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一种陶瓷上釉工艺

2023-04-13 09:53:54

一种陶瓷上釉工艺

  技术领域

  本发明涉及陶瓷生产设备,具体为一种陶瓷上釉工艺。

  背景技术

  釉是覆盖在陶瓷制品表面的无色或有色的玻璃质薄层,是用矿物原料和原料 按一定比例配合经过研磨制成釉浆,施于坯体表面,经一定温度煅烧而成,釉能 增加制品的机械强度、热稳定性和电介强度,还有美化器物、便于拭洗、不被尘 土腥秽侵蚀等特点,上釉的均匀性影响着陶瓷制坯的品质。

  中国专利申请号为号CN201810393280.5的发明专利公开了一种陶瓷上釉工 艺,该工艺包括以下步骤:S1,将陶瓷色料和水放入搅拌罐中进行搅拌混合;S2, 将S2中搅拌后的陶瓷色料涂抹在陶瓷的表面;S3,将S2中的陶瓷放入烧制炉中 进行烧制。该工艺中采用的搅拌罐包括罐体、进料机构、注水机构、传送机构、 收集机构、复位机构、控料机构、控水机构及承接板,所述罐体上设有所述进料 机构,利用进料机构和控料机构,能够有效控制收集盒中的进料。利用注水机构 和控水机构能够有效控制收集盒中的注水,从而精确调节陶瓷色料和水的比例, 从而精确调节陶瓷色料的含水量。利用传送机构能够在固定时间间隔内将收集盒 传送到复位机构上,方便收集色料和水。

  但是,该发明使用时,将陶瓷色料涂抹在陶瓷表面,涂抹时,陶瓷色料的厚 度难以保持一致,导致陶瓷色料薄厚不均影响最终烧制效果。

  发明内容

  针对上述问题,本发明提供了一种陶瓷上釉工艺,其通过导向轮向外移动将 坯料支撑,并且其配合橡胶板将坯料抓取,之后在导向杆与限位圈的作用下坯料 被浸入釉池,在釉池内,齿轮先后与齿条a及齿条b配合驱动坯料在釉池内进行 正反转,解决了现有技术中采用涂抹的方式陶瓷坯料进行上釉,而釉料厚度难以 保持一致进而影响陶瓷烧制效果的技术问题。

  为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:

  一种陶瓷上釉工艺,包括以下步骤:

  步骤一:坯料的运输抓取,运输组件a将待上釉的坯料输送至运输组件b 的下方,之后所述运输组件a与所述运输组件b同步运动,导向杆在限位圈的作 用下向下移动,导向轮进入坯料的内部,之后的移动过程中,限位条及接触杆下 移带动所述导向轮向外移动将坯料支撑抓取;

  步骤二:坯料上釉,经步骤一之后,所述运输组件b携带坯料移动至釉池的 上方,在之后的移动中,所述导向杆再次下移,坯料浸入所述釉池内,之后,之 后旋转组件带动坯料旋转上釉;

  步骤三:坯料沥干,经步骤二之后,在所述限位圈的作用下所述导向杆上移 带动坯料移出所述釉池,所述运输组件b带动坯料继续在所述釉池上方移动并进 行沥干;

  步骤四:坯料放料输出,经步骤三之后,所述运输组件b携带坯料移动至运 输组件c的上方,所述运输组件b与所述运输组件c同步运动,所述限位条及所 述接触杆上移带动所述导向轮松开对瓶胚的束缚,之后所述导向杆在所述限位圈 的作用下向上移动,所述导向轮移出坯料,坯料被所述运输组件c输送。

  作为改进,在步骤一中,所述导向杆移动自所述限位圈的接触部移动至与凹 陷部a配合,进而使所述导向轮下移伸入坯料内部,并且在抓取完成之后,所述 导向杆再次移动至与所述接触部配合。

