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使用了环式羰基化合物的抗蚀剂下层膜形成用组合物 使用了环式羰基化合物的抗蚀剂下层膜形成用组合物技术领域本发明涉及显示高蚀刻耐性、良好的干蚀刻速度比和光学常数，对所谓高低差基板也被覆性良好，埋入后的膜厚差小，能够形成
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