一种促进垄沟间排水的苗木栽培方法
技术领域
本发明属于苗木栽培技术领域，特别涉及一种促进垄沟间排水的苗木栽培方法。
背景技术
我国的降水在时间空间分布不均。在时间上，降水主要集中在夏秋季节；在空间上，降水量从东南沿海向西北内陆递减，这就导致了不同地区的旱涝问题。降水过多非常容易导致植物(如苗木、果树等)产生烂根、病害和涝害现象，对苗木的生长发育产生了严重的影响，尤其是位于亚热带季风海洋性气候区、潮湿多雨、常有连续数天甚至整月雨水的城市，如苏州。因此，苗木的排水问题至关重要。
传统的苗木一般采用起垄栽培，可以在提高地温和土壤通透性的同时方便管理排灌水。然而，雨水落在垄上，一部分会随着斜面流入沟中，还有很大一部分垂直下渗入深层，在雨水连续而密集的情况下，垄沟的排水效果并不理想，大量的雨水会垂直渗入根部附近，极易导致苗木的缺氧和烂根。高飞等人在《甘肃农业科技》发表的“起垄方式对垄膜沟灌玉米产量及水分利用效率的影响”一文中公开了提高玉米产量以及水分利用率的起垄方式，其通过研究表明在垄高15cm的条件下，玉米在垄面宽60cm、沟宽30cm时的水分利用率要明显高于微垄种植模式。赵新宇等人在《中国农村水利水电》发表的“宽垄沟灌湿润锋运移特性试验研究”一文中，通过试验证明了随着沟宽的增加，入渗时间加快，土壤湿润锋垂向运移距离减小，横向运移距离增大，即可以通过增加沟宽帮助横向排水。上述这些研究都是通过调整垄沟形来帮助植物排水，工作量较大且需要占用较大的耕地面积。
发明内容
为解决上述技术问题，本发明的目的在于提供一种促进垄沟间排水的苗木栽培方法，通过在垄侧面开凿侧坑，并在侧坑内填入绿化废弃物(植物枯枝落叶)和有机肥代替泥土，可以在多雨气候条件下促进苗木垄沟间排水，同时又可为苗木提供丰富的养分，具有便捷性、全面性和科学性的特点。
为实现上述技术目的，达到上述技术效果，本发明通过以下技术方案实现：
一种促进垄沟间排水的苗木栽培方法，包括如下步骤：
(1)整土起垄
对待种植区进行深翻并施底肥，然后相间地取土层堆成土垄，相邻土垄之间形成排水沟；
(2)确定种植点
以定点稀植为原则，根据垄宽和苗木生长范围定点定线，确定苗木的种植点和种植间距；
(3)作畦挖穴
垄上作畦，在垄顶的畦面上的种植点处挖种植穴，挖穴过程中，表土和底土分开堆放；
(4)凿坑填肥
在土垄的两侧面上对应每个种植点分别开凿一个侧坑，在侧坑的下层填入绿化废弃物与有机肥的混合物，侧坑的上层铺设疏松表土，并将其压实；
(5)回填种植穴
将苗木的根部置入种植穴中，然后对种植穴进行回填。
进一步的，步骤(1)中形成的土垄为梯形结构，土垄顶部的宽度为2m，底部的宽度为1.7m，排水沟的深度为40～50cm。
进一步的，步骤(3)中的种植穴的深度为60～80cm。
进一步的，步骤(4)中的每个侧坑的宽度为30cm，深度为40～50cm。
进一步的，回填种植穴时，种植穴的下层填入排水物料，以形成具有大空隙的排水层，种植穴的中层回填土质均匀的土壤，种植穴的上层回填土质精细的土壤，一般采用表层土；回填后浇透水分。
进一步的，步骤(5)中，用于回填种植穴下层的排水物料为沙砾石子。
该方法中的凿坑填肥的步骤在苗木栽植前后均可实施。
该方法适用于潮湿多雨，常有连续数天甚至整月的雨水的地区，如苏州等城市。
本发明的有益效果是：