  作为改进,在步骤一中,所述限位条移动沿限位轨a的下表面接触,所述接 触杆下移,驱使滑动杆带动套筒外侧的所述导向轮沿坯料的内壁向下移动,坯料 被向上提起。

  作为改进,在步骤一中,瓶体上移至其上口与橡胶板的下表面抵触,所述橡 胶板将瓶口封堵的同时配合所述导向轮将坯料固定。

  作为改进,在步骤二中,所述导向杆移动至与所述限位圈中的凹陷部b配合, 并且贯穿整个上釉过程。

  作为改进,在步骤二中,所述旋转组件中的齿轮先后与位于所述釉池两侧齿 条a及齿条b配合,进而实现坯料在所述釉池内正反转。

  作为改进,在步骤二中,坯料转动上釉时,限位杆a234在限位轮233的边 缘的配合槽内切换,其余过程中,所述限位杆a234锁定所述限位轮233。

  作为改进,在步骤四中,所述导向杆移动至与所述限位圈的凹陷部c配合, 并贯穿整个放料的过程。

  作为改进,在步骤四中,所述限位条移动沿限位轨b的上表面接触,所述接 触杆上移,驱使所述导向轮向内收回,坯料解除束缚。

  作为改进,在步骤1及步骤四中,限位杆b在上下设置的限位孔内的切换实 现所述接触杆上下移动时的自锁。

  本发明的有益效果在于:

  (1)在步骤二中,齿条a及齿条b先后与齿轮配合并控制坯料在釉池内进 行正反转,保证了坯料外表面可以均匀的附着釉料,提高了陶瓷后续烧制成品的 品质;

  (2)在步骤一中,抓取陶瓷坯料时,导向轮移动至坯料的瓶颈下方,之后 滑动杆在接触杆的作用下向外移动,导向轮沿坯料内壁向下滚动,坯料随之上移 直到开口与橡胶板抵触封闭,保证了釉料在上釉时不会进入坯料的内部,减少了 釉料的浪费,同时坯料转移上釉的过程中不会出现松动;

  (3)本发明的自动化程度高,只需人工将未上釉的坯料放置在进料装置上 的相应位置即可,操作简单,上釉效率高减少了人工成本。

  综上所述,本发明具有结构简单、设计巧妙、上釉均匀及上釉效率高等优点, 尤其适用于陶瓷坯料的上釉过程。

  附图说明

  图1为本发明的工艺流程图;

  图2为本发明的整体结构示意图图一;

  图3为本发明的整体结构示意图图二;

  图4为图2中A处放大图;

  图5为图2中B处放大图;

  图6为图3中C处放大图;

  图7为图3中D处放大图;

  图8为瓶坯抓取状态示意图;

  图9为图8中E处放大图;

  图10为限位轮配合状态图。

  具体实施方式

  下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清 楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全 部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳 动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。

  在本发明的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、 “长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、 “右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、 “逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的设备或元件必须具有特 定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。

  此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗 示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、 “第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明的描 述中,“多个”的含义是两个或两个以上,除非另有明确具体的限定。

  实施例一:

  如图1所示,一种陶瓷上釉工艺,包括以下步骤:

  步骤一:坯料的运输抓取,运输组件a11将待上釉的坯料输送至运输组件 b21的下方,之后所述运输组件a11与所述运输组件b21同步运动,导向杆231 在限位圈243的作用下向下移动,导向轮236进入坯料的内部,之后的移动过程 中,限位条2374及接触杆2371下移带动所述导向轮236向外移动将坯料支撑抓 取;

  步骤二:坯料上釉,经步骤一之后,所述运输组件b21携带坯料移动至釉池 31的上方,在之后的移动中,所述导向杆231再次下移,坯料浸入所述釉池31 内,之后,之后旋转组件32带动坯料旋转上釉;

  步骤三:坯料沥干,经步骤二之后,在所述限位圈342的作用下所述导向杆 231上移带动坯料移出所述釉池31,所述运输组件b21带动坯料继续在所述釉池 31上方移动并进行沥干;

  步骤四:坯料放料输出,经步骤三之后,所述运输组件b21携带坯料移动至 运输组件c41的上方,所述运输组件b21与所述运输组件c41同步运动,所述限 位条2374及所述接触杆2371上移带动所述导向轮236松开对瓶胚的束缚,之后 所述导向杆231在所述限位圈243的作用下向上移动,所述导向轮236移出坯料, 坯料被所述运输组件c41输送。

  进一步的,在步骤一中,所述导向杆231移动自所述限位圈243的接触部 2431移动至与凹陷部a2432配合,进而使所述导向轮236下移伸入坯料内部, 并且在抓取完成之后,所述导向杆231再次移动至与所述接触部2431配合。

  进一步的,在步骤一中,所述限位条2374移动沿限位轨a2375的下表面接 触,所述接触杆2371下移,驱使滑动杆235带动套筒232外侧的所述导向轮236 沿坯料的内壁向下移动,坯料被向上提起。

