进行湿式除尘,产生了一种酱色的浆状液固混合物,其主要成分由1,2-二甲基四氯二硅烷等组成,并含1.5~5%的铜,这种混合物简称有机硅浆渣,如能提取其中的硅和铜,并得到高附加值的产品,将产生较好的经济价值。

  申请号为201120169156.4的中国专利公开了一种有机硅生产过程中产生的浆渣专用焚烧设备,其主要研发焚烧设备,然而对如何利用其中的高品质硅却没有提及,最终产物中的硅和铜混合在一起,没有有效的分离,因此,本实用新型旨在开发一种利用有机硅浆渣生产产品附加价值较大的氧化硅抛光粉和金属铜的系统,以简化生产流程,提高经济效益。

  实用新型内容

  本实用新型所解决的技术问题在于提供一种从废有机硅浆渣中提取铜和氧化硅抛光粉的系统,以解决上述背景技术中的缺点。

  本实用新型所解决的技术问题采用以下技术方案来实现:

  一种从废有机硅浆渣中提取铜和氧化硅抛光粉的系统,包括反应槽、过滤装置、电积装置、调浆装置、干燥装置、焙烧装置以及粉碎装置,所述反应槽上设置进料斗,反应槽连接所述过滤装置,过滤装置的滤液出口通过管道与所述电积装置连接,电积装置的阴极的电积得到铜片,过滤装置的滤渣出口通过管道连接所述调浆装置,所述调浆装置、干燥装置,焙烧装置、粉碎装置依次连接,粉碎装置的出料口与用于存放氧化硅抛光粉的储料罐连接。

  进一步地,所述反应槽为搅拌反应槽。

  进一步地,所述过滤装置为真空过滤机。

  进一步地,所述电积装置为旋转电积槽,排液口与所述反应槽连接,残液可以作为酸液向反应槽内补充原料,从而形成闭合循环,酸液得到充分利用。

  进一步地,所述干燥装置为超高速离心喷雾干燥机,从调浆装置中出来的浆液在超高速离心喷雾干燥机中形成平均粒径小于1μm的有机硅粉。

  进一步地,所述焙烧装置为沸腾焙烧窑,有机硅粉在沸腾焙烧窑中形成平均粒度小于0.2μm的氧化硅粉。

  进一步地,所述粉碎装置为气流粉碎机,氧化硅粉在气流粉碎机中形成平均粒度小于0.1μm、最大粒度为2μm的氧化硅抛光粉,该氧化硅抛光粉可用于不锈钢等工件的表面抛光领域,经济价值高。

  有益效果:本实用新型可将有机硅浆渣中的硅和铜合理分离,产出高价值的氧化硅抛光粉和金属铜,氧化硅抛光粉的平均粒度为小于0.1μm,可用于不锈钢等工件的表面抛光领域,经济价值高,金属铜纯度可达99.9%,产品售价高。

  附图说明

  图1为本实用新型较佳实施例的示意图。

  其中:1、反应槽;2、过滤装置;3、电积装置;4、干燥装置;5、焙烧装置;6、粉碎装置;7、储料罐;8、盐酸加料罐;9、双氧水加料罐;10、调浆装置;11、进料斗。

  具体实施方式

  为了使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体图示,进一步阐述本实用新型。

  参见图1的从废有机硅浆渣中提取铜和氧化硅抛光粉的系统,包括反应槽1、过滤装置2、电积装置3、调浆装置10、干燥装置4、焙烧装置5以及粉碎装置6,反应槽1为搅拌反应槽,反应槽1上设置进料斗11,反应槽11顶部还设置有对应的盐酸加料罐8和双氧水加料罐9,反应槽1连接过滤装置2,过滤装置2为真空过滤机,过滤装置2的滤液出口通过管道与电积装置3连接,电积装置3为旋转电积槽,电积装置的阴极的电积得到纯度大于或等于99.9%的铜片,过滤装置2的滤渣出口通过管道连接调浆装置10,调浆装置10为调降槽,调浆装置10、干燥装置4,焙烧装置5、粉碎装置6依次连接,粉碎装置6的出料口与用于存放氧化硅抛光粉的储料罐7连接,具体的,干燥装置4为超高速离心喷雾干燥机,从过滤装置2中出来的滤渣在调浆装置10中调浆后,在超高速离心喷雾干燥机中形成平均粒径小于1μm的有机硅粉,焙烧装置5为沸腾焙烧窑,有机硅粉在沸腾焙烧窑中形成平均粒度小于0.2μm的氧化硅粉,而粉碎装置6为气流粉碎机,氧化硅粉在气流粉碎机中形成平均粒度小于0.1μm、最大粒度为2μm的氧化硅抛光粉,该氧化硅抛光粉可用于不锈钢等工件的表面抛光领域,经济价值高。

  本实施例中,电积装置3的排液口与反应槽1连接,残液可以作为酸液向反应槽1内补充原料,从而形成闭合循环,酸液得到充分利用。

  以上显示和描述了本实用新型的基本原理、主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解,本实用新型不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理,在不脱离本实用新型精神和范围的前提下,本实用新型还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。

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