本发明在垄侧面对应每个种植点分别开凿一个侧坑，在侧坑的下层填入绿化废弃物与有机肥的混合物，侧坑的上层铺设疏松表土，并将其压实；其中的绿化废弃物是植物自然生长发育脱落和通过修剪产生的草屑、枝条和树叶等，本身具有较好的通气性和透水性，从而在多雨气候条件下，水分中的一部分可以横向运移通过垄斜面流入排水沟，水分中的另一部分则垂直渗入土壤深层，促进排水，加快苗木根系呼吸；而且，绿化废弃物与有机肥混合后，可以为苗木提供生长发育所需的养分，且随着时间的推移，堆积的绿化废弃物在微生物的作用下，经过好氧发酵后腐熟，形成同样可以促进苗木生长的堆肥。
与现有技术相比，本发明可以促进多雨天气条件下垄上苗木的快速排水，避免苗木生长不良、烂根甚至涝害问题的产生，并能够实现涵养土壤的效果，为植物生长发育提供所需要的养分；且本发明的方法简单快捷，也可对绿化废弃物实现循环高效的无害化、资源化利用。
附图说明
图1为本发明实施例的种植立面图。
图2为本发明实施例的种植平面图。
图中，1-土垄，2-排水沟，3-种植穴，4-侧坑，5-枇杷苗；图中的尺寸标注单位为mm。
具体实施方式
下面将结合具体实施例对本发明中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
实施例
下面以枇杷苗种植为例详细说明本发明的技术方案。
枇杷苗的种植栽培过程为：
(1)整土起垄
栽培前，对待种植区利用独角犁、深松机进行深翻，通透下层，翻耕深度为40～50cm，并施入底肥，然后相间地取土层利用开垄机堆成土垄1，相邻土垄1之间形成排水沟2；如图1和图2所示，土垄1为梯形结构，其顶部的宽度为2m，底部的宽度为1.7m，排水沟2的深度为40cm，排水沟2的底部的宽度为50cm，排水沟2的上部宽度为80cm；
(2)确定种植点
以定点稀植为原则，根据垄宽和枇杷苗的生长范围定点定线，确定枇杷苗的种植点和种植间距；如图1和图2所示，在该实施例中，每个土垄上分别种植两排枇杷苗，该两排枇杷苗的种植间距设计为1m，每排中，相邻两棵枇杷苗的间距为1.2m；
(3)作畦挖穴
垄上作畦，在垄顶的畦面上的种植点处挖种植穴3，每个种植穴3的深度为60～80cm；挖穴过程中，表土和底土分开堆放；
(4)凿坑填肥
如图1和图2所示，在土垄1的两侧斜面上对应每个种植点分别开凿一个侧坑4，每个侧坑4沿垄长方向的宽度为30cm，深度为40cm，挖设后的侧坑4与种植穴3相通；然后，对侧坑4进行填充，其中，在侧坑4的下层25cm内填入绿化废弃物(植物自然生长发育脱落和修剪产生的草屑、枝条和树叶等)与有机肥的混合物，在侧坑4的上层15cm内铺设疏松表土，并将其压实；
(5)回填种植穴
将枇杷苗5置入种植穴3中，然后对种植穴3进行回填；回填时，种植穴的下层填入沙砾石子等排水物料，以形成具有大空隙的排水层，以加快根系排水；种植穴的中层回填土质均匀的土壤，种植穴的上层回填土质精细的土壤，一般采用表层土；回填后浇透水分。
上述方法中，凿坑填肥的过程在苗木种植栽培前后均可实施。假如，在起垄时未进行凿坑填肥而逢长期连续降水，可直接按照设计的位置、宽度和深度进行凿坑填肥的操作，以加快苗木根系呼吸和排水，同时涵养土壤，促进植物生长发育。
以上所述仅为本发明的实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书内容所作的修改或等效变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。