  进一步的,在步骤一中,瓶体上移至其上口与橡胶板238的下表面抵触,所 述橡胶板238将瓶口封堵的同时配合所述导向轮236将坯料固定。

  进一步的,在步骤二中,所述导向杆231移动至与所述限位圈342中的凹陷 部b2433配合,并且贯穿整个上釉过程。

  进一步的,在步骤二中,所述旋转组件32中的齿轮321先后与位于所述釉 池31两侧齿条a322及齿条b323配合,进而实现坯料在所述釉池31内正反转。

  进一步的,在步骤二中,坯料转动上釉时,限位杆a234在限位轮233的边 缘的配合槽内切换,其余过程中,所述限位杆a234锁定所述限位轮233。

  进一步的,在步骤四中,所述导向杆231移动至与所述限位圈342的凹陷部 c2433配合,并贯穿整个放料的过程。

  进一步的,在步骤四中,所述限位条2374移动沿限位轨b2376的上表面接 触,所述接触杆2371上移,驱使所述导向轮236向内收回,坯料解除束缚。

  进一步的,在步骤1及步骤四中,限位杆b2373在上下设置的限位孔2372 内的切换实现所述接触杆2371上下移动时的自锁。

  实施例二:

  本发明还提供了一种陶瓷上釉设备:

  如图2和图3所示,一种陶瓷上釉设备,包括:

  进料装置1,所述进料装置1包括运输组件a11;

  转运组件2,所述转运组件2包括运输组件b21、安装组件22、抓取组件23 及控制组件24,所述运输组件b21设置在所述运输组件a11一侧;所述安装组 件22上下滑动设置在所述运输组件a11的侧面,若干所述安装组件22沿所述运 输组件b21的输送路径阵列,且所述安装组件22经过所述运输组件a11的上方; 所述抓取组件22与所述安装组件22一一对应设置,且其伸缩设置在所述安装组 件22的底部;所述控制组件24设置在所述安装组件22的上方,且其与所述安 装组件22抵触设置;

  上釉装置3,所述上釉装置3包括釉池31和旋转组件32,所述釉池31沿所 述运输组件b21的输送路径设置在所述进料装置1的后侧;所述旋转组件32沿 所述运输组件b21输送路径设置在所述釉池31两侧,且所述旋转组件32驱动所 述抓取组件23转动;

  出料装置4,所述出料装置4包括运输组件c41,所述运输组件b21的输送 路径设置在所述釉池31的后侧;

  在工作过程中,未上釉的瓶胚通过所述运输组件a11输送并经过与其同步移 动的所述安装组件22的下方,所述控制组件24驱动所述安装组件22下移,所 述抓取组件23伸入瓶胚内部,随着移动,所述抓取组件23伸出将瓶胚与所述安 装组件22固定,瓶胚被运送至所述釉池31上方时,所述控制组件24驱动所述 安装组件22下移,瓶胚进入所述釉池31,所述旋转组件32带动所述抓取组件 23及瓶胚在所述釉池31内转动,上釉之后瓶胚继续运输至所述运输组件c41上 方,所述抓取组件23松开对瓶胚的束缚,同时所述控制组件24带动所述抓取组 件23移出瓶胚,瓶胚被所述运输组件c41输送。

  需要说明的是,所述运输组件a11为水平方向上转动的传送带系统,且其上 阵列若干放置坯料5的底座;所述运输组件c41为竖直方向上转动的传送带系 统。

  如图2所示,所述运输组件b21包括安装架211、链轮212、链条213及电 机214,所述链轮212转动安装在所述安装架211上,且三个所述链轮212沿所 述安装加211长度方向阵列;所述链条213套设在所述链轮212的外侧;所述电 机214固定在所述安装架211上,且其动力轴与位于中间的所述链轮212同轴固 定连接。

  需要说明的是,所述链条213的转动方向与所述运输组件a11的转动方向相 反,且所述链条213与所述运输组件a11转动线速度保持一致。

  进一步的,所述安装组件22包括固定杆221、滚轮222及安装台223,所述 固定杆221垂直固定在所述链条213上,且若干所述固定杆221沿所述链条213 转动路径阵列;所述滚轮22与所述固定杆221一一对应设置,且其通过连接杆 转动安装在所述固定杆221的下方,该滚轮22沿所述安装架211的边缘滚动; 所述安装台223固定在所述固定杆221的自由端。

  如图4至图8所示,作为一种优选的实施方式,所述抓取组件23包括导向 杆231、套筒232、限位轮233、限位杆a234、滑动杆235、导向轮236、限位组 件237、橡胶板238及弹簧a239,所述导向杆231上下滑动设置在所述安装台 223上;所述套筒232转动安装在所述滑动杆231的底部;所述限位轮233固定 安装在所述套筒232顶端,且其与所述导向杆231转动连接;所述限位杆a234 弹性固定在所述套筒232顶端,且其与所述限位轮233抵触配合;所述滑动杆 235沿所述套筒232径向滑动设置在所述套筒232底部,且四根所述滑动杆235 以所述套筒232的轴心为中心圆周阵列分布;一对所述导向轮236转动安装在所 述滑动杆236长度方向两端;所述限位组件237上下滑动设置在所述套筒232 内部,且其与位于所述套筒232内部的所述导向轮236抵触配合;所述橡胶板 238环绕在所述套筒232的外壁上,且其位于所述滑动杆235的上方;所述弹簧 a239套设在所述滑动杆235上,且其两端分别固定在所述套筒232的内壁和所 述滑动杆235的一端。

  需要说明的是,为了保证所述导向杆231在所述安装台223上只保持上下滑 动,所述导向杆231上设置有导向条,所述安装台223上开设有与导向条配合的 导向槽。

  更需要说明的是,如图10所示,所述限位轮233的边缘处开设若干配合槽, 所述限位杆a234设置插在配合槽内,当所述套筒232转动时,所述限位杆a234 切换不同的配合槽,所述套筒232停止转动,所述限位杆a234将所述限位轮233 锁定。

  如图8和图9所示,作为一种优选的实施方式,所述限位组件237包括接触 杆2371、限位孔2372、限位杆b2373、限位条2374、限位轨a2375及限位轨b2376, 所述接触杆2371竖直滑动设置在所述套筒232内,且所述接触杆2371顶端通过 弹簧与所述套筒232连接,该接触杆2371包括上下设置的凸起部23711和配合 部23712,且位于所述套筒232内部的所述导向轮236沿所述凸起部23711和配 合部23712滚动;两个所述限位孔2372上下设置在所述凸起部23711上;所述 限位杆b2373弹性固定在所述套筒232的内壁上,且其可插设在所述限位孔2372 内;所述限位条2374垂直所述链条213转动方向设置在所述接触杆2371的顶部,且所述限位条2374伸出所述套筒232;所述限位轨a2375沿所述链条213的转 动方向设置在所述釉池31的前侧,且其位于所述运输组件a11的上方,该限位 轨a2375沿所述链条213的转动方向其轨道高度降低,且其下表面与所述限位条 2374抵触配合;所述限位轨b2376沿所述链条213的转动方向设置在所述釉池 31的后侧,且其位于所述运输组件c41的上方,该限位轨b2376沿所述链条213 的转动方向其轨道高度增加,且其上表面与所述限位条2374抵触配合。

  进一步的,所述控制组件24包括挡板241、弹簧b242及限位圈243,所述 挡板241固定在所述导向杆231的上;所述弹簧b242设置在所述挡板241及所 述安装台223之间,且其套设在所述导向杆231上;所述限位圈243与所述安装 架211固定连接,且其沿所述安装组件22的移动路径设置,并且与所述导向杆 231的顶端抵触配合。

  更进一步的,所述限位圈243包括接触部2431、凹陷部a2432、凹陷部b2433 及凹陷部c2434,所述凹陷部a2432及所述凹陷部c2434分别与所述限位轨a2375 及限位轨b2376设置,所述凹陷部b2433位于所述釉池3上方;所述接触部2431 将所述凹陷部a2432、凹陷部b2433及凹陷部c2434串联成一整体。

  需要说明的是,如图4、图5、图8和图9所示,抓取所述坯料5的过程如 下,所述套筒232位于所述坯料5上方,且二者同步移动,所述导向杆231移动 与所述凹陷部a2432配合,所述套筒232下移伸入所述坯料5的瓶口,所述弹簧 b242收缩,且所述滑动杆235所在平面移动至瓶颈下方,之后所述限位条2374 移动至与所述限位杆a2375的下表面接触,所述所述接触杆2371下移,所述限 位杆b2373切换至位于上方的所述限位孔2372内,此时位于所述套筒232内的 所述导向轮236自所述配合部23712移动至与所述凸起部23711配合,所述滑动 杆235向外伸出,所述弹簧a239收缩,位于所述套筒232外侧的所述导向轮236 沿所述坯料5的内壁向下移动,所述坯料5被抬升知道其开口与所述橡胶板238 抵触配合,之后所述导向杆231自所述凹陷部a2432移动至与所述接触部2431 配合,所述坯料5脱离所述运输组件a11。

  更需要说明的是,所述坯料5的开口被所述橡胶板238封堵,保证了釉料不 会进入所述坯料5的内部,减少了釉料的浪费的同时保证后续所述坯料烧制的品 质。

  如图7所示,作为一种优选的实施方式,所述旋转组件32包括齿轮321、 齿条a322及齿条b323,所述齿轮321同轴固定在所述套筒232上;所述齿条a322 设置在所述釉池31一侧;所述齿条b323相对于所述齿条a322设置在所述釉池 31的另一侧,且其沿所述链条213的转动方向设置在所述齿条a322的后侧。

  需要说明的是,如图7所示,当所述抓取组件23移动至所述釉池31上方时, 所述导向杆231从所述接触部2431移动至与所述凹陷部b2433配合,所述坯料 5被送至所述釉池31内,且所述坯料5在所述釉池31内移动,所述齿轮321先 后和所述齿条a322及所述齿条b323配合,所述坯料5在所述釉池31内正反转, 保证釉料附着在所述坯料5外壁上的均匀性。

  更需要说明的是,如图6、图7和图9所示,在所述齿轮321与所述齿条b323 配合结束之后,所述导向杆231自所述凹陷部b2433移动至与所述接触部2431 配合,所述坯料5离开所述釉池31,接下来,所述导向杆231自所述接触部2431 移动至与所述凹陷部c2434配合,所述坯料5下移至所述运输组件c41上方,且 所述运输组件c41与所述坯料5同步运动,所述限位条2374移动至与所述限位 轨b2376的上表面接触,进而带动所述接触杆2371上移,所述限位杆b2373 自位于下方的所述限位孔2372切换至与位于上方的所述限位孔2372配合,位于 所述套筒232内部的所述导向轮236自所述凸起部23711移动至与所述配合部23712配合,所述弹簧a239伸长带动所述滑动杆235向内移动并松开对所述坯 料5的固定,所述坯料5落至所述运输组件c41上输出至下一道工序。

  着重需要说明的是,所述坯料5自进入所述釉池31的状态移出之后,其在 所述釉池31上方移动一段距离进行沥干,减少釉料的浪费。

  设备的工作过程:

  本发明中,工人将待上釉的所述坯料5放置在所述运输组件a11上,由所述 运输组件a11输送至所述抓取组件23下方,并且与所述抓取组件23同步移动, 所述导向杆231自所述接触部2431移动与所述凹陷部a2432配合,所述套筒232 下移伸入所述坯料5的瓶口,所述弹簧b242收缩,且所述滑动杆235所在平面 移动至瓶颈下方,之后所述限位条2374移动至与所述限位杆a2375的下表面接 触,所述接触杆2371下移,所述限位杆b2373切换至位于上方的所述限位孔2372 内,此时位于所述套筒232内的所述导向轮236自所述配合部23712移动至与所 述凸起部23711配合,所述滑动杆235向外伸出,所述弹簧a239收缩,位于所 述套筒232外侧的所述导向轮236沿所述坯料5的内壁向下移动,所述坯料5 被抬升知道其开口与所述橡胶板238抵触配合,之后所述导向杆231自所述凹陷 部a2432移动至与所述接触部2431配合,所述坯料5脱离所述运输组件a11, 之后所述抓取组件23携带所述坯料5移动至所述釉池31的上方,此时所述导向 杆231从所述接触部2431移动至与所述凹陷部b2433配合,所述坯料5被送至 所述釉池31内,且所述坯料5在所述釉池31内移动,所述齿轮321先后和所述 齿条a322及所述齿条b323配合,所述坯料5在所述釉池31内正反转,釉料均 匀的附着在所述坯料5的外壁,之后所述导向杆231自所述凹陷部b2433移动至 与所述接触部2431配合,所述坯料5离开所述釉池31,接下来,所述导向杆231 自所述接触部2431移动至与所述凹陷部c2434配合,所述坯料5下移至所述运 输组件c41上方,且所述运输组件c41与所述坯料5同步运动,所述限位条2374 移动至与所述限位轨b2376的上表面接触,进而带动所述接触杆2371上移,所 述限位杆b2373自位于下方的所述限位孔2372切换至与位于上方的所述限位孔 2372配合,位于所述套筒232内部的所述导向轮236自所述凸起部23711移动至与所述配合部23712配合,所述弹簧a239伸长带动所述滑动杆235向内移动 并松开对所述坯料5的固定,所述坯料5落至所述运输组件c41上输出至下一道 工序。

